专利名称：用于多个基板的固持器和具有该固持器的腔室的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于固定复数个基板的基板固持器和一种装配有该基板固持器的腔室，且更特定地说，涉及一种用于在位于单个腔室中的彼此独立的复数个基板上执行相同或不同处理的基板固持器和一种装配有该基板固持器的腔室。
背景技术：
如图Ia和Ib中所示，常规基板固持器包括一主基板固持器10、提供于该主基板固持器10中的次基板固持器11 (基板装配于其上)、安装于该主基板固持器10下方以垂直举起该主基板固持器10的提升杆12和用于排出形成于主基板固持器或次基板固持器中的气体的通气孔9。一般地说，当根据处理的进展而有必要交换基板时，在将主基板固持器10 举起预定高度之后使用机器臂或机器指(未图示)来交换装配于次基板固持器上的基板。如果将处理气体供应于各个基板上，则该等处理气体会相互干扰。因此，污染物或不均勻沉积会出现在基板上，尤其在基板的边缘部分上。特定地说，当通过使用至少两种处理气体在如此配置的复数个基板上执行多层沉积时，通常有必要根据沉积处理的进展而将该等基板转移至另一腔室中。因此，存在一个问题，即，基板的交换延迟了沉积处理。
发明内容
因此，提出本发明来解决现有技术中的前述问题。本发明的一个目的为提供一种基板固持器和一种装配有该基板固持器的腔室，该基板固持器使得可能独立执行对于该等复数个基板中的每个基板而言可控的个别处理。根据用于实现该目的的本发明的一个方面，提供一种用于固定复数个基板的基板固持器。该基板固持器包括用于注射气帘气体以将复数个基板彼此隔开的复数个喷嘴。该基板固持器可进一步包括一用于将复数个基板彼此隔开以独立执行处理的分隔物。较佳地，复数个喷嘴可形成于邻近该分隔物处或形成为环绕各个基板。该基板固持器可进一步包括一主基板固持器；提供于该主基板固持器中用于分别固定基板的次基板固持器和用于排出形成于该主基板固持器或该等次基板固持器中的气体的通气孔9。根据用于实现该目的的本发明的另一方面，提供一腔室，其包括如上所述的基板固持器；一下腔室，基板固持器可旋转地装配于其底部；一用于覆盖该下腔室的腔室盖；和用于将处理气体注射至固定于基板固持器上的各个基板上的复数个注射器。根据用于实现该目的的本发明的一额外方面，提供一腔室，其包括一用于固定复数个基板的基板固持器；一下腔室，该基板固持器可旋转地装配于其底部；一用于覆盖该下腔室的腔室盖；用于将处理气体注射至固定于基板固持器上的各个基板上的复数个注射器；和用于注射气帘气体以将复数个基板彼此隔开的复数个喷嘴。该基板固持器可包括一用于将复数个基板彼此隔开的分隔物。较佳地，该分隔物比下腔室的侧壁低。较佳地，在该分隔物的上末端与腔室盖之间提供一密封件。更佳地，可将喷嘴安装于基板固持器或腔室盖中。
从与随附图式一起给出的较佳实施例的以下描述中将明显看出本发明的以上和其它目的、特征和优点，其中图Ia为一常规基板固持器的平面图；图Ib为该基板固持器沿图Ia的线A-A的截面侧视图；图加为根据本发明的一个实施例的基板固持器的平面图；图2b为根据本发明的一个实施例装配有自上方可看出的图加的基板固持器的一腔室的部分剖示立体图；图3为根据本发明的另一实施例的一腔室的下腔室(自上方可看出)和腔室盖 (自下方可看出)的立体图；图如为根据本发明的一额外实施例使用图2b的下腔室的一腔室的下腔室(自上方可看出)和腔室盖(自下方可看出)的立体图；图4b为图如的腔室的气帘气体供应器的细节图；图5为根据本发明的另一额外实施例使用图2b的下腔室的一腔室的下腔室(自上方可看出)和腔室盖(自下方可看出)的立体图；图6和7为根据本发明的进一步实施例的主基板固持器的立体图；且图8为根据本发明的另一进一步实施例的下腔室的部分剖示立体图。
具体实施例方式下文将参看随附图式详细描述根据本发明的基板固持器和腔室的较佳实施例。图加为根据本发明的一实施例的基板固持器的平面图。图2b为装配有图加的基板固持器的腔室的立体图。主基板固持器10具有用于分别固定复数个基板(例如图中所示的四个基板)的次基板固持器11和一用于将该等基板彼此隔开的分隔物14。此分隔物14导致当在各个基板上独立执行不同处理时该等不同处理互不干扰。此基板固持器可旋转地装配于下腔室沈的底部。被腔室盖20所覆盖的下腔室沈提供腔室的内部空间。腔室盖装配有用于供应处理气体至腔室中的注射器13。特定地说，如图2b中所示，如果在分隔物14的上末端与腔室盖20之间提供一密封件，则可能分别为各个基板控制温度。因此，可将复数个基板分别占据的个别空间彼此隔开，使得不同处理独立执行于各个基板上。参看图3，由于分隔物14在高度上稍低于下腔室的侧壁，因此在分隔物的上末端与腔室盖20之间提供有一间隙。随着将腔室盖20与下腔室沈密封，为下一处理卸下基板 (其中执行于该腔室中的独立处理完成)，且随后在腔室中装载一新基板。虽然用于装载和/或卸下基板的机构未展示于图中，但是一般通过形成于下腔室侧壁上的窗口来装载和/ 或卸下基板。为此，有必要垂直移动并旋转主基板固持器。该间隙用于防止当主基板固持器与覆盖下腔室的腔室盖一起垂直移动时附着于主基板固持器的分隔物14的上末端与腔室盖20发生碰撞。此外，由于当主基板固持器10旋转时分隔物14与主基板固持器10 — 起旋转，因此应使分隔物14与下腔室沈的侧壁间隔开一预定间隙。然而，在此配置中，难以在复数个基板上独立执行各个处理。即，由于供应至各个基板的处理气体通过分隔物与腔室盖之间和分隔物与下腔室的侧壁之间的间隙相互干扰，因此其导致基板被污染。为防止该污染，腔室盖具有喷嘴25，其用于注射气帘气体至下腔室中使得间隙被如图3中所示的气帘气体阻断，且因此独立维持用于该等处理的个别空间。图4a、4b和5为根据本发明的腔室的两个实施例的示意性立体图，其包括一腔室盖和一下腔室且导致各个处理独立执行于复数个基板上。参看图如，腔室盖20装配有对应于各个基板而被定位的气帘气体注射器27。该等气帘气体注射器27中的每个注射器形成有用于注射(例如)氩(Ar)气至腔室中的喷嘴25。形似一喷头的气帘气体注射器27连接至一用于供应气帘气体的次供应管线17，其自主供应管线16分支。气帘气体注射器27的每个注射器的喷嘴25环绕对应基板注射氩气。在图5中所示的实施例中，腔室盖具有用于环绕分隔物14而注射气帘气体的喷嘴。喷嘴25沿分隔物的形状而安装于腔室盖20中，且注射氩气于下腔室中的基板之间以使处理气体互不干扰。氩气帘气体用于使供应至各个基板上的可互不相同的处理气体的干扰最小化。使用氩气帘气体以将腔室的内部空间分隔成被复数个基板所分别占据的个别空间，且因此在难以于实体上完全分隔腔室的内部空间时能够产生对应于其的环境。即，如果形成了氩气帘气体的下降流，则氩气帘气体在基板之间流动且充当帘幕。因此，通过注射器而供应的各个处理气体存在于由氩气帘气体的下降流所形成的区域内，其使得可能在各个基板上执行独立处理。当连同分隔物一起使用气帘气体时，可进一步改进以上效果。同时，由于仅气帘气体而无需分隔物可稍微确保腔室中各个基板的独立性，因此可以仅通过气帘气体而无需在主基板固持器上安装分隔物而将基板彼此分隔开。图6和7展示本发明的进一步实施例，其包括一同时具有一分隔物和用于供应氩气帘气体的喷嘴的主基板固持器。图6中所示的实施例的基板固持器具有主基板固持器 10，其包含分隔物14和环绕固定于每个次基板固持器的每个基板的复数个喷嘴25。图7 中所示的实施例的基板固持器具有主基板固持器10，其包含分隔物14和沿分隔物14的形状而形成于该主基板固持器中的复数个喷嘴25。同时，由于仅气帘气体而无需分隔物可稍微确保各个基板的独立性，因此可以仅通过气帘气体而无需在主基板固持器上安装分隔物而将基板彼此分隔开。如果在该等实施例的每种情况中都通过喷嘴25注射氩气帘气体，则处理气体被供应于由氩气帘气体所形成的各个区域中，使得可将独立处理执行于各个基板上。参看图8，其展示本发明的另一进一步实施例，喷嘴安装于腔室的内侧壁而非主基板固持器或腔室盖中。在此一实施例中，亦将多个处理分别独立执行于复数个基板上。如上所建构的本发明的基板固持器和腔室导致可将处理独立执行于复数个半导体基板上。因此，可容易地将多层沉积处理执行于单个腔室中，且可广泛选择处理气体。如在本发明的实施例中，如果分隔物和主基板固持器一起旋转，则由于可减少用于交换固定于次基板固持器上的基板的时间，因此增加了总产率。此外，由于没有大量更改基板固持器的现有配置，因此可有效地节约用于制造本发明的基板固持器和腔室的成本。虽然到目前为止已将包括主基板固持器、次基板固持器和形成于主基板固持器中的通气孔的基板固持器作为本发明的实施例做了描述，但是本发明并不限于此而是由附加权利要求来加以界定。很明显，所属技术领域的技术人员可在由权利要求所界定的本发明的范畴内对其作出各种更改和变化。因此，本发明的真正范畴应由附加权利要求的技术精神来加以界定。本申请案含有涉及在2003年8月27日于韩国知识产权局(Korean Intellectual Property Office)分别申请的韩国专利申请案第KR 10-2003-0059527号的主旨，其全部内容以引用的方式并入本文中。
权利要求
1.一种腔室，其包括 下腔室；用于覆盖所述下腔室的腔室盖； 主基板固持器，提供于所述下腔室的下部部分的内部； 复数个次基板固持器，提供于所述主基板固持器上以分别固定复数个基板； 复数个喷嘴，设置于所述腔室盖内并分别环绕各个所述次基板固持器，以注射气帘气体以将所述次基板固持器彼此分隔开。
2.根据权利要求1所述的腔室，进一步包括提供于位于所述主基板固持器上的所述次基板固持器之间的空间中的分隔物。
3.根据权利要求1所述的腔室，进一步包括设置于所述主基板固持器中环绕各个所述次基板固持器的复数个喷嘴，以注射气帘气体以将所述次基板固持器彼此分隔开。
4.根据权利要求2所述的腔室，进一步包括在所述主基板固持器中沿所述分隔物的形状形成的复数个喷嘴，以注射气帘气体以将所述次基板固持器彼此分隔开。
5.根据权利要求4所述的腔室，进一步包括在所述腔室盖中沿所述分隔物的形状形成的复数个喷嘴，以注射气帘气体以将所述次基板固持器彼此分隔开。
6.根据权利要求2所述的腔室，进一步包括在所述腔室盖中沿所述分隔物的形状形成的复数个喷嘴，以注射气帘气体以将所述次基板固持器彼此分隔开。
7.一种腔室，其包括 下腔室；用于覆盖所述下腔室的腔室盖； 主基板固持器，提供于所述下腔室的下部部分的内部； 复数个次基板固持器，提供于所述主基板固持器上以分别固定复数个基板； 分隔物，提供于位于所述主基板固持器上的所述次基板固持器之间的空间中； 复数个喷嘴，沿所述分隔物的形状设置于所述腔室盖中，以注射气帘气体以将所述次基板固持器彼此分隔开。
8.如权利要求2或7所述的腔室，其中所述分隔物形成在高度上比所述下腔室的壁低。
9.如权利要求1或7所述的腔室，进一步包括提供于所述主基板固持器上且环绕各个次基板固持器的通气孔。
10.根据权利要求9所述的腔室，进一步包括环绕所述通气孔形成的复数个喷嘴，以注射气帘气体以将所述次基板固持器彼此分隔开。
11.根据权利要求10所述的腔室，其中所述通气孔被形成为比所述喷嘴更靠近所述次基板固持器。
12.根据权利要求1或7所述的腔室，进一步包括安装至所述腔室盖以向所述次基板固持器注射处理气体的注射器。
13.根据权利要求2或7所述的腔室，进一步包括提供于所述分隔物的上部部分与所述腔室盖之间的密封件。
14.根据权利要求7所述的腔室，进一步包括在所述主基板固持器中沿所述分隔物的形状形成的复数个喷嘴，以注射气帘气体以将所述次基板固持器彼此分隔开。
15.根据权利要求7或14所述的腔室，进一步包括设置于所述主基板固持器中环绕各个所述次基板固持器的复数个喷嘴，以注射气帘气体以将所述次基板固持器彼此分隔开。
全文摘要
本发明涉及一种用于在位于一单个腔室中的彼此独立的复数个基板上执行相同或不同处理的基板固持器和一种装配有该基板固持器的腔室。根据本发明，提供一种用于固定复数个基板的基板固持器。该基板固持器包括用于注射气帘气体以将该等复数个基板彼此分隔开的复数个喷嘴。
文档编号H01L21/00GK102226272SQ201110166499
公开日2011年10月26日 申请日期2004年8月27日 优先权日2003年8月27日
发明者崔政焕, 朴景雄 申请人:周星工程股份有限公司