技术总结
本发明公开了一种Pd离子印迹硅胶吸附剂的制备方法及其应用。其制备方法包括以下步骤：1）将Pd(II)盐和经酸活化后的硅胶在醇溶剂中分散；2）将含氯硅烷与KI反应后，再加入2‑氨基噻唑在碱作用下反应；3）把步骤1）与步骤2）所得的产物混合反应；4）将步骤3）的产物过滤、洗涤，洗涤产物经提取后再洗涤至中性，干燥后制成。同时也公开了这种吸附剂在吸附Pd离子中的应用。本发明利用离子印迹技术，以硅胶为基质，3‑氯丙基三乙氧基硅烷为交联剂，2‑氨基噻唑为功能单体，通过聚合反应制备Pd离子印迹聚合物，并应用于吸附Pd方面的研究，具有机械稳定性高、吸附选择性好、粒径分布均匀、利于模板离子的识别与洗脱且可减少“包埋”现象等优点。
技术研发人员：李耀威;杨明珠;邵华森
受保护的技术使用者：华南师范大学
文档号码：201611128464
技术研发日：2016.12.09
技术公布日：2017.05.24