本实用新型涉及荧光粉制造设备技术领域，具体涉及一种荧光粉自动研磨装置。
背景技术：
现有荧光粉处理装置大多采用磨球与荧光粉的研磨作用来实现荧光粉粒度要求，但对于个别荧光粉品种，球磨作用在满足粒度要求同时会导致荧光粉亮度明显降低，对荧光粉品质造成不可逆转影响，工业化生产存在潜在风险。因此需要一种能够提供新的研磨方式的装置，为客户提供不同颗粒形貌的产品。
技术实现要素：
为解决上述问题，本实用新型提供了一种荧光粉自动研磨装置，该装置能提供一种新的研磨方式，通过上下研磨石的间距调整可以控制研磨粉体的粒径，液位计和控制盘的使用，可以使本装置达到自动加、停料，自动研磨的功能。
为实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：
一种荧光粉自动研磨装置，包括入料管、上储存箱、研磨系统、下储存箱和出料口，所述入料管与上储存箱连接，所述上储存箱与研磨系统连接，所述研磨系统下方设有下储存箱，所述下储存箱与出料口连接，所述上储存箱用于储存荧光粉原浆，所述研磨系统将荧光粉原浆进行研磨，所述下储存箱将研磨好的荧光粉浆储存。
进一步地，所述上储存箱包括高位液位计、低位液位计和研磨启动液位计，所述高位液位计设置于上储存箱上部，低位液位计设置于上储存箱中部，研磨启动液位计设置于上储存箱底部，所述低位液位计用于传递信号给研磨启动液位计，开启入料管将荧光粉原浆注入；所述高位液位计用于传递信号给研磨启动液位计，关闭入料管停止注入荧光粉原浆，所述研磨启动液位计用于接收低位液位计和高位液位计信号，控制入料管的开启与关闭。
进一步地，所述研磨系统包括上研磨石、下研磨石、研磨电机和间距调节电机，所述上研磨石与上储存箱连接，与下研磨石之间有一定间距，所述下研磨石与研磨电机连接，所述间距调节电机与下研磨石连接，所述研磨电机控制下研磨石的转速，所述间距调节电机用于调节下研磨石与上研磨石之间的距离。
进一步地，所述上研磨石与下研磨石为材质氧化铝陶瓷制成的研磨石。
进一步地，所述研磨电机可调节下研磨石转速最高为1000rmp。
进一步地，所述间距调节电机调节的下研磨石间距为50um～1000um。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：通过上下磨石的间距调整可以控制研磨粉体的粒径。液位计和控制盘的使用，可以使本装置达到自动加、停料，自动研磨的功能。
附图说明
图1为本实用新型实施例提供的一种荧光粉自动研磨装置的结构示意图。
在图1中包括：1、入料管 2、上储存箱 3、高位液位计
4、低位液位计 5、研磨启动液位计
6、下储存箱 7、上研磨石
8、下研磨石 9、研磨电机
10、间距调节电机 11、出料口
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型所述的一种荧光粉自动研磨装置作进一步说明。
图1展示了一种荧光粉自动研磨装置，包括入料管1、上储存箱2、研磨系统、下储存箱6和出料口11，所述入料管1与上储存箱2连接，所述上储存箱2与研磨系统转动连接，所述研磨系统下方设有下储存箱6，所述下储存箱6与出料口11连接，所述上储存箱2用于储存荧光粉原浆，所述研磨系统将荧光粉原浆进行研磨，所述下储存箱6用于将研磨好的荧光粉浆储存。
所述研磨系统包括上研磨石7、下研磨石8、研磨电机9和间距调节电机10，所述上研磨石7与上储存箱2连接，与下研磨石8之间有一定间距，所述下研磨石8与研磨电机9连接，所述间距调节电机10与下研磨石8连接，根据研磨情况，微调下研磨石8与上研磨石7间距和下研磨石8转速，以达到研磨要求，研磨好的荧光粉浆储存在下储存箱6中，通过出料口11排出。
本实施例中，先将机器启动，通过间距调节电机10调节下研磨石8与上研磨石7之间的间距(从50um～1000um)，通过研磨电机9设定下研磨石8的转速(转速最高可达1000rmp)，所述低位液位计4开始提供信号给研磨启动液位计5，所述研磨启动液位计5接收信号，开启入料管1将荧光粉原浆注入上储存箱2，当上储存箱2内荧光粉原浆高度达到高位液位计3，所述高位液位计3将信号传递给研磨启动液位计5，研磨启动液位计5接收信号，关闭入料管1，停止注入荧光粉原浆，当研磨启动液位计5感应到荧光粉原浆时同时将信号传递给研磨系统，开始研磨。
综上所述，本实用新型通过上下磨石的间距调整可以控制研磨粉体的粒径。液位计和控制盘的使用，可以使本装置达到自动加、停料，自动研磨的功能。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。