一种ZnO三维同质pn结纳米阵列及其制备方法

文档序号:5265975阅读:369来源:国知局
专利名称:一种ZnO三维同质pn结纳米阵列及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种ZnO三维同质pn结纳米阵列及其制备方法,特别涉及通过垂直的一维ZnO纳米棒阵列采用扩散法形成P型ZnO纳米阵列作为三维结构的主干,然后用水热法在主干上形成树枝状径向分布的η型ZnO纳米结构的同质结器件,属于半导体器件技术领域。
背景技术
ZnO作为一种典型的宽禁带半导体材料,室温下具有高达60 meV的激子束缚能, 在室温下易实现高效率的发光,因此近年来成为发光二极管和紫外激光器等的热门材料, 具有很好的应用潜力。同时ZnO纳米材料作为最优异的半导体纳米材料之一,在光学、电输运、压电、光电、场发射、光催化、稀磁等性能上具有显著特点,因此在纳米电子器件上的应用也成为全世界的研究重点。要解决ZnO在光电方面的应用,首先需要制备各种类型的同质或者异质结。相比异质结,ZnO同质结具有晶格失配小、器件效率更高等优点。目前报道的ZnO纳米结构丰富多彩,主要集中在一维垂直阵列的研究方面,而三维ZnO纳米材料由于其具有更大的比表面积,近年来得到越来越多的关注。关于ZnO三维同质pn结纳米阵列目前还未有报道,因此本发明具有很高的研究价值和科学意义。

发明内容
本发明的目的是克服现有技术的不足,提供一种ZnO三维同质pn结纳米阵列及其制备方法。本发明的ZnO三维同质pn结纳米阵列,其主干为垂直于衬底的一维P型ZnO纳米线,分支为径向分布的η型ZnO纳米棒。ZnO三维同质pn结纳米阵列的制备方法,包括以下步骤
I)将纯ZnO粉末和纯石墨粉按质量比2:1放入石英U型管中,将长有ZnO籽晶层的衬底放入U型管口一侧,生长室真空度至少抽至10 Pa,衬底加热升温到90(T95(rC,生长室通入纯氮气和纯氧气,氮气流量为90 99 sccm,氧气流量为I 10 sccm,控制压强为1000 1300 Pa,生长一维直立的ZnO纳米线阵列。2)将上述长有一维直立的ZnO纳米线阵列的衬底放入石英舟内,覆盖在P型扩散源上,将石英舟放入生长室,升温至60(T80(TC,真空抽至10 pa,通入纯氧气,流量为100 sccm,控制压强为200(Γ5000 Pa,保温2 3小时,形成垂直于衬底的一维P型ZnO纳米线阵列。3)将浓度为O. 5"! mg/ml的ZnO纳米晶氯仿溶液滴在上述一维p型ZnO纳米线阵列上,升温至20(T300°C保持1(Γ50分钟,然后将衬底面朝下放置在浓度均为O. 0Γ0. 025 mol/L的六亚甲基四氨和二水硝酸锌混合溶液的聚四氟乙烯内胆内,加热到8(T10(TC保温 5^20小时,得到主干为一维P型ZnO纳米线,分支为径向分布的η型ZnO纳米棒的ZnO三维同质pn结纳米阵列。上述的衬底可以是单晶硅片,蓝宝石或者石英。所述的P型扩散源可以是GaAs或 PA。本发明中ZnO,石墨,氮气,氧气的纯度均大于99. 99%。本发明的有益效果在于
1.设备简单,原料便宜,无需用到高真空的昂贵设备;
2.通过调整步骤I)的气相生长温度和步骤3)液相法的溶液浓度可以改变ZnO三维同质pn结垂直纳米阵列主干和分支的尺寸和密度;
3.该种ZnO三维同质pn结纳米阵列可广泛应用于纳米光电、光催化和能量转换器件等领域。


图I是本发明的三维ZnO同质pn结纳米阵列的扫描电镜俯视图。图2是本发明的三维ZnO同质pn结纳米阵列的扫描电镜断面图。图3是本发明的主干较为稀疏、分支较短的三维ZnO同质pn结纳米阵列的扫描电镜俯视图。
具体实施例方式以下结合图例,通过实例对本发明制备ZnO三维同质pn结垂直纳米阵列作进一步的说明。实施例I :以单晶娃片为衬底制备ZnO三维同质pn结纳米阵列,具体步骤如下
I)将纯度为99. 999%Zn0粉末和纯度为99. 999%石墨粉按质量比2:1放入石英U型管
中,将长有ZnO籽晶层的衬底放入U型管口一侧,生长室真空度至少抽至10 Pa,衬底加热升温到950°C,生长室通入纯氮气(纯度>99. 99% )和纯氧气(纯度>99. 99% ),氮气流量为99 sccm,氧气流量为I sccm,控制压强为1300 Pa,生长时间为30 min,形成一维直立的 ZnO纳米线阵列。2 )将上述长有一维直立的ZnO纳米线阵列的衬底放入石英舟内,覆盖在GaAs扩散源上,将石英舟放入生长室,升温至600°C,真空抽至10 pa,通入纯氧气,流量为100 sccm, 控制压强为5000 Pa,保温2小时,形成垂直于衬底的一维P型ZnO纳米线阵列。3)将浓度为I mg/ml的ZnO纳米晶氯仿溶液滴在上述一维p型ZnO纳米线阵列上,升温至250°C保持30分钟,然后将衬底面朝下放置在浓度均为O. 025 mol/L的六亚甲基四氨和二水硝酸锌混合溶液的聚四氟乙烯内胆内,加热到95°C保温12小时,得到主干为一维P型ZnO纳米线,分支为径向分布的η型ZnO纳米棒的ZnO三维同质pn结纳米阵列,如图I和图2所示。实施例2 :以石英为衬底制备ZnO三维同质pn结纳米阵列,具体步骤如下
I)将纯度为99. 999%的ZnO粉末和纯度为99. 999%的石墨粉按质量比2:1放入石英U 型管中,将长有ZnO籽晶层的衬底放入U型管口一侧,生长室真空度至少抽至10 Pa,衬底加热升温到900°C,生长室通入纯氮气和纯氧气,氮气流量为99 sccm,氧气流量为I sccm,控制压强为1200 Pa,生长时间为30 min,形成一维直立的ZnO纳米线阵列。
2)将上述长有一维直立的ZnO纳米线阵列的衬底放入石英舟内,覆盖在GaAs扩散源上,将石英舟放入生长室,升温至600°C,真空抽至10 pa,通入纯氧气,流量为100 sccm, 控制压强为3000 Pa,保温2小时,形成垂直于衬底的一维P型ZnO纳米线阵列。3)将浓度为I mg/ml的ZnO纳米晶氯仿溶液滴在上述一维p型ZnO纳米线阵列上,升温至250°C保持30分钟,然后将衬底面朝下放置在浓度均为O. 01 mol/L的六亚甲基四氨和二水硝酸锌混合溶液的聚四氟乙烯内胆内,加热到90°C保温20小时,得到主干较为稀疏,分支较短的ZnO三维同质pn结纳米阵列,如图3所示。实施例3 以蓝宝石为衬底制备ZnO三维同质pn结纳米阵列,具体步骤如下
I)将纯度为99. 999%的ZnO粉末和纯度为99. 999%的石墨粉按质量比2:1放入石英U 型管中,将长有ZnO籽晶层的衬底放入U型管口一侧,生长室真空度至少抽至10 Pa,衬底加热升温到950°C,生长室通入纯氮气和纯氧气,氮气流量为90 sccm,氧气流量为10 sccm,控制压强为1000 Pa,生长时间为30 min,形成一维直立的ZnO纳米线阵列。2)将上述长有一维直立的ZnO纳米线阵列的衬底放入石英舟内,覆盖在P2O5扩散源上,将石英舟放入生长室,升温至800°C,真空抽至10 pa,通入纯氧气,流量为100 sccm, 控制压强为2000 Pa,保温3小时,形成垂直于衬底的一维P型ZnO纳米线阵列。3)将浓度为I mg/ml的ZnO纳米晶氯仿溶液滴在上述一维p型ZnO纳米线阵列上,升温至200°C保持50分钟,然后将衬底面朝下放置在浓度均为O. 025 mol/L的六亚甲基四氨和二水硝酸锌混合溶液的聚四氟乙烯内胆内,加热到95°C保温12小时,得到主干为一维P型ZnO纳米线,分支为径向分布的η型ZnO纳米棒的ZnO三维同质pn结纳米阵列。
权利要求
1.一种ZnO三维同质pn结纳米阵列,其特征是该阵列的主干为垂直于衬底的一维P型 ZnO纳米线,分支为径向分布的η型ZnO纳米棒。
2.制备权利要求I所述的ZnO三维同质pn结纳米阵列的方法,其特征在于包括以下步骤1)将纯ZnO粉末和纯石墨粉按质量比2:1放入石英U型管中,将长有ZnO籽晶层的衬底放入U型管口一侧,生长室真空度至少抽至10 Pa,衬底加热升温到90(T95(rC,生长室通入纯氮气和纯氧气,氮气流量为90 99 sccm,氧气流量为I 10 sccm,控制压强为1000 1300 Pa,生长一维直立的ZnO纳米线阵列;2)将上述长有一维直立的ZnO纳米线阵列的衬底放入石英舟内,覆盖在P型扩散源上, 将石英舟放入生长室,升温至60(T800°C,真空抽至10 pa,通入纯氧气,流量为100 sccm,控制压强为200(Γ5000 Pa,保温2 3小时,形成垂直于衬底的一维P型ZnO纳米线阵列;3)将浓度为O.5"! mg/ml的ZnO纳米晶氯仿溶液滴在上述一维p型ZnO纳米线阵列上, 升温至20(T3(KrC保持1(Γ50分钟,然后将衬底面朝下放置在浓度均为O. 0Γ0. 025 mol/ L的六亚甲基四氨和二水硝酸锌混合溶液的聚四氟乙烯内胆内,加热到8(Γ100 保温5 20 小时,得到主干为一维P型ZnO纳米线,分支为径向分布的η型ZnO纳米棒的ZnO三维同质 pn结纳米阵列。
3.按权利要求2所述的ZnO三维同质pn结纳米阵列的制备方法,其特征在于所述的衬底是单晶硅片,蓝宝石或者石英。
4.按权利要求2所述的ZnO三维同质pn结纳米阵列的制备方法,其特征在于所述的p 型扩散源是GaAs或P2O5。
全文摘要
本发明涉及ZnO三维同质pn结纳米阵列及其制备方法,该阵列的主干为垂直于衬底的一维p型ZnO纳米线,分支为径向分布的n型ZnO纳米棒。制备方法包括利用气相法在衬底上制备一维直立的ZnO纳米线阵列,通过扩散法把上述阵列转变为一维p型ZnO纳米线阵列,最后通过水热法在p型ZnO纳米阵列上生长径向分布的n型ZnO纳米棒。本发明方法简单易行,重复性高,可通过控制气相反应生长温度和液相溶液浓度来分别调节三维ZnO纳米同质pn结阵列主干和分支的长度和密度,可广泛应用于纳米光电、光催化和能量转换器件等领域。
文档编号B82Y40/00GK102583227SQ201210064478
公开日2012年7月18日 申请日期2012年3月13日 优先权日2012年3月13日
发明者叶志镇, 吕建国, 张宏海, 杨晓朋, 胡亮, 黄 俊 申请人:浙江大学
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