专利名称：一种可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及支撑技术，特别涉及一种可避免硅片在批量清洗时相互粘 贴的支撑机构。
背景技术：
在半导体制造领域中，为提高生产效率，故需尽可能对硅片进行批量清洗, 该些硅片进行批量清洗时，通常先将硅片插置在承片架的插槽内，然后将该承 片架放置在水槽中进行清洗。上述承片槽间的间距通常为5腿，但是由于加工尺寸和硅片厚度的影响，在 硅片清洗过程中，有些硅片间的间距会小于3mm,此时就会产生毛细管压力，两 硅片在该压力的作用下粘附在一块，粘附在一起的两硅片在该压力的作用下易 破碎，从而造成严重的经济损失；粘附在一起的两未破碎的硅片即使经过后续 的干燥工序，硅片间的水分也很难去除， 一段时间后，该两硅片间的水分风干 且留下影响硅片外观的水印；另外当硅片上有金属时，该水分会腐蚀金属，因 此两硅片粘附在一块儿会造成硅片的返工或报废，造成严重的经济损失。因此，如何提供一种支撑机构来避免清洗时硅片粘附的现象出现，已成为 亟待解决的技术问题。实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑 机构，通过所述支撑机构可避免晶圆在清洗时相互粘贴而需返工或损坏。本实用新型的目的是这样实现的 一种可避免硅片在批量清洗时相互粘贴 的支撑机构，其设置在一底部具有两平行的第一肋条的清洗槽内，该硅片设置 在一承片架中进行批量清洗，该承片架底部具有两平行且用于支撑承片架的第 二肋条，该第二肋条的长度大于两第一肋条的间距，通过将第二肋条垂直放置在第 一肋条上而将承片架设置在清洗槽中，该支撑机构包括两垫块和两顶推固 定件，该两垫块分别设置在任一第一肋条上恰放置两第二肋条的位置上，该两 顶推固定件分别设置在两垫块侧边且与第一肋条平行并顶在清洗槽侧壁上，用 于将两垫块固定在该任一第 一肋条上。在上述的可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构中，该垫块具有用 于支撑该第二肋条的本体以及一设置在该本体底端且形状与该第一肋条相匹配 的凹槽，该垫块通过该凹槽卡在该第一肋条上。在上述的可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构中，该本体顶边与 该第二肋条直接接触，该本体顶边与该凹槽底边具有一夹角。在上述的可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构中，该顶推固定件 为螺丝，该本体上设置有对应的螺孔。与现有技术中无支撑机构承片架无倾斜的设置在清洗槽中，硅片易相互粘 贴在一块儿相比，本实用新型的可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构 设置在直接支撑承片架的任一第一肋条上，从而使承片架倾斜一角度，如此设 置在承片架中的硅片间的毛细管压力就会减小，从而避免了硅片的相互粘贴， 相应地的可减少由此产生的硅片返工或破损。
本实用新型的可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构由以下的实施 例及附图给出。图1为清洗槽的结构示意图； 图2为承片架的结构示意图；图3为本实用新型的可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构的组成 结构示意图；图4为本实用新型的可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构的纵向 剖视图。
具体实施方式
以下将对本实用新型的可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构作进一步的详细描述。参见图1,显示了清洗槽1的结构，所述清洗槽1的侧壁10为聚四氟乙烯 塑料平板，所述清洗槽的底面11同为聚四氟乙烯塑料平板，所述底面11具有 多个漏水孔110,底面11上i殳置有两平行的第一肋条l2和13,当在所述清洗槽1中清洗硅片时，清洗后的水从漏水孔110排出清洗槽1 。参见图么显示了承片架2的结构，硅片3设置在承片架2中进行批量清冼所述承片架底部具有两平行且用于支撑承片架2的第二肋条20和21，所述第二肋条20和21的长度大于第一肋条12和13的间距。本实用新型的可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构包括两垫块和两顶推固定件。参见图3和图4，所述垫块40设置在任一第一肋条12或13上恰放置第二 肋条20或21的位置上，所述垫块40包括本体400、凹槽401和螺孔402,本 体400的顶边400a直接与第二肋条20或21相接触，顶边400a与所述凹槽401 底边具有一夹角，所述垫块40通过凹槽401卡固在第一肋条12或13上，所述 凹槽401的形状与所述第一肋条12或13相匹酌顶推固定件41设置在垫块40 侧边且与第一肋条12和13平行并顶在清洗槽侧壁10上，用于将两垫块40固 定在第一肋条12或13上。所述顶推固定件41可通过调节其在螺孔402中的深 度来调节其伸出垫块40的长度，所述长度即为垫块40具侧壁10的距离。承片架2的第二肋条20和21在清洗槽1中的第一肋条12和13上的放置 位置不变，当通过调节顶推固定件41伸出垫块40的长度时，可调整垫块40在 第一肋条上的设置位置，即可调整垫块40将第二肋条20或21垫高的高度，当 需增加垫高高度时，调小顶推固定件41伸出垫块40的长度，反之，则调大顶 推固定件41伸出垫块40的长度。在本实施例中，所述垫块40设置在第一肋条12上，如此承片架2在放置 在清洗槽1中时，承片架向第一肋条13侧倾斜且靠在侧壁1G上，所述顶推固 定件41为螺丝，所述螺孔402恰与所述螺丝相匹配。实验证明，清洗槽1在采用本实用新型的可避免硅片在批量清洗时相互粘 贴的支撑机构后，设置在承片架中的硅片在所述清洗槽1中进行清洗时，硅片 相互粘贴的现象不再发生。综上所述，本实用新型的可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构设 置在直接支撑承片架的任一第一肋条上，从而使承片架倾斜一角度，如此设置 在承片架中的硅片间的毛细管压力就会减小，从而避免了硅片的相互粘贴，相 应地的可减少由此产生的硅片返工或破损。
权利要求1. 一种可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构，其设置在一底部具有两平行的第一肋条的清洗槽内，该硅片设置在一承片架中进行批量清洗，该承片架底部具有两平行且用于支撑承片架的第二肋条，该第二肋条的长度大于两第一肋条的间距，通过将第二肋条垂直放置在第一肋条上而将承片架设置在清洗槽中，其特征在于，该支撑机构包括两垫块和两顶推固定件，该两垫块分别设置在任一第一肋条上恰放置两第二肋条的位置上，该两顶推固定件分别设置在两垫块侧边且与第一肋条平行并顶在清洗槽侧壁上，用于将两垫块固定在该任一第一肋条上。
2、 如权利要求1所述的面板可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构， 其特征在于，该垫块具有用于支撑该第二肋条的本体以及一设置在该本体底端 且形状与该第一肋条相匹配的凹槽，该垫块通过该凹槽卡在该第一肋条上。
3、 如权利要求2所述的面板可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构， 其特征在于，该本体顶边与该第二肋条直接接触，该本体顶边与该凹槽底边具 有一夹角。
4、 如权利要求2所述的面板可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构， 其特征在于，该顶推固定件为螺丝，该本体上设置有对应的螺孔。
专利摘要本实用新型提供了一种可避免硅片在批量清洗时相互粘贴的支撑机构，其设置在底部具有两平行的第一肋条的清洗槽内，该硅片设置在底部具有两平行的第二肋条的承片架中进行批量清洗，该第二肋条的长度大于两第一肋条的间距，通过将第二肋条垂直放置在第一肋条上而将承片架设置在清洗槽中。现有技术因无专门的支撑机构致使晶圆放置在承片架中清洗时易造成晶圆粘贴。本实用新型的支撑机构包括两垫块和两顶推固定件，该两垫块分别设置在任一第一肋条上恰放置两第二肋条的位置上，该两顶推固定件分别设置在两垫块侧边且与第一肋条平行并顶在清洗槽侧壁上，用于将两垫块固定在该任一第一肋条上。采用本实用新型的支撑机构可大大提高清洗硅片的安全可靠性。
文档编号H01L21/00GK201084713SQ20072007252
公开日2008年7月9日 申请日期2007年7月17日 优先权日2007年7月17日
发明者俊 傅, 许顺富, 赖海长 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司