专利名称：锍盐引发剂的制作方法
锍盐引发剂
本发明与新颖的锍盐光敏引发剂以及其在光可固化组合物(特别是抗蚀剂组合 物)中的用途有关。
锍盐在本领域中已知可以被用来作为光敏引发剂。在GB 206U80中，公开了 包含有苯硫基部分的三芳基锍盐。由US 4451409、US 4694029和WO 07/118794中已 知此类型的其它化合物(特别是具有苯氧基的)，例如三(4-苯氧基苯基)锍六氟磷酸 盐。WO 03/072567与WO 03/008404公开了锍盐，其中锍盐离子位于稠环系统中，例 如在噻吨基(thioxanthyl)部分中。在JP 08-311018-A中，公开一种用于锍盐的制备方法 以及三(4-丁氧基苯基)锍和三[4-( 二甲基胺基)苯基]锍阳离子。US 2003/0235782 和US2005/0100819提供应用于在光抗蚀剂中的锍盐。WO 07/003507公开具有苯 基-COOR-基团部分的锍盐，而WO 08/040648公开具有特定取代基的锍盐。
权利要求
1.式I的化合物
2.根据权利要求1的式I的化合物，其中
3.根据权利要求2的式I的化合物，其中R是苯基或以一个或多个C1-C2tl烷基、羟基或OR12取代的苯基；
4.R1是C1-C2tl烷基或以CN或苯基取代的C2-C18烯基； R12是以C2-C12烯基取代的苯烷基，或 (CO) NR8- (CH2) y-0 (CO) -C (R9) = CR10R11 ； R8 > R10 和 R11 是氢； R9是甲基； X是O或S ；Y是卤素或选自于CfF2f+1S03_、PF6_、SbF6_或C1-C2tl-全氟烷基磺酰基甲基化物的非 亲核性阴离子；并且 f是1至4的整数。 4.制备式I的化合物的方法，其中R是苯基、萘基、蒽基、菲基、芘基、苊基或联苯基，其都任选如上所述的加以取Z是L或以L取代的C3-C2tl杂芳基；或者R是
5.制备式I的化合物的方法，其中 化学式I的化合物如下制备，其中R是C1-C2tl烷基、C1-C12羟基烷基、C1-Cltl卤代烷基、C3-C12环烷基、C2-C12 烯基、C4-C8环烯基、苯基-C1-C6烷基、苯甲酰-C1-C4烷基、萘甲酰基-C1-C4烷基、蒽 甲酰基-C1-C4烷基、菲甲酰基-C1-C4烷基，其都任选如上所述的加以取代 (1)将化学式II的化合物
6.一种对辐射敏感的组合物，其包含(al)可阳离子或可酸催化聚合或交联的化合物，或(a2)在显像剂中的溶解度在酸作用下增加的化合物；和/或(ax)可自由基聚合或交联的化合物；以及(b)至少一种根据权利要求1的式I的化合物。
7.根据权利要求6的对辐射敏感的组合物，其除了成分(al)或(a2)和/或(ax)和 (b)之外，还另外包含添加剂(c)和/或敏化剂化合物(d)以及任选地另外包含光敏引发 剂(e)。
8.根据权利要求1的式I的化合物作为光潜酸给体在可阳离子或可酸催化聚合或交联 的化合物的聚合或交联中的用途，或用于增加在显像剂中的溶解度在酸作用下增加的化 合物的溶解度的用途。
9.根据权利要求1的式I的化合物作为对辐射敏感的酸给体在如下产品的制备中的用 途着色和未着色的表面涂料、胶粘剂、层合胶粘剂、结构胶粘剂，压敏胶粘剂、印刷 墨、印刷板、凸版印刷板、平版印刷板、凹版印刷板、无加工印刷板、丝网印刷模板、 齿科组合物、滤色器、间隔装置、电致发光显示器和液晶显示器(LCD)、波导、光学开 关、彩色打样系统、抗蚀剂、电子件的光致抗蚀剂、抗电镀剂、湿式与干式膜的抗蚀刻 剂、阻焊剂、紫外线与可见激光直接图像描绘系统的光致抗蚀剂材料、用于在印刷电路 板的顺序形成的层内形成介电层的光致抗蚀剂材料、滤色器、化学放大的抗蚀剂材料、 图像记录材料、用于记录全息图像、光学信息储存或全息数据储存的图像记录材料、脱 色材料、用于图像记录材料的脱色材料、使用微胶囊的图像记录材料、磁记录材料、微 机械部件、镀敷掩模、蚀刻掩模、玻璃纤维缆线涂料、微电子电路。
10.一种经涂覆的基材，在其至少一个表面上涂有根据权利要求6的组合物。
11.一种可阳离子或可酸催化聚合或交联的化合物在电磁辐射或电子束的作用下光聚 合或交联的方法，在该方法中根据权利要求1的式I的化合物用作光潜酸给体。
12.根据权利要求11的方法，用于制造以下产品着色和未着色的表面涂料、胶粘 剂、层合胶粘剂、结构胶粘剂，压敏胶粘剂、印刷墨、印刷板、凸版印刷板、平版印刷 板、凹版印刷板、无加工印刷板、丝网印刷模板、齿科组合物、滤色器、间隔装置、电 致发光显示器和液晶显示器(LCD)、波导、光学开关、彩色打样系统、抗蚀剂、电子件 的光致抗蚀剂、抗电镀剂、湿式与干式膜的抗蚀刻剂、阻焊剂、紫外线与可见激光直接 图像描绘系统的光致抗蚀剂材料、用于在印刷电路板的顺序形成的层内形成介电层的光 致抗蚀剂材料、滤色器、化学放大的抗蚀剂材料、图像记录材料、用于记录全息图像、 光学信息储存或全息数据储存的图像记录材料、脱色材料、用于图像记录材料的脱色材 料、使用微胶囊的图像记录材料、磁记录材料、微机械部件、镀敷掩模、蚀刻掩模、玻 璃纤维缆线涂料、微电子电路。
13.制备光致抗蚀剂的方法，其通过以下步骤进行(1)将根据权利要求6的辐射敏感的组合物施加于基材上；(2)将该组合物在60°C和160°C之间的温度下进行后施加后的烘烤；(3)以波长在IOnm和1500nm之间的光进行图像式照射；(4)任选地，在60°C和160°C之间的温度下对该组合物进行曝光后的烘烤；并且(5)以溶剂或水性碱性显像剂进行显像。
14. 一种滤色器，其通过提供红色、绿色和蓝色象点以及黑色基底制备，它们全都包 含在透明基材上的光敏树脂和颜料和/或染料，并在基材的表面上或在滤色器层的表面 上提供透明电极，其中所述光敏树脂包含用作光敏酸给体的根据权利要求1的式I的化合 物。
全文摘要
化学式I的化合物，其适合用来作为光致潜酸发生剂。其中X为单键、CRaRb、O、S、NRc或NCORc；Z为式(II)或C3-C20杂芳基；L、L1、L2、L3、L4、L5、L6、L7和L8例如彼此独立地为氢或有机取代基；Ra、Rb和Rc彼此独立地为氢或有机取代基；R例如为C5-C20杂芳基或C6-C14芳基；并且Y为无机或有机阴离子。Z是
文档编号C07C323/65GK102026967SQ200880119876
公开日2011年4月20日 申请日期2008年9月29日 优先权日2007年10月10日
发明者P·哈约兹, 大和仁志, 朝仓敏景 申请人:巴斯夫欧洲公司