专利名称：固体电解质膜的制造方法
技术领域：
本发明涉及一种固体电解质膜的制造方法。
背景技术：
作为燃料电池的传导膜，已知有使用由具有质子传导性的高分子制造的固体电解质膜。作为这种固体电解质膜的制造方法，在专利文献I中公开一种方法，所述方法进行如下工序并对得到的膜赋予张力并进行卷绕，所述工序为在基材上形成含有固体电解质的膜的工序；从基材上剥离所形成的膜的工序；用水对剥离后的膜进行清洗的工序和对清洗后的膜进行干燥的工序。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开2008-282795号公报
发明内容
发明要解决的课题但是，根据专利文献I中所公开的方法，难以抑制在对膜进行水洗或干燥的工序中褶皱的产生，在该方面未必可令人满意。本发明的目的在于提供一种方法，所述方法能够在对从基材上剥离的膜进行水洗或干燥的工序中不产生褶皱地制造固体电解质膜。用于解决课题的手段本发明提供如下[I] 一种固体电解质膜的制造方法，其含有以下工序形成工序(A):在基材上形成含有电解质聚合物的膜，剥离工序(B):从基材上剥离在基材上所形成的膜，水洗工序(C):对剥离工序⑶中得到的膜赋予张力T。的同时将膜进行水洗；干燥工序(D):对水洗工序(C)中得到的膜赋予张力Td的同时将膜进行干燥；所述张力Tc及所述张力Td满足Tc < Td的关系；[2]根据[I]所述的制造方法，其中，张力Tc为O. 0001N/mm 2N/mm,张力Td为 O. 001N/mm 10N/mm ；[3]根据[I]所述的制造方法，其中，张力Tc为O. 005N/mm O. 03N/mm,张力Td为 O. 01N/mm O. 05N/mm ；[4]根据上述[2]所述的制造方法，其中，经过水洗工序(C)而得到的膜的厚度及经过干燥工序(D)而得到的膜的厚度均在O. OOlmm O. 5mm的范围；[5]根据上述[3]所述的制造方法，其中，经过水洗工序(C)而得到的膜的厚度及经过干燥工序(D)而得到的膜的厚度均在O. OOlmm O. Imm的范围；
[6]根据[I] [5]中任一项所述的制造方法,其中，通过拉伸刀(Tension cut) 来赋予张力Tc和张力Td ；[7]根据[I] [6]中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述电解质聚合物分别包含具有离子交换基的嵌段和实质上不具有离子交换基的嵌段，该具有离子交换基的嵌段的主链具有多个芳香环直接连接而成的聚亚芳基结构，进而离子交换基与构成主链的芳香环直接键合；[8]根据[7]所述的制造方法，其特征在于，所述具有离子交换基的嵌段由下述通式⑴表示；[化学式I]
权利要求
1.一种固体电解质膜的制造方法，其包括以下工序形成工序(A):在基材上形成含有电解质聚合物的膜，剥离工序(B):从基材上剥离在基材上所形成的膜，水洗工序(C):对剥离工序(B)中得到的膜赋予张力Tc的同时将膜进行水洗，干燥工序(D):对水洗工序(C)中得到的膜赋予张力Td的同时将膜进行干燥；所述张力Tc及所述张力Td满足Tc < Td的关系。
2.根据权利要求I所述的制造方法，其中，张力Tc为O.0001N/_ 2N/mm，张力Td为 O. 001N/mm 10N/mm。
3.根据权利要求I所述的制造方法，其中，张力Tc为O.005N/mm O. 03N/mm,张力Td 为 O. 01N/mm O. 05N/mm。
4.根据权利要求2所述的制造方法，其中，经过水洗工序(C)而得到的膜的厚度及经过干燥工序(D)而得到的膜的厚度均在O. OOlmm O. 5mm的范围。
5.根据权利要求3所述的制造方法，其中，经过水洗工序(C)而得到的膜的厚度及经过干燥工序(D)而得到的膜的厚度均在O. OOlmm O. Imm的范围。
6.根据权利要求I 5中任一项所述的制造方法，其中，通过拉伸刀来赋予张力T。和张力Td。
7.根据权利要求I 6中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述电解质聚合物分别包含具有离子交换基的嵌段和实质上不具有离子交换基的嵌段，该具有离子交换基的嵌段的主链具有多个芳香环直接连接而成的聚亚芳基结构，进而离子交换基与构成主链的芳香环直接键合。
8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述具有离子交换基的嵌段由下述通式⑴表示，[化学式I]
9.根据权利要求7或8所述的制造方法，其特征在于，所述实质上不具有离子交换基的嵌段具有下述通式(2)所示的结构单元，[化学式2]
10.一种固体电解质膜，其是利用权利要求I 9中任一项所述的制造方法来制造的。
全文摘要
本发明提供一种固体电解质膜的制造方法，该制造方法含有如下工序形成工序(A)，在基材上形成含有电解质聚合物的膜；剥离工序(B)，从基材上剥离在基材上所形成的膜；水洗工序(C)，对剥离工序(B)中得到的膜赋予张力TC的同时将膜进行水洗；干燥工序(D)对水洗工序(C)中得到的膜赋予张力TD的同时将膜进行干燥，其特征在于，所述张力TC及所述张力TD满足TC＜TD的关系。
文档编号H01B13/00GK102598157SQ201080048038
公开日2012年7月18日 申请日期2010年10月29日 优先权日2009年10月30日
发明者小山敦畅, 首藤淳 申请人:住友化学株式会社