技术总结
本发明提供了一种触摸屏的制备方法，包括如下步骤：1）提供基片，并在基片的正反面镀导电层，该基片包括显示区和边框区；2）在基片的正反面导电层上覆盖光阻干膜；3）对基片正反面的光阻干膜有选择的曝光，形成曝光部分和非曝光部分，所述曝光部分或非曝光部分形成基片显示区域的导电层图案,所述曝光能量控制在20mJ至200mJ之间；4）通过显影、蚀刻工艺退去光阻干膜制得触摸屏；所述步骤2）到步骤4）在黄光条件下进行。本发明通过对曝光能量的控制，使得基片双面的曝光图案能够形成明显色差，不会相互干扰，既方便了人工操作，又能够在简化工艺的同时显著提高蚀刻工艺。
技术研发人员：胡川;王浩
受保护的技术使用者：东莞市伦丰电子科技有限公司
文档号码：201510222609
技术研发日：2015.05.05
技术公布日：2016.12.07