专利名称：基板的处理装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及在以规定角度倾斜输送基板的同时对其进行处理的基板的处理装置。
背景技术：
在用于液晶显示装置中的玻璃制成的基板上形成电路图形。当在基板上形成电路图形时，采用平版印刷工艺。对于平版印刷工艺来说，如众所周知的那样，将抗蚀剂涂敷在上述基板上，并经由形成有电路图形的掩模来向该抗蚀剂进行光的照射。
接着，将抗蚀剂的未照射到光的部分或者将照射了光的部分除去，对基板的已除去抗蚀剂的部分进行蚀刻，在蚀刻后多次反复进行除去抗蚀剂等一系列工序，通过这样而在上述基板上形成电路图形。
在这种平版印刷工艺中，具有在上述基板上利用显影液、蚀刻液或者用于在蚀刻后将抗蚀剂除去的剥离液等来对基板进行处理的工序，以及使用清洗液进行清洗的工序，在清洗后将附着残留在基板上的清洗液除去的工序成为必要。
以前，在对基板进行上述一系列处理时，利用将轴线呈水平配置的输送辊而以水平状态将上述基板依次输送到各个处理室内，在各处理室内进行上述的各种处理。
可是，最近在液晶显示装置中使用的玻璃制成的基板有大型化及薄型化的倾向。因此，如果水平输送基板，则因自重而引起的输送辊之间的基板挠曲将会增大，所以，会发生各处理室内的处理不能沿着基板的整个板面均匀地进行的情况。
而且，如果基板大型化，则由于增大了供给在基板上残留的处理液的量，而使施加在与残留于基板上的处理液的量相对应的上述输送轴上的负荷变大，由此增大了输送轴的挠曲。因此，基板与输送轴同时产生挠曲，存在所谓的不能进行均匀处理的问题。
因此，最近为了减少基板的挠曲，正在使所谓的在以规定角度倾斜输送基板的同时对其进行处理的方法成为实用化。如果使基板倾斜输送，则不光能够消除输送辊之间因基板的自重而引起的挠曲，还能够防止如水平输送时在基板上残留的处理液而由其自重引起的基板挠曲。
在倾斜输送上述基板时，使用支撑辊来支撑基板倾斜方向的下面，由驱动辊来支撑其下端。因此，通过使驱动辊旋转驱动来在驱动辊的转动方向上输送上述基板。
上述支撑辊在轴向上以规定的间隔而可旋转地被设置在多个安装轴上，其中，所述多个安装轴沿着基板的输送方向以规定间隔并且使轴线与倾斜的基板的板面平行、即以与基板的倾斜角度相同的角度倾斜配置。
发明内容
然而，如上所述，若是通过设置在安装轴上的支撑辊来倾斜支撑基板，并驱动与下端接触的驱动辊进行输送的结构，则由于基板的大型化，而不可避免地使上述安装轴变长。即，安装轴必须比倾斜基板的上下方向的尺寸(高度尺寸)长，最近，随着基板的大型化，不得不使安装轴的长度尺寸为2米以上。
如果安装轴的尺寸变长，特别是变为2米以上的长度时，由于该安装轴是以规定角度倾斜设置以及是经由支撑辊而被施加基板的重量等，所以易于使安装轴产生挠曲。如果安装轴产生挠曲，则在该安装轴上以规定间隔设置的多个支撑辊，不能以均匀的强度接触基板的板面。
即，产生了相对于基板几乎不接触的支撑辊以及超负荷接触的支撑辊。因此，不能顺利地输送基板，由于超负荷接触的支撑辊而有可能使基板被划伤。
本发明的目的在于提供一种基板的处理装置，在以规定角度倾斜输送基板的同时，能够使基板与多个支撑辊均匀接触来进行输送。
本发明是一种基板的处理装置，以规定角度倾斜输送基板，并在该输送过程中对所述基板进行规定处理，其特征在于，包括
多个处理室，以比所述基板的宽度尺寸小的宽度尺寸形成且并列设置，同时对所述基板进行各种规定处理；多个安装部件，设定为比所述基板的高度尺寸短的长度尺寸，在各处理室内在上下方向以规定间隔并与所述基板的输送方向平行设置；支撑辊，可旋转地设置在各个安装部件上，支撑以规定角度倾斜输送至所述处理室内的所述基板的倾斜方向的下侧的面；和驱动辊，可旋转驱动地设置于所述各处理室内，支撑所述基板的下端，并通过旋转驱动而使所述基板沿着规定方向输送，其中，所述基板由所述支撑辊支撑着倾斜方向的下侧的面。
本发明是一种基板的处理装置，以规定角度倾斜输送基板，在其输送过程中对所述基板进行规定处理，其特征在于，包括多个处理室，以比所述基板的宽度尺寸小的宽度尺寸形成且并列设置，同时对所述基板进行各种规定处理；支撑辊，支撑以规定角度而被倾斜输送至所述处理室内的所述基板的倾斜方向的下侧的面；和驱动辊，可旋转驱动地设置于所述各处理室内，支撑所述基板的下端，并通过旋转驱动而使所述基板沿着规定方向输送，其中，所述基板由所述支撑辊支撑着倾斜方向的下侧的面。
根据本发明，使处理室的宽度尺寸比基板的宽度小，而且支撑辊的所设安装部件的长度尺寸比基板的高度尺寸短，能够沿着处理室的宽度方向设置该安装部件。因此，由于能够使安装部件的长度尺寸与基板的宽度尺寸以及高度尺寸相比足够短，而使安装部件难产生挠曲，可利用设置于该安装部件上的支撑辊而可靠地支撑基板。
图1是表示本发明一个实施方式的处理装置的宽度方向的纵截面图。
图2是同一处理装置的第二处理部分的纵截面图。
图3是同一处理装置的横截面图。
图4是表示支撑辊的安装结构的截面图。
符号说明3第一处理室；4第二处理室；5第三处理室；11安装部件；15支撑辊；22驱动辊；23驱动电机；25供液管；26喷嘴。
具体实施例方式
图1是表示本发明处理装置的构成简图，该处理装置包括框体1。对于该框体1内来说，通过在长度方向上以规定间隔设置的多个隔壁2而被区隔成多个处理室，例如在本实施方式中被区隔成第一至第三的三个处理室3～5。即，在框体1内并列于横向而形成有第一至第三处理室3～5。
图3是上述框体1的横向断面图，在框体1的长度方向一端的侧壁1a上，形成有在上下方向以规定角度、例如以75度的角度倾斜的槽状的搬入口6，在框体1的长度方向另一端的侧壁1b上，形成有与槽状搬入口6倾斜相同角度的同样为槽状的搬出口7。在将框体1内区隔成三个处理室3～5的隔壁2上，形成有与上述搬入口6以及搬出口7倾斜相同角度的、同样为槽状的连通口8。
在第一至第三处理室3～5内，将具有一定厚度的板带状的多个(在本实施方式中为四个)安装部件11，如图2所示那样，以能够从以相同角度倾斜的搬入口6、搬出口7以及连通口8(图2中仅示出连通口8)拆下的方式，而按上下方向以规定间隔水平且错开地设置于前后方向的位置处。
如图3所示，在上述框体1的长度方向两端的侧壁1a、1b的内面以及一对隔板2的两侧面上，设置有一边固定的L形的托架12。在上述安装部件11的长度方向的两端面上，设置有与托架12对应的一边固定的L形的安装部件13。
因此，使用螺栓来固定上述托架12的另一边和上述安装部件13的另一边，通过这样，在各处理室3～5内，使上述安装部件11以上述那样的在上下方向按照规定间隔水平且随着靠近下端错开地方式而设置于前方位置处。
在各安装部件11的上面，分别设置有轴线垂直且可旋转的四个支撑辊15。图4表示的是上述支撑辊15的安装构造。即，在安装部件11上的前后方向的前端一侧，沿着前后方向而形成有细长的安装孔16。
在上述支撑辊15上设置有轴承17，在该轴承17的内环插通有安装螺栓18。螺母20经由垫圈19而被紧固在安装螺栓18的从上述安装孔16突出的端部上。从而，上述支撑辊15以能够调整前后方向安装位置的方式而被安装在上述安装部件11上。
如图1和图2所示，在各处理室3～5的下端部，沿着处理室3～5的宽度方向并以规定间隔配置有多个驱动辊22。各驱动辊22能够通过驱动电机23而旋转驱动。
从形成于上述第一处理室3的侧壁1a的搬入口6，以75度的角度倾斜地供给用于液晶面板的玻璃制成的基板W。供给至第一处理室3的基板W，其下端由驱动辊22支撑，倾斜方向的下侧的面由支撑辊15支撑。因此，如果通过驱动电机23使驱动辊22旋转驱动，则上述基板W沿着驱动辊22的旋转方向、即向着第二处理室4的方向而被输送。
上述基板W为2m见方以上的大小，例如具有高度尺寸为2200mm、宽度尺寸为2600mm的大小。将第一至第三处理室3～5的宽度尺寸设定成比上述基板W的宽度尺寸足够地小。例如设定为基板W的宽度尺寸的二分之一到三分之二的程度。将上述安装部件11的长度尺寸设定成比基板W的高度尺寸短。例如被设定为基板W高度尺寸的二分之一到三分之二的程度。从而，能够使安装部件11形成为难以因自重而产生挠曲的长度尺寸，例如能够将其设定为大大短于2m的尺寸。
即使是使上述安装部件11的长度尺寸设定为因自重难以产生挠曲的长度尺寸，由于各处理室3～5的宽度尺寸也被设定得比基板W的宽度尺寸短，所以不能将安装部件11的长度尺寸过于设置成比处理室3～5的宽度尺寸短。
从而，设置在安装部件11上的支撑辊15，能够沿着宽度方向可靠地支撑着位于各处理室3～5内的基板W的部分。即，尽管使安装部件11变短，但是由于与其对应而使各处理室3～5的宽度尺寸也变短，所以能够通过支撑辊15可靠地支撑位于各处理室3～5内的基板W部分的宽度方向。
上述基板W在上述第一处理室3内通过未图示的洗净刷来进行洗净。在第一处理室3内被刷洗干净的基板W在处理室4内进行冲洗处理。即，在第二处理室4内，在上下方向以规定间隔分开且水平配置有经流量调节阀(也未图示)与冲洗液的供给源连接的供液管25。
在各供液管25上以规定间隔而设置有多个喷嘴26，从这些喷嘴26向被输送到第二处理室3内的基板W的倾斜方向上侧的面喷射冲洗液。
设置有用于向基板W喷射冲洗液的喷嘴26的供液管25在高度方向以规定间隔而被配置，在该基板W的高度方向上，通过设置在各供液管25上的流量调节阀(未图示)而能够调节从各供液管25的喷嘴26喷射供给到基板W的冲洗液的量。即，被供给在基板W的板面上的冲洗液从基板W的高度方向上方向下方流动。因此，向各供液管25供给同量的冲洗液，使基板W在高度方向的下方比上方受到来自冲洗液的冲洗作用变大，不能使基板W的整个板面均匀地进行冲洗处理。
但是，因为多个供液管25相对于基板W的高度方向以规定间隔而分开配置，所以通过调整向各供液管25的冲洗液的供给量，而能够调整供给至基板W的板面的高度方向的上部和下部的冲洗液的量。
因此，如果供给至基板W上部的冲洗液的量多于供给至下部的冲洗液的量，则由于供给至上部的冲洗液向下部流动，而能够使下部所受冲洗液的作用和上部几乎相同。作为一个例子，使流过倾斜的基板W板面的冲洗液的流速和流量的总和，在基板W的高度方向的任何位置都相等，只要设定来自各供给管25的冲洗液供给量，就能够对基板W的整个板面进行近于均匀的冲洗处理。
在本实施方式中是用冲洗液处理基板的情形，但是也可用冲洗液以外的处理液，即使是用例如蚀刻液或者剥离液等的处理液对基板W进行处理时，通过调整上述处理液的供给量，能够均匀地处理基板W的整个板面。
将在第二处理室4内进行过处理的基板W输送到第三处理室5。在该第三处理室5中，在沿着相对于基板W的输送方向交叉的上下方向配置有未图示的气刀，进行通过气压来除去附着于经冲洗液处理过的基板W板面上的冲洗液的干燥处理。然后，在第三处理室5中经干燥处理过的基板W，在从搬出口7被运出后而被交接到下一道工序。
根据该结构的处理装置，通过设置于沿着各处理室3～5的宽度方向而水平配置的安装部件11上的支撑辊15，来支撑以规定角度而被倾斜输送的基板W的倾斜方向的下侧面。
各处理室3～5的宽度尺寸比基板W的宽度尺寸小，被设定为二分之一到三分之二的程度，安装部件11的长度尺寸比基板W的高度尺寸小，被设定为二分之一到三分之二的程度。
如果安装部件的长度尺寸如上述那样被缩短，则能够防止该安装部件11因自重而产生的挠曲。因此，设置在该安装部件11上的多个支撑辊15，能够在水平方向上不产生高度差而被定位。而且，设置在各安装部件11上的支撑辊15，通过形成于安装部件11上的安装孔16，而能够调整前后方向的安装位置。
从而，因为能够使设置于各安装部件11上的支撑辊15以相同的强度与基板W的倾斜方向的下面接触，所以，如果使驱动辊22驱动，则能够通过上述支撑辊15而顺利地引导并输送上述基板W。即，能够使基板不产生划伤而可靠地进行输送。
如果安装部件11的长度尺寸相对于处理室3～5的宽度尺寸过短，则在各处理室3～5内，使在基板W的宽度方向上没有被支撑辊15所支撑的部分变多，该部分有可能产生挠曲。
但是，在该实施方式中，不仅使安装部件11形成难以因自重而产生挠曲的尺寸，而且由于处理室3～5的宽度尺寸也变小，所以与各处理室3～5的宽度的尺寸相比，安装部件11的长度尺寸不必大幅度地被缩短。从而，对于基板W的位于各处理室3～5内的部分，通过设置于上述安装部件11上的多个支撑辊15，而能够可靠地支撑在宽度方向上。
即，为了不因自重而产生挠曲，只使安装部件11变短，相对于处理室3～5的宽度尺寸，如果使安装部件11的长度尺寸变得过短，则在基板W的位于各处理室3～5内部分的宽度方向变为不能被支撑辊15可靠支撑的状态，从而使基板W产生变形，有可能不能顺利地进行输送。
然而，由于不只使安装部件11变短，并且使处理室3～5的宽度尺寸也变小，而使安装部件11的尺寸不会相对于基板W的各处理室3～5的宽度尺寸而过度短小。因此，通过设置于安装部件11上的支撑辊15，而能够可靠地支撑基板W的位于各处理室3～5内的部分。
在对基板W进行洗净处理的第二处理室4中，使设置有用于喷射冲洗液的喷嘴26的多个供液管25水平设置。通过未图示出的流量控制阀而能够调整供给至各供液管25的冲洗液的量。
因此，由于供给至位于被倾斜输送的基板W高度方向上方的供液管25的量，比供给至位于被倾斜输送的基板W高度方向下方的供液管25的量多，所以能够使基板W在上下方向上几乎以同一状态进行冲洗处理。即，能够将基板W的整个板面进行均匀的洗净处理。
由于使处理室3～5的宽度尺寸比基板W的宽度小，基板W在如图1的点划线所示的多个处理室3～5内，以跨过相互邻接的多个处理室的状态而进行输送。因此，对于基板W来说，例如当输送方向的前端部在第二处理室4进行冲洗处理时，后端部在第一处理室3内被刷洗干净。同样，当前端部在第三处理室5内被干燥处理时，后端部在第二处理室4内进行冲洗处理。
这样，在输送基板W的同时，当在多个处理室3～5内对该基板W连续进行多个处理时，由于能够在相互邻接的处理室内同时进行不同的处理，所以能够提高基板W的处理效率。
本发明不局限于上述实施方式，可以进行各种变形。例如，举例说明了使作为处理装置的三个处理室并列设置的情形，但是并不限制处理室的个数，而且也不限制任何在各处理室内对基板进行处理的种类。
权利要求
1.一种基板的处理装置，以规定角度倾斜输送基板，并在该输送过程中对所述基板进行规定处理，其特征在于，包括多个处理室，以比所述基板的宽度尺寸小的宽度尺寸形成且并列设置，同时对所述基板进行各种规定处理；多个安装部件，设定为比所述基板的高度尺寸短的长度尺寸，在各处理室内在上下方向以规定间隔并与所述基板的输送方向平行设置；支撑辊，可旋转地设置在各个安装部件上，支撑以规定角度倾斜输送至所述处理室内的所述基板的倾斜方向的下侧的面；和驱动辊，可旋转驱动地设置于所述各处理室内，支撑所述基板的下端，并通过旋转驱动而使所述基板沿着规定方向输送，其中，所述基板由所述支撑辊支撑着倾斜方向的下侧的面。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于在多个处理室中的至少一个是向基板喷射处理液来进行处理的处理室，在该处理室内沿着输送方向同时在与输送方向交叉的上下方向，以规定间隔配置有供液管，在各供液管上设置有用于向所述基板的倾斜方向上侧的面供给处理液的喷嘴。
3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于在所述安装部件上，所述支撑辊以能够在与所述基板的输送方向交叉的前后方向上进行定位调整的方式而被设置。
4.一种基板的处理装置，以规定角度倾斜输送基板，在其输送过程中对所述基板进行规定处理，其特征在于，包括多个处理室，以比所述基板的宽度尺寸小的宽度尺寸形成且并列设置，同时对所述基板进行各种规定处理；支撑辊，支撑以规定角度而被倾斜输送至所述处理室内的所述基板的倾斜方向的下侧的面；和驱动辊，可旋转驱动地设置于所述各处理室内，支撑所述基板的下端，并通过旋转驱动而使所述基板沿着规定方向输送，其中，所述基板由所述支撑辊支撑着倾斜方向的下侧的面。
全文摘要
本发明提供一种基板的处理装置，在倾斜输送基板同时进行处理，并能够以支撑辊可靠地支撑成为倾斜方向的下侧的面。包括以小于所述基板的宽度尺寸的宽度尺寸形成，对所述基板进行各种指定处理、并列设置的多个处理室(3～5)、在设定为短于基板高度尺寸的长度尺寸的各种处理室的上下方向上，以规定间隔平行设置的多个安装部件(11)、在设置有可旋转地各个安装部件的处理室内，以一定角度倾斜，支撑被送入的基板的倾斜方向的下侧面的支撑辊(15)、通过设置于各处理室内可进行旋转驱动的支撑辊，通过对被支撑于倾斜方向的下侧面的基板的下端进行支撑且被旋转驱动，以指定方向输送的驱动辊(22)。
文档编号H01L21/67GK1750232SQ20051010342
公开日2006年3月22日 申请日期2005年9月15日 优先权日2004年9月15日
发明者西部幸伸, 矶明典 申请人:芝浦机械电子株式会社