磁瓦检测机构的制作方法

文档序号:11550588阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种磁瓦检测机构,设置于机架上用于对传输组件传送的磁瓦进行缺陷检测,其特征在于:所述磁瓦检测机构包括第一检测组件、第二检测组件以及控制器,所述第一检测组件包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源,所述第一检测支架支撑于所述机架上,且设置于所述传输组件的上方;所述第一检测相机活动设置于所述第一检测支架上并与所述第一检测光源配合,用于对所述磁瓦的外弧面、内弧面或边面中至少一者进行拍照取像;所述第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机、第二检测光源以及转向组件,所述第二检测支架支撑于所述机架上,且设置于所述传输组件的上方;所述转向组件设置于所述第二检测支架上,用于抓取所述传输组件上待检测所述磁瓦并进行转向操作,所述第二检测相机活动设置于所述第二检测支架上并与所述第二检测光源配合,用于对转向后的所述磁瓦的端面进行拍照取像;所述控制器用于根据所述第一检测组件和所述第二检测组件的检测结果对当前所述磁瓦进行缺陷分析。

2.如权利要求1所述的磁瓦检测机构,其特征在于:所述第一检测支架包括第一横梁、第二横梁、两根第一立梁、第一相机支架以及第一光源支架,两根所述第一立梁垂直支撑固定于所述机架上,所述第一横梁和所述第二横梁向靠近所述机架的方向间隔连接于两根所述第一立梁之间,且横跨于所述传输组件上方;所述第一相机支架活动设置于所述第一横梁上,且包括第一架板、第二架板以及相机固定板,所述第一架板沿垂直所述机架的方向连接于所述第一横梁,并可在外力作用下沿所述第一横梁的延长方向横向移动,所述第二架板连接于所述第一架板远离所述第一横梁的一端,并向靠近所述机架的方向延伸。

3.如权利要求2所述的磁瓦检测机构,其特征在于:所述第二架板的延长方向设置有相机滑槽,所述第一检测相机通过所述相机固定板沿所述相机滑槽向靠近或远离所述传输组件的方向可滑动地连接于所述第二架板上,并还可通过所述第一架板横向可滑动地连接于所述第一横梁上。

4.如权利要求2所述的磁瓦检测机构,其特征在于:所述第一光源支架活动设置于所述第二横梁上,且包括光源固定板及间隔设置于所述光源固定板上的两根支杆;所述光源固定板连接于所述第二横梁,并可在外力作用下沿所述第二横梁的延长方向横向移动,所述光源固定板沿平行所述第二横梁方向设置有光源滑槽,两根所述支杆垂直连接于所述光源固定板的相同一侧,且横向可滑动地连接于所述光源滑槽内。

5.如权利要求4所述的磁瓦检测机构,其特征在于:两根所述支杆的延长方向均开设长孔。

6.如权利要求4所述的磁瓦检测机构,其特征在于:所述第一检测组件还包括第一感应开关,所述第一感应开关设置于两根所述支杆之间,用于感应所述磁瓦到位后,触发所述第一检测相机。

7.如权利要求1所述的磁瓦检测机构,其特征在于:所述第二检测支架包括第三横梁、两根第二立梁以及两个相机光源固定板,两根所述第二立梁垂直支撑固定于所述机架上,所述第三横梁连接于两根所述第二立梁之间,且横跨于所述传输组件上方;两个所述相机光源固定板分别活动设置于两根所述第二立梁上,并可在外力作用下沿两根所述第二立梁的延长方向纵向移动。

8.如权利要求7所述的磁瓦检测机构,其特征在于:所述第二检测相机为分别对所述磁瓦两个端面进行拍照取像的两个,所述第二检测光源为与两个所述第二检测相机相互配合的两个;两个所述第二检测相机和两个所述第二检测光源成对配合的设置于两个所述相机光源固定板上,并可在外力作用下随对应的所述相机光源固定板沿所述第二立梁上下移动。

9.如权利要求7所述的磁瓦检测机构,其特征在于:所述转向组件包括吸附件、升降驱动件以及旋转驱动件,所述旋转驱动件安装于所述第三横梁上,所述升降驱动件与所述旋转驱动件连接,所述吸附件设置于所述升降驱动件上,并可在所述升降驱动件的驱动下向靠近或远离所述传输组件的方向移动,并在所述旋转驱动件的驱动下相对所述第三横梁旋转。

10.如权利要求7所述的磁瓦检测机构,其特征在于:所述第二检测组件包括第二感应开关,所述第二感应开关设置于所述传输组件上且位于两个所述相机光源固定板之间,用于当感应所述磁瓦进入所述传输组件时触发所述转向组件进行转向并触发所述第二检测相机进行拍照取像。

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