专利名称：电解液除金属杂质装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及除金属杂质装置领域，具体涉及一种电解液除金属杂质装置。
背景技术：
生产电子铜箔电解液主要成份为铜离子和硫酸，但随着铜料、硫酸的加入，其金属 杂质也逐渐累积增加，如锌、铁、铅等金属杂质。这些杂质累积量达到一定程度时，就会影响 铜箔的晶粒结构，从而影响电子铜箔的物理性能，导致工作性能降低，所以必须定期清除电 解液中的杂质，传统去除电解液中的金属杂质的工序较为繁琐，劳动强度大，而且效率低， 同时去除金属杂质的效果也不是很理想。为此，研发一种结构简单、使用方便、效率高且去 除金属杂质效果显著的电解液除金属杂质装置为当世之所需。
实用新型内容本实用新型的目的在于，针对现有去除电解液中金属杂质的技术所存在的不足， 提供一种设计合理、结构简单、使用方便、效率高且去除金属杂质效果显著的电解液除金属 杂质装置。为实现上述目的，本实用新型所提供的技术方案是一种电解液除金属杂质装置，其包括一电解槽，于所述电解槽一侧设有一反渗透 纯水制液系统，该反渗透纯水制液系统与所述电解槽相连通。所述的电解槽包括一箱体及对应设置在该箱体内的镀铜阴极和钛阳极。所述的反渗透纯水制液系统包括一沉淀箱、一反渗透纯水制液装置及一储存槽， 所述沉淀箱通过一液管依次与反渗透纯水制液装置、储存槽连接，所述液管上设有驱液装 置。所述的驱液装置为高压泵。本实用新型的有益效果为本实用新型设计巧妙、结构合理，设有电解槽和反渗透 纯水制液系统处理，实现双重滤除，可有效将电解液中的金属杂质去除，使用方便、简单，节 省了人力，减轻了工人的劳动强度，且效率高、制造成本低，利于推广。
以下结合附图与实施例，对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
参见图1，本实施例提供的一种电解液除金属杂质装置，其包括一电解槽1，于所 述电解槽1 一侧设有一反渗透纯水制液系统2，该反渗透纯水制液系统2与所述电解槽1相 连通。所述的电解槽1包括一箱体11及对应设置在该箱体11内的镀铜阴极12和钛阳极 13。所述的反渗透纯水制液系统2包括一沉淀箱21、一反渗透纯水制液装置22及一储存槽23，所述沉淀箱21通过一液管依次与反渗透纯水制液装置22、储存槽23连接，所述液管上 设有驱液装置，该驱液装置为高压泵。其它实施例中，可根据需要来设置该泵的类型。使用时，往电解槽1注入一定量的电解液废水，采取电镀的方法把金属铜离子电 镀出来，在电镀过程中，还可以加根据所需添加入镀铜等添加剂来提高工作效果；当电解液 废水中的金属铜离子浓度减少到3g/L左右时，再将该电解液废水转移至沉淀箱21，实现电 解液废水的沉淀，在沉淀过程中为进而提升沉淀的效果，可加入铁丝或铜絮凝剂等，使其沉 淀效果更为显著，直至铜金属离子达到废水排放标准后且PH值于中性，这时，再通过高压 泵将该电解液废水打入反渗透纯水制液装置22进行处理，有效保证电解液的去除金属杂 质效果，经反渗透纯水制液装置22处理后，直接流入储存槽23进行储存待用，即完成了电 解液除金属杂质的过程；整个电解液除金属杂质的工序简单，操作方便且效率高、去除金属 杂质效果显著，利于推广。如本实用新型上述实施例所述，采用与其相同或相似结构而得到的其它除金属杂 质装置，均在本实用新型保护范围内。
权利要求1.一种电解液除金属杂质装置，其特征在于，其包括一电解槽，于所述电解槽一侧设有 一反渗透纯水制液系统，该反渗透纯水制液系统与所述电解槽相连通。
2.根据权利要求1所述的电解液除金属杂质装置，其特征在于，所述的电解槽包括一 箱体及对应设置在该箱体内的镀铜阴极和钛阳极。
3.根据权利要求1所述的电解液除金属杂质装置，其特征在于，所述的反渗透纯水制 液系统包括一沉淀箱、一反渗透纯水制液装置及一储存槽，所述沉淀箱通过一液管依次与 反渗透纯水制液装置、储存槽连接，所述液管上设有驱液装置。
4.根据权利要求3所述的电解液除金属杂质装置，其特征在于，所述的驱液装置为高 压泵。
专利摘要本实用新型公开了一种电解液除金属杂质装置，其包括一电解槽，于所述电解槽一侧设有一反渗透纯水制液系统，该反渗透纯水制液系统与所述电解槽相连通；本实用新型设计巧妙、结构合理，设有电解槽和反渗透纯水制液系统处理，实现双重滤除，可有效将电解液中的金属杂质去除，使用方便、简单，有效减轻了工人的劳动强度，且效率高、制造成本低，利于推广。
文档编号C25D21/18GK201817567SQ201020517708
公开日2011年5月4日 申请日期2010年9月6日 优先权日2010年9月6日
发明者陈韶明 申请人:东莞华威铜箔科技有限公司