专利名称：新的化合物及其制造方法、含有该新的化合物的射线敏感性组合物以及固化膜的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种可用作光聚合引发剂的新的化合物及其制造方法、含有该新的化合物的射线敏感性组合物以及固化膜。
背景技术：
由射线敏感性组合物所形成的固化膜，被广泛应用于液晶装置、半导体器件、光固化性油墨、感光性印刷版等。该射线敏感性组合物，例如含有具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物、光聚合引发剂等。上述固化膜可以通过将该射线敏感性组合物涂布在玻璃基板等上，形成涂膜，接着使用具有水银灯的曝光装置进行曝光而形成。上述水银灯，在紫外线 可见光波长区域中具有水银特有的辉线光谱，在254nm、 365nm、405nm等中具有高强度的辉线。例如，日本特开2001-233842号公报公开了有效利用 365nm和405nm辉线的高射线敏感度的光聚合引发剂的技术。该高射线敏感度的光聚合引发剂大多为在可见光区域具有最大吸收的化合物，因此大多数情况下，光聚合引发剂本身带有微红色。由以往的这种带有微红色的光聚合引发剂所形成的固化膜与光聚合引发剂同样呈现出微红色，并且透明性下降，因此在用于液晶器件等在可见光区域中必须具有高透光性的固化膜中，有时无法适用。另一方面，例如日本特开昭58-157805号公报所公开的苯乙酮类引发剂，在300nm 附近具有最大吸收，并且该光聚合引发剂本身大致呈现出白色，因此由该苯乙酮类引发剂所形成的固化膜在可见光区域中显示出高透明性。然而，该苯乙酮类引发剂的射线敏感度低，为了形成具有充分表面硬度的固化膜，需要高曝光量。此外，该苯乙酮类引发剂的升华性高(例如，参见日本特开2007-86565号公报)，其存在有因升华而导致烘焙炉污染以及在曝光时污染光掩模的缺陷。鉴于这种情况，希望开发一种升华性低且在用作光聚合引发剂时显示出高射线敏感度的化合物、含有该化合物的射线敏感性组合物以及具有高透明性和表面硬度的固化膜。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2001-233842号公报专利文献2 日本特开昭58-157805号公报专利文献3 日本特开2007-86565号公报专利文献4 美国公开2003-225179号公报
发明内容
本发明基于上述情况而完成的，其主要目的是提供一种升华性低且在用作光聚合引发剂时具有高射线敏感度的化合物及其制造方法。并且，本发明的另一目的是提供一种在使用该化合物作为光聚合引发剂时，可以形成具有高透明性和表面硬度的固化膜的射线敏感性组合物。用于解决上述问题的的发明是一种化合物，其具有相同或不同的下述式(1’ )所
表示的多个基团，
权利要求
1.一种化合物，其具有相同或不同的下述式(1’)所表示的多个基团，
2.如权利要求1中所述的化合物，其由下述式(1)所表示，
3.一种射线敏感性组合物，其含有[A]作为光聚合引发剂的权利要求1或2中所述的化合物，以及[B]具有乙烯性不饱和双键的聚合性化合物。
4.如权利要求3中所述的射线敏感性组合物，其进一步含有[C]碱可溶性树脂。
5.一种固化膜，由权利要求3或4中所述的射线敏感性组合物所形成。
6.如权利要求2中所述的化合物的制造方法，其包括在碱存在下，使下述式(3)所表示的前体化合物和从下述群组中选出的至少一种进行反应的工序，该群组由光气、三光气以及下述式(4)所表示的有机酸二酰氯所构成，
全文摘要
一种化合物，其具有相同或不同的下述式(1’)所表示的多个基团。，式(1’)中，R1和R2各自独立地为碳原子数为1～6的烷基，n为1～6的整数。
文档编号C07D295/10GK102482240SQ20108003806
公开日2012年5月30日 申请日期2010年7月2日 优先权日2009年8月26日
发明者一户大吾, 岩泽晴生 申请人:Jsr株式会社