专利名称：悬臂组件的制作方法
技术领域：
本发明涉及根据独立专利权利要求的 一种悬臂组件。
背景技术：
在原子力显微术(AFM)或扫描力显微术(SFM)中，要测量 局部分布的较小的力以便获得试样的图像。这是借助于横贯试样移 动的一个悬臂来进行的。该悬臂远离尖端的 一端附着于一个刚性支 座，和悬臂相比，该支座具有很大的质量。在悬臂横贯试样移动时， 作用于悬臂尖端的力导致悬臂的偏移。对该偏移进行检测和处理， 并与该尖端相对于试样的相应位置的信息一起即可获得该试样的 一个图像。
由于悬臂的热噪声，因此期望悬臂具有高共振频率和低刚度。 这样可以降低热噪声并增强灵敏度。为了获得高质量的图像，要求 悬臂具有高灵每文度。而就希望有高扫描速率的动态测量而论，悬臂 的高共振频率具有进一步的优势。由于悬臂的共振频率随悬臂刚度 的增加和质量的减少而增加，同时为了提高悬臂的灵#文度而期望共 振频率与刚度有 一个较大的比率，所以优选的是具有很小质量的悬 臂。这需要具有很小长度、宽度和厚度的小的悬臂。此外，相应悬臂的高质量因数可增加其灵每丈度。质量因数代表
一个给定激发的衰减质量因凄t越高，由一个主会定激发引起的振动 的持续时间越长(即，衰减越j氐)。
已经有人提出由氮化硅制成的较小的悬臂。然而，由氮化硅制 成的悬臂的质量因数内在地低下，因此它们的灵敏度有限。由纯硅 制成的悬臂提供增强的灵敏度，这是由于纯硅具有更高的质量因数。
如前所述，为了获得试样的高质量图像，在任何时候都必须准 确;也知道悬臂尖端的偏移以及尖端相^t于试才羊的准确^f立置。为此， 通常对悬臂尖端的位置进行光学跟踪。这通常借助于一个偏差传感 器来进行，该偏差传感器接收由悬臂尖端的背面反射的光。为了反 射更多的光，该背面通常涂布比纯石圭具有更高反射率的一层金属 膜，例如， 一层金膜。然而，在小悬臂的一个较大区域上、尤其是 直到支座片的区域涂布金膜，会导致质量因数的显著降低，并因此 导致显著降低的灵敏度。
可以通过一个掩模来涂覆金涂层，该掩模允许从源蒸发的金仅 通过掩模中精确限定的 一个开孔投射到悬臂的背面上。为高刚度和 实际应用所必需的支座片的宏^见尺寸佳j寻实际上不可能4巴金沉积 在具有精确限定的锐利边缘的一个区域内，因为该掩冲莫不可能在足 够紧靠悬臂尖端背面的附近定位。相反地，应用传统的遮蔽l支术会 产生具有显著延伸的边缘。并且，悬臂的尺寸越小，要对准单独的 掩模就变得越困难，而对于樣i米尺寸的非常小的悬臂，通过一个单 独的掩模沉积一层金膜是不可行的。
发明内容
在本发明的第一方面，提出一种用于扫描试样的悬臂组件，包 括具有一个悬臂尖端的悬臂，所述悬臂安装在一个刚性支座上，所述支座的附着所述悬臂的部分具有一个凹入形状，所述凹入形状在 朝向所述悬臂的方向变窄。
在本发明的第二方面，^提出一种用于扫描试样的悬臂组件，包 括具有一个悬臂尖端的悬臂，所述悬臂安装在一个刚性支座上，其
特征在于，所述悬臂包括一个台阶形部分，所述台阶形部分布置在 靠近所述悬臂的附着于所述支座的那端，所述台阶形部分在所述悬 臂的正面显著增加了所述悬臂的厚度。
具体而言，根据本发明的悬臂组件包括一个具有悬臂尖端的悬 臂。该悬臂安装在一个刚性支座上，并可以在其背离试样的背面上
i殳置有一个高反射率材并牛的区域。该区域具有向该支座倾杀+的一个 边缘。该区域和边缘向支座的延伸满足以下条件
c/Ac > 1,
其中
c表示高反射率材料的区域在支座方向上的延伸，以及
△c表示高反射率材料的区域(110 )的倾斜边缘(111 )在支座(12 ) 方向上的延伸。
换言之，在由高反射率材料(例如，金)覆盖的区域中的"半 阴影，，(坡面)具有向着支座的延伸，该延伸等于或小于区域本身 的延伸。更优选地，c/Ac的比率等于或大于2, /人而限定更陡的i皮 面。因此，即使当该悬臂较小时，这样一种悬臂组件的悬臂也可以 具有高质量因数。就高质量因数而论，在悬臂尖端背面上的区域不 应具有大的延伸，并且还应具有明晰的边缘，这是因为覆盖悬臂的 大部分背面可导致悬臂的质量因数的显著降低，并因此导致灵敏度 显著降低。
如前所述，这对小悬臂可能是特别有利的，但并不限于此。小 的悬臂可以是这样的悬臂其中，悬臂的长度在lpm至100|am的
7范围内，尤其是在3jam至20)Lim的范围内，并且其中，由高反射率 材料覆盖的区域的延伸c在0.5|am至10|um的范围内，尤其是在l|am 至6)am的范围内。
在才艮据本发明的悬臂组件的一个具体实施例中，支座i殳置有一 个锐利棱边，该锐利棱边位于离悬臂尖端的背面有 一 定距离的位 置。此距离被确定为在涂覆高反射率材料期间使悬臂尖端背面上的 区域和倾斜边缘得以形成。因此，该锐利棱边的位置被用来确定高 反射率材料区域在悬臂背面上的延伸以及倾斜边缘的延伸。因此， 一方面可以将该"掩模"(棱边)布置得紧靠着将要涂覆高反射率 材料(例如金)的区域。另一方面，不再需要单独的掩模，因为掩 模是由该支座的一部分形成的，从而消除了对准单独的掩模所遇到 的问题。利用干法蚀刻技术，可以在确定的位置上产生这样的具有 所需精度的锐利棱边。
在才艮据本发明的悬臂组件的一个有利的具体实施例中，该支座 进一步包括一个引导和校准结构，用于在聚焦于由高反射率材料覆 盖的区域时引导和校准一个光学跟踪系统。
当开始AFM时，首先，光学跟踪系统必须"找到，，该悬臂尖 端。并且，必须知道该光学系统的多大的移动量对应于多大距离。 为了易于做到这一点，前述具体实施例是有利的，因为若没有引导 和校准结构，就必须用其它方法以精细的步骤探测三维空间，以便 找到该悬臂尖端。然而，以这种方式寻找悬臂尖端需要花相当长的 时间。该引导和校准结构简化了寻找悬臂尖端，因为它提供关于在 哪里寻找该悬臂尖端的信息，以致为了找到该悬臂尖端的准确位 置，最终只需要以精细的步骤搜索小部分的三维空间。
在本发明的第 一 方面，该支座附着悬臂的那部分具有凹入形 状，尤其是部分八边形的形状，所述凹入形状或部分八边形在朝向 悬臂的方向变窄。 一方面，支座的具有此形状的部分是足够刚性的，而同时，由于其"变窄，，的形状，它允许试才羊可以分别相对于悬臂 或支座在一定范围内被倾斜布置，而不会引起支座和试样之间为了 扫描在接近试样期间发生碰撞。
在本发明的的第二方面，该悬臂包括一个台阶形部分，该部分 设置在悬臂附着于支座的那一端附近。在该台阶形部分，悬臂正面
(即，悬臂面向试样的那一面)上的悬臂厚度被显著地增加。该台 阶形部分能够非常精确地限定悬臂的长度，因为从台阶到悬臂尖端 的长度限定了该悬臂的长度。可以通过在悬臂的正面应用蚀刻技术
(例如，湿法蚀刻4支术或干法蚀刻技术)来制作该台阶。这对于用 所谓的"硅在氧化物上"的晶片制造悬臂组件(将在下文更为详细 地说明)是特别有利的。
在才艮据本发明的悬臂的又一具体实施例中，该支座包括至少两 个台阶，每个台阶都设置有棱边。该支座的第一台阶的棱边(形成 该"掩才莫"的棱边)位于和悬臂尖端的背面相距所述预定距离的位 置，而第二台阶的棱边的位置使得它并不妨碍涂覆该高反射率材料。
该两台阶的具体实施方式
是有利的，这在于该第一台阶尤其是 第 一 台阶的该棱边的定位相对靠近悬臂尖端的背面并相隔上述预 定距离。当高反射率材料(例如，金)通过从高反射率材料源的蒸 发而沉积在该悬臂的背面时，必须确保第二台阶的棱边不妨碍涂覆 高反射率材料。否则，该第二台阶的棱边将限定由高反射率材料覆 盖的区域的边缘，并且由于第二台阶的棱边距离悬臂尖端的背面太 远，因此不能制得上述;f隻盖区域的 一个精确限定的明晰边纟彖。
本发明的另 一个方面涉及制造前述的悬臂組件的方法。该方法 包括从一个高反射率材料源将该高反射率材料的区域和倾斜边缘 施加于悬臂尖端的背面。该方法进一步包括利用悬臂组件的支座的 一个锐利棱边以便限定所述区域和边缘向该支座的延伸。虽然并不限于小悬臂，但这种方法对于小悬臂是特别有利的，因为不再需要 必须精确布置的单独的掩模。相反，在小悬臂的情况下，该棱边起 到"掩模"的作用并且可以足够靠近该悬臂尖端而定位。
在根据本发明的方法的一个具体实施例中，支座的该棱边位于 离悬臂尖端的背面上该区域一定距离的地方。该高反射率材冲+源也 —皮置于离支座的所述边有一定距离的地方，并且有一个具有一定直 径的开孔，通过该开孔涂覆高反射率材料。支座的该棱边离悬臂尖 端的背面上所述区域的距离以及从高反射率材料源到支座的该棱
边的距离是利用下面的条件确定的 Ac〃 = d/L 其中
△c 表示该高反射率材料区域的边缘向支座的延伸
/表示支座的该棱边到该高反射率材料区域的距离，
d 表示高反射率材料源的开孔的直径，通过该开孔涂覆高反 射率材料，以及
L表示高反射率材料源和支座的该棱边之间的距离。
本发明还提供了用于制造上述悬臂组件的方法。
才艮据本发明的悬臂组件和方法的其它有利方面将通过下文借 助于附图对悬臂组件的 一个具体实施例的详细描述而变得显而易 见，在附图中
图1示出根据本发明的悬臂组件的一个具体实施例的纵剖图， 图2示出图1的悬臂组件的具体实施例的透视图，图3基本上示出图1的悬臂组件的具体实施例的纵剖图以及光 学跟踪系统的孔径角的示意图，以及
图4示出图1的悬臂组件的具体实施例的正透视图，其中试样 相对于悬臂是倾斜的。
具体实施例方式
如图l所示，才艮据本发明的悬臂组件1的一个具体实施例，包 括具有悬臂尖端11的一个悬臂10,用于扫描一试样(未示出)。悬 臂10附着于支座12,例如， 一种基片。所示出的具体实施例由所 谓的"石圭在氧化物上"的晶片制成，也就是i兌，它由包括三个层的 晶片制成 一个纯石圭层，4妄着是一个氧化石圭层，再4妻着又是一个纯 硅层。在图1中分别用Si和Si02来表示这些层。
在悬臂10的背面上并在悬臂尖端11的区域内(该区域在下文 称作"悬臂尖端的背面")设置有一个由高反射率材料(例如金) 构成的区域110。高反射率材料是一种其反射率比纯硅更高的材料。 该区i或110 ^U睛准地限制在三个侧边上，因为悬臂10终止在这三 个边上。在第四边上，即，在朝向支座12的方向，区i或110具有 朝向悬臂10的背面倾冻牛的一个边缘111。
区i或110具有朝向支座12方向的延伸c。如已经和克述的，边缚_ 111应该4交卩走，也就是i兌它朝向支座12的延伸Ac不应大于区域110 的延伸c。这可以借助于支座12的特定形状来实现，下文将更详细 地解释。
支座12具有台阶形结构，并且在图1所示的具体实施例中包 括两个台阶，分别是120和121。第一台阶120设置有锐利棱边120a, 其位于与悬臂尖端11的背面相隔距离/的位置。第二台阶121设置有另一4兌利棱边121a，其位置使得它并不妨碍涂覆该高反射率材料。
为了更好地理解即使对于很小的、在3pm至20pm范围内的悬 臂、以及对于在0.5|iim至6|am范围的区域110,如何能够制出比较 锐利的边缘lll,我们假设要从一个蒸发源S将该高反射率材料 (例如，金)涂覆在悬臂尖端11的背面，该蒸发源S相对于悬臂 10的背面或相对于悬臂尖端11的背面设置成一个预定角度a。角度 a的通常范围是最高到15°。并且，从蒸发源S的开孔到悬臂尖端 11的背面的距离l+L对于给定的蒸发源是限定的，通常该距离是在 大约IO厘米以内。
如图1所示，距离l表示/人棱边120a到悬臂尖端11的背面的 距离，而距离L表示从棱边120a到蒸发源S的开孔的距离。蒸发 源S的开孔具有4青确限定的直径d，通过该开孔来蒸发金。
根据图1所示安排的几何形状，可以导出以下方程
Ac / / = d / L
如先前所述，区域110的延伸c与边纟彖111的延伸Ac的比率必 须等于或大于l，更优选等于或大于2。根据条件
c / Ac2 1
可以得出，为了确定区域110距离棱边120a的距离1，适用以 下条件
"cL / d只是举例来说，如果区i或110的延伸c是4)Lim， 3巨离L是20cm (它是在大约IO厘米的范围内，参见上述)，以及蒸发源S的孔的 直径d是lcm(同样参见上述)，那么距离l结果为等于或小于80inm。
如图1所示，棱边120a用于限制在悬臂尖端11的背面上的区 i或110的倾冻牛边缘111向支座12方向的延伸Ac。关于区i或110的其 它三个边缘，覆盖悬臂尖端11的背面直到悬臂尖端11的背面的各 个边。
当使用所谓的"硅在氧化物上"的晶片时，在两个纯Si层之间 的Si02层为蚀刻过程形成一挡层。然而，为了完全暴露悬臂IO， 可以如图1所示，在上述蚀刻过程之后，将Si02层也除去。由于 Si02的机械性能与Si的机械性能明显不同，所以悬臂10不会最佳 地附着于支座12，因为具有不同机械性能(例如，热膨胀系数)的 两种材料在附着位置彼此紧靠。如果不采取另外的措施，这会导致 质量因数降低，并因此导致悬臂10的灵每丈度下降。
为了保持悬臂10的高质量因数，悬臂10设置有台阶形部分 100，该台阶形部分布置在靠近悬臂10附着于支座12的那一端。 台阶形部分100布置得离附着位置相隔一,殳小的距离。在台阶形部 分100，在悬^^10的正面(即在图1中悬^# 10面朝下的那一侧)， 悬臂10的厚度显著增加。通过提供台阶形部分100，可以很好地限 定悬臂10的长度，因为在增加其厚度以后，具有显著增加的厚度 的那部分已经起到支座的作用。因此，悬臂10的柔性部分具有精 确限定的长度，此外，在相同的材料(硅)中实现悬臂10的柔性 部分与巨大的"支座"的附着，从而避免了质量因数的降低。
现参照图2,悬臂组件1以透碎见图显示，因此对两个台阶120 和121的形状可以获得更详细的印象。特别对台阶120的形状将在 下面结合图4更详细地i兌明。图2进一步示出了一个引导和4交准结 构123的具体实施例，其包括(为了举例说明)两个槽123a和123b,所述两个槽对称i也延伸并平;f亍于悬臂10的连续纟从轴101。此外，引 导和4交准结构123包4舌具有^r确限定的长度和深度的一个凹入部分 123c或凹坑，其布置在悬臂10的连续^^轴101上。引导和4交准结 构123是用来帮助引导和校准光学跟踪系统(例如，在偏差传感器 的定位期间)，因为光学跟踪系统首先必须"找到，，悬臂尖端。槽123a和123b以及凹入部分123c和它们的边均一皮非常4青确 地制造在非常精确的位置上。因此，在第一步，光学跟踪系统聚焦 于台阶121的上表面，以使 使引导和冲交准开始运4亍。以下的i兌明换二 供了关于该光学系统的引导和校准是如何运行的多种可能性中的 一种。在聚焦于台阶121的上表面之后，光学^J宗系统的各个位移单 元(以图2中的三维箭头安排21示意性地表示)在垂直于连续纵 轴101的方向上移动光学跟踪系统(通过图2中的光束20示意性 地表示)直到光束20到达一个槽的边缘。例如，光学跟踪系统的 位移单元首先在箭头210方向上移动光学^艮踪系统直到它到达槽 123a的内边。槽123a的内边通过例如反射光的强度变4b净皮才企测到。 然后该^立移单元在箭头211的方向上移动光学5艮踪系统直到它到达 槽123b的内边。 一旦才企测到槽123b的内边，光学3艮踪系统即知道 连续纵轴101 —定位于两个已斥企测到的边的中间，因为槽123a和 123b相对于连续纵轴101对称排列。此外，因为光学跟踪系统已对 驱动位移单元的步进电机在槽123a和123b的内边之间移动该光学 跟踪系统所需步数进行了计数，并且因为已经精确知道槽123a和 123b的内边之间的3巨离，所以光学^艮踪系统准确i也知道在箭头210 或211的方向上步进电才几的一个步长所对应的距离。位移单元现在将光学^艮踪系统(即，光束20)移回到连续纵轴 101上，并随后在垂直于箭头210或211的方向(即在箭头212的 方向)上继续移动光学跟踪系统直到光束20到达凹入部分123c的内边。位移单元在连续纵轴101的方向上继续移动光学跟踪系统，越过四入部分123c，直到光束20 ^J达四入部分123c的夕卜边。再—— 次，光学^艮踪系统对将光束20 /人凹入部分123c的内边移动到凹入 部分123c的外边所需的步数进行计数。因为已经精确知道凹入部 分123c的内、外边之间的距离，所以光学3艮踪系统现在知道在箭 头212方向上步进电机的一个步长所对应的距离。现在，光学跟踪 系统在台阶120b的上表面的平面上^皮校准，并且可以在连续纵轴 101上#1引导。就深度而i仑，凹入部分123c也可以用于4交准光学跟踪系统， 因为，如上所述，凹入部分123c具有精确限定的深度。因此，位 移单元可以将光学i 艮踪系统移回到凹入部分123c之上，以致光束 20未聚焦。随后，4立移单元在箭头213的方向移动光学^艮踪系统直 到光束20在凹入部分123c的底表面上聚焦，这可以通过例如纟全测 反射光的最大强度来检测。再一次，光学跟踪系统对步进电机在两 个位置(即，光束20在台阶121的上表面聚焦的位置和光束20在 凹入部分123c的底表面聚焦的位置)间所需的步数进行计数。因 为凹入部分123c的深度是精确已知的，所以光学跟踪系统现在知 道在箭头213方向上步进电才几的一个步长所对应的距离。光学-艮踪系统现在向后移动以聚焦于台阶121的上表面，并且 现在可以沿纵轴移动，直到光束20经过台阶121的棱边121a。经 过4麦边121a以后，光学^艮i 宗系统向下移向台阶120，直到光束20 聚焦于台阶120的上表面。然后，光学3艮踪系统可以沿连续》从轴101 移动，直到光束20经过台阶120的棱边120a。经过台阶120的棱 边120a以后，光学跟踪系统朝向悬臂10的背面向下移动，直到它 聚焦于悬臂10的背面。然后继续移动光学跟踪系统直到光束20照 射到区域110上，这可以通过反射光增加的强度来确定。为了在校准以后显著加速将光学跟踪系统引导并聚焦至悬臂尖端11的背面，凹入部分123c的内和/或外边与台阶121的棱边 121a之间的3巨离、以及台阶121的上表面与台阶120的上表面之间 的3巨离均为已知。最后，台阶120的长度、以及台阶120的上表面 与悬臂10的背面之间的距离也均为已知。最后，悬臂10的长度是已知的，以致可以快速地引导光学^艮踪系统并 <吏其聚焦于三维空间 中的一个目标点，该点至少位于相对靠近区域IIO的位置。然后可 以用比较短的时间在区域110上进4亍最后准确的定位和聚焦，因为 光学跟踪系统必须〃f又在三维空间的一个非常小的部分进行"搜寻，，， 因为它可以被快速引导到三维空间中位于至少靠近区域110的附近 的一点。如上所述，图2所示的校准结构仅是用实例的方式加以描 述，因此也可以同样使用其它合适的校准结构。现转向图3，该图主要示出图1所示的悬臂组件的具体实施例 的纵切面，但还提供了具有高数值孔径的光学跟踪系统的孔径张角 |3。悬臂组件1的形状并不与光学跟踪系统的高数值孔径相对立。 这对于在悬臂尖端11的背面上的区域110上获得较小聚焦点(通常 〈5iLim)是有利的。可以使用的数值孔径越高，聚焦就越精确，并 且来自试样的图像质量就越高。大于30。的孔径P是特别有利的。图4是悬臂组件1以及试样3在一起的的正透视图，其中试样 相对于悬臂10和支座12稍微倾斜一角度y。根据图4，另一个在扫 描试样时通常遇到的问题变得显而易见。该问题与试样3相对于悬 臂10和支座12的倾斜放置有关，现将说明此问题。如图4所示， 悬臂组件1可以/人后面4矣近试样3。悬臂10附着于包4舌台阶120和 121的支座12。现在为了避免在接近试样3的过程中支座12和试 样3之间(或更确切地说是支座的台阶120和试样3之间)的碰撞， 支座12的台阶120 (就是悬臂所附着的那部分支座12)具有一个 凹入的形状，在示出的具体实施例中为一个部分八边形的形状。所 述部分y^边形的形状在朝向悬^" 10的方向变窄。台阶120凹入的部分〃\边形的形状是有利的，因为一方面它是 足够刚性的(因为台阶120具有足够的质量)，以便形成对悬臂IO 的刚性支持。另一方面，凹入的台阶120允许试冲羊3分别相对于支 座12或台阶120具有一定的倾杀+度，这才羊在4妄近试样3的过禾呈中， 试样3分别和支座12或台阶120之间的碰撞就不大可能发生。
权利要求
1. 用于扫描试样(3)的悬臂组件，包括具有悬臂尖端(11)的悬臂(10)，所述悬臂(10)安装在一个刚性支座(12、120、121)上，其特征在于，所述支座的附着所述悬臂(10)的部分(120)具有一个凹入形状，所述凹入形状在朝向所述悬臂(10)的方向变窄。
2. 根据权利要求1所述的悬臂组件，其中，所述悬臂(10)包括 一个台阶形部分(100)，所述台阶形部分布置在靠近所述悬臂(10)的附着于所述支座(12、 120)的那端，所述台阶形部分 (100)在所述悬臂(10)的正面显著增加所述悬臂(10)的厚 度。
3. 用于扫描试样(3 )的悬臂组件，包括具有悬臂尖端(11 )的悬 臂(IO)，所述悬臂(10)安装在一个刚性支座(12、 120、 121) 上，其特征在于，所述悬臂(10)包括一个台阶形部分(100), 所述台阶形部分布置在靠近所述悬臂(10)的附着于所述支座 的那端，所述台阶形部分(100)在所述悬臂(10)的正面显著 增加所述悬臂(10)的厚度。
4. 根据权利要求3所述的悬臂组件，其中，所述支座(12)的附 着所述悬^" ( 10)的部分(120)具有一个凹入形一犬，伊O选为部 分八边形的形状，所述凹入形状在朝向所述悬臂(10)的方向 变窄。
5. 根据权利要求l、 2或4所述的悬臂组件，其中，所述凹入形状 是部分八边形的形状。
6. 根据权利要求1至5任一项所述的悬臂组件，其中，所述悬臂 在其背离所述试样(3 )的背面上设置有一个高反射率材料的区 域(110),该区域具有一个向所述支座(12)倾斜的边乡彖(111 )。
7. 根据权利要求6所述的悬臂组件，其中，所述区域(110 )和所 述边缘(111 )向所述支座的延伸(c, Ac)满足条件c/Ac上l，其中，c表示所述高反射率材料的区域(110)在向所述支座(12) 方向上的延伸，Ac表示所述高反射率材料的区域(110)的倾 斜边缘(111 )在向所述支座(12)方向上的延伸。
8. 根据权利要求7所述的悬臂组件，其中，所迷悬臂(10)的长 度是在至100pm的范围内，尤其是在3|am至20|um的范 围内，并且其中所述高反射率材料的区域(110)向所述支座(12) 的延伸(c )是在0.5pm至lOjum的范围内，尤其是在ljum至 6|um的范围内。
9. 根据权利要求1至8任一项所述的方法，其中，所述支座(12 ) i殳置有一个4兌利棱边(120a )，所述4兌利棱边(120a)与所述悬 臂尖端(11)的背面相隔一定距离(/)，使得从所述高反射率 材料的区域(110)延伸至所述锐利棱边(120a)的直线与所述 区域(110)的法线方向形成至少约15°的角。
10. 根据权利要求1至9任一项所述的方法，其中，所述支座(12) 进一步包4舌一个引导和才交准结构(123、 123a、 123b, 123c), 用于引导和校准一个光学跟踪系统聚焦于所述高反射率材料的 区域(110)。
11. 根据前述权利要求1至IO任一项所述的悬臂组件，其中所述支 座(12)包4舌至少两个台阶，这些台阶(120、 121)i殳置有边缘(120a、 121a )，其中，第一台阶(120 )的边缘(120a )和 第二台阶(121 )的边缘(121a)所处的位置使得第二台阶(121 ) 的边缘(121a)并不阻挡从所述高反射率材料区域(110)靠近 其倾斜边缘(111 )处延伸至第一台阶(120 )的所述棱边(120a) 并且离开所述边乡彖(120a)的直线。
12.用于制造权利要求1至11任一项所述的、用于扫描试样的悬臂 组件的方法。
全文摘要
一种用于扫描试样(3)的悬臂组件，包括具有一个悬臂尖端(11)的悬臂(10)，所述悬臂(10)安装在一个刚性支座(12、120、121)上，其特征在于，所述支座(12)的附着所述悬臂(10)的部分(120)具有一个凹入形状，所述回缩形状在朝向所述悬臂(10)的方向变窄。
文档编号G01B7/34GK101286373SQ20081009445
公开日2008年10月15日 申请日期2004年11月4日 优先权日2003年11月4日
发明者巴尔特·霍根博姆, 杨晋玲, 汉斯·J·胡格, 萨沙·马丁 申请人:纳诺世界股份公司