专利名称：有机发光显示装置及其制造方法
技术领域：
本公开涉及有机发光显示装置及制造有机发光显示装置的方法。
背景技术：
有机发光显示(OLED)装置可使用光显示期望的信息，例如图像、字母和/或字符，其中，通过在OLED装置的有机层中结合从阳极提供的空穴和从阴极提供的电子而产生所述光。OLED装置可确保相对大的视角、快的响应速度、小的厚度、低的功耗等。因此，OLED装置可确定地被认为是最具有前景的下一代显示装置之一。OLED装置可包括显示区域和外围区域。有机发光显示结构可设置在显示区域中，外围电路可位于外围区域中。为了相对于使用者屏蔽外围电路，可设置框架或光屏蔽层以覆盖外围区域。前述讨论为了提供大概的背景信息，不构成对现有技术的陈述。
发明内容
一方面提供了可以省略用于屏蔽外围电路的另外的框架或边框的有机发光显示
>J-U ρ α装直。当在偏振 膜和显示面板之间设置例如黑矩阵的光屏蔽层时，由于黑矩阵和基板之间的台阶而会在偏振膜和显示面板之间产生空隙或气泡。另外，OLED装置的机械强度也会减小。因此，另一个方面提供了确保改善的机械强度和/或可视性的有机发光显示装置。另一个方面提供了具有增强的机械强度和/或可视性的有机发光显示装置的制造方法。根据实施例，提供了一种有机发光显示装置，所述装置包括第一基板、有机发光结构、外围电路部分、凹陷、黑矩阵和偏振结构。第一基板包括显示区域和靠近显示区域的至少一侧的外围区域。有机发光结构在显示区域中设置在第一基板的第一面的上方。外围电路部分在外围区域中设置在第一基板的第一面的上方。凹陷在外围区域中设置在第一基板的第二面上，所述第二面与第一面相反。黑矩阵设置在凹陷中。偏振结构设置在第一基板的第二面和黑矩阵的上方。在实施例中，凹陷可具有大约5mm至大约15mm的宽度。凹陷的深度与凹陷的宽度的比可以是大约1:250至大约1:5000。凹陷的深度可与黑矩阵的厚度基本上相同。在实施例中，黑矩阵可包括黑硅或炭黑。在实施例中，外围区域可围绕显示区域。在实施例中，黑矩阵可具有与凹陷的尺寸基本上相同的尺寸。黑矩阵的表面和第一基板的第二面可位于同一平面上。在实施例中，当沿着与第二面垂直的方向观看时，黑矩阵可具有线形形状、弯线形状、曲线形状、“U”形形状、矩形带形状、椭圆带形状、圆形带形状和多边形带形状等。在实施例中，有机发光显示装置还可包括开关结构，开关结构在显示区域中设置在第一基板和有机发光结构之间。第二基板可与第一基板相对。密封件可将第一基板和第二基板互连。根据实施例，提供了制造偏振结构的方法。在所述方法中，提供具有显示区域和外围区域的显示面板。显示面板包括第一基板、设置在第一基板的第一面上方的有机发光结构和设置在第一基板的第一面上方的外围电路。部分地去除第一基板以在外围区域中在第一基板的第二面上形成凹陷。在凹陷中形成黑矩阵。在第一基板的第二面和黑矩阵的上方形成偏振结构。在实施例中，外围区域可靠近显示区域的至少一侧。在实施例中，外围区域可围绕显示 区域。在实施例中，凹陷可具有大约5mm至大约15mm的宽度，凹陷的深度与凹陷的宽度的比可以是大约1:250至大约1:5000。在实施例中，黑矩阵可具有与凹陷的尺寸基本上相同的尺寸。当沿着与第二面垂直的方向观看时，黑矩阵可被形成为具有线形形状、弯线形状、曲线形状、“U”形形状、矩形带形状、椭圆带形状、圆形带形状和多边形带形状等。黑矩阵的表面和第一基板的第二面可位于同一平面上。在实施例中，可使用黑硅或炭黑形成黑矩阵。在实施例中，第一基板可包括透明的无机基板，形成凹陷的步骤可包括干蚀刻工艺或湿蚀刻工艺。在实施例中，第一基板可包括透明聚合物基板，形成凹陷的步骤可包括抛光工艺。根据实施例，有机发光显示装置可包括填充凹陷的黑矩阵，其中，凹陷可在外围区域中设置在第一基板上。黑矩阵可用作光屏蔽层，从而可以省略用于屏蔽外围电路的另外的框架或边框。另外，在第一基板和偏振结构之间或黑矩阵和偏振结构之间可以不产生空隙或气泡，由此改善了有机发光显示装置的机械强度。
通过下面结合附图进行的详细描述，将更清楚地理解实施例。图1至图8表现出在此描述的非限制性实施例。图1是示出了根据实施例的有机发光显示装置的剖视图；图2是示出了根据实施例的具有黑矩阵的基板的平面图；图3是示出了根据一些实施例的有机发光显示装置的剖视图；图4是示出了根据一些实施例的具有黑矩阵的基板的平面图；图5至图8是示出了根据实施例的有机发光显示装置的制造方法的剖视图。
具体实施例方式在下文中参照附图更充分地描述了各种实施例，在附图中示出了一些实施例。然而，本发明可以以许多不同的形式来实施，且不应该解释为局限于在这里所提出的实施例。确切地说，提供这些实施例使得本描述将是彻底和完全的，且这些实施例将把本发明的范围充分地传达给本领域技术人员。在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。将被理解的是，当元件或层被称作“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“结合到”另一元件或层时,该元件或层可以直接在另一元件或层上、直接连接到或结合到另一元件或层，或者在该元件或层与另一元件或层之间可以存在中间元件或中间层。相反，当元件被称作“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一元件或层时，不存在中间元件或中间层。相同的标号始终表示相同的元件。如在这里使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关所列项的任意和所有组合。将被理解的是，尽管在这里可使用术语第一、第二、第三等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应该受这些术语的限制。这些术语仅是用来将一个元件、组件、区域、层或部分与另一个元件、组件、区域、层或部分区分开来。因此，在不脱离本发明的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可被称作第二元件、组件、区域、层或部分。为了便于描述，在这里可使用空间相对术语，如“在…之下”、“在…下方”、“下面的”、“在…上方”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个元件或特征与另一个元件或特征的关系。将理解的是，空间相对术语意在包含除了在附图中描述的方位之外的装置在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的装置被翻转，则描述为“在”其他元件或特征“下方”或“之下”的元件随后将被定位为“在”其他元件或特征“上方”。因而，示例性术语“在…下方”可包括“在…上方”和“在…下方”两种方位。所述装置可被另外定位(例如旋转90度或者在其他方位)，并对在这里使用的空间相对描述语做出相应的解释。这里使用的术语仅为了描述具体实施例的目的，而不意图限制本发明。如这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式“一个/ 一种”、“所述”也意图包括复数形式。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，说明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。在此参照作为理想实施例(和中间结构)的示意图的剖视图来描述实施例。这样，预计会出现例如由制造技术和/或公差引起的图示的形状的变化。因此，实施例不应该被解释为局限于在此示出的区域的具体形状，而将包括例如由制造导致的形状偏差。例如，示出为矩形的注入区域将通常在其边缘具有圆形或弯曲的特征和/或具有注入浓度的梯度，而不是从注入区域到非注入区域的二元变化。同样，通过注入形成的埋区会导致在埋区和通过其发生注入的表面之间的区域中的一些注入。因此，在图中示出的区域本质上是示意性的，它们的形状并不意图示出装置的区域的实际形状，也不意图限制本发明的范围。
除非另有定义，否则这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员所通常理解的意思相同的意思。还将理解的是，除非这里如此明确定义，否则术语(诸如在通用字典中定义的术语)应该被解释为具有与相关领域的环境中它们的意思一致的意思，而将不以理想的或者过于形式化的含义来解释它们。图1是示出了根据实施例的有机发光显示装置的剖视图，图2是示出了根据实施例的具有黑矩阵的基板的平面图。参照图1，根据实施例的有机发光显示装置100可包括第一基板110、黑矩阵120、偏振结构130、开关结构140、有机发光结构150、外围电路单元160、第二基板170和密封件180 等。在实施例中，开关结构140、有机发光结构150和外围电路单元160可设置在第一基板110的第一面和第二基板170之间，黑矩阵120可设置在第一基板110的第二面和偏振结构130之间。例如，当有机发光显示装置100具有底发射类型时，黑矩阵120可位于第一基板110的第二面上。另外，开关结构140、有机发光结构150和外围电路单兀160设置在第一基板110的第一面上。第一基板110可包括透明绝缘基板。例如，第一基板110可包括玻璃基板、石英基板和透明树脂基板等中的一种。在一些实施例中，第一基板110可包括柔性基板。参照图2，第一基板110可包括显示区域I和可基本上围绕或包围显示区域I的外围区域II。例如，外围区域II可遍及显示区域I的四侧延伸以围绕显示区域I。有机发光结构150可位于显示区域I中，包括外围电路的外围电路单元160可位于外围区域II中。凹陷115可在外围区域II中位于第一基板110的第二面上。在实施例中，凹陷115可完全覆盖外围区域II或可形成在整个外围区域II。在一些实施例中，凹陷115可基本上覆盖外围区域II的至少一部分。例如，当沿着与第二面垂直的方向观看时，凹陷115可具有各种形状例如基本上的矩形带形状、基本上的椭圆带形状、基本上的圆形带形状和基本上的多边形带形状等中的一种。当从第一基板110的第二面测量时，凹陷115可具有在大约3μπι至大约20 μ m范围内的深度。因此，可在显示区域I和外围区域II之间在第一基板110上产生台阶部。另外，凹陷115可具有大约5mm至大约15mm的宽度。因此，凹陷115的深度和宽度的比可在大约1:250至大约1:5000的范围内。黑矩阵120可设置在凹陷115中。例如，黑矩阵120可包括黑硅、炭黑等。在实施例中，黑矩阵120可具有与凹陷115的深度基本上相同的高度。黑矩阵120可基本上填充凹陷115，因此第一基板110的第二面和黑矩阵120的面可形成基本上平坦的面。即，在第一基板110的第二面和黑矩阵120的面之间可不形成台阶。在实施例中，黑矩阵120可完全填充凹陷115，使得黑矩阵120可具有在大约5mm至大约15mm范围内的宽度。因此，黑矩阵的高度和宽度的比可以是大约1:250至大约1:5000。S卩，黑矩阵120可具有与凹陷115的尺寸基本上相同或基本上相似的尺寸。在选择性实施例中，黑矩阵120可具有比凹陷115的深度小的高度。参照图1，偏振结构130可设置在第一基板110的第二面和黑矩阵120的面上。偏振结构130可位于由第一基板110和黑矩阵120形成的基本上水平的面上，使得在第一基板110和偏振结构130之间或在黑矩阵120和偏振结构130之间可以不产生空隙或气泡。在实施例中，偏振结构130可包括至少一个偏振层、延迟层、保护层和多个粘合层等。粘合层可包括位于第一基板110的第二面上和黑矩阵120的面上的粘合层135。粘合层135可包括压敏粘合剂。偏振结构130可减少或防止外部光的反射，从而改善有机发光显示装置100的可视性。当有机发光显示装置100具有有源矩阵类型时，有机发光显示装置100可包括在显示区域I中设置在第一基板Iio的第一面上的开关结构140。例如，开关结构140可包括开关元件(例如晶体管)和多个绝缘层。当开关元件包括薄 膜晶体管时，开关元件可包括栅电极、源电极、漏电极和有源层。有机发光结构150可在显示区域I中设置在开关结构140上。有机发光结构150可包括多个有机层。例如，有机发光结构150可包括空穴传输层、有机发光层和电子传输层等，有机发光层可包括产生红色光、绿色光和蓝色光中的至少一种光的有机材料或有机材料和无机材料的混合物。外围电路单元160可在外围区域II中设置第一基板110上。例如，外围电路单元160可包括例如栅极驱动电路、数据驱动电路、共电源线和驱动电源线的各种外围电路。夕卜围电路可接收来自外部部分的信号，并可将信号传输到有机发光结构150。在实施例中，夕卜围电路单元160可被设置为充分地覆盖外围区域II。在一些实施例中，外围电路单元160可被设置为基本上围绕或包围显示区域I。现在参照图1，第二基板170可位于第一基板110上方。S卩，第二基板170可基本上与第一基板110相对。第二基板170可包括透明绝缘基板或不透明绝缘基板。例如，第二基板170可包括例如玻璃基板、石英基板、透明树脂基板等的透明绝缘基板。可选择地，第二基板170可包括例如金属基板和金属氧化物基板等的不透明绝缘基板。密封件180可设置在第一基板110和第二基板170之间以结合第一基板110和第二基板170或将第一基板110和第二基板170互连。因此，密封件180可防止水蒸气或污染物渗入有机发光结构150中，这可以避免有机发光结构150中的有机层的劣化。尽管有机发光显示装置100可具有如图1中所示的底发射类型，但是本发明可以不限于上述构造。即，有机发光显示装置可具有顶发射类型。在实施例中，有机发光显示装置100可包括填充凹陷115的黑矩阵120，其中，凹陷115在外围区域II中设置在第一基板110的第二面上。黑矩阵120可用作光屏蔽层，因此黑矩阵120可屏蔽外围电路单元160。因此，可省略用于屏蔽外围电路单元160的另外的框架或另外的边框(bezel)。另外，黑矩阵120可位于第一基板110的凹陷115中，以防止在第一基板110和偏振结构130之间或黑矩阵120和偏振结构130之间产生空隙或气泡。因此，在可减少图像可视性的降低的同时，可增强有机发光显示装置100的机械强度。图3是示出了根据一些实施例的有机发光显示装置的剖视图，图4是示出了根据一些实施例的具有黑矩阵的基板的平面图。参照图3，有机发光显示装置102可包括第一基板112、黑矩阵121、偏振结构130、开关结构140、有机发光结构150、外围电路部分160、第二基板170和密封件180等。图3中示出的偏振结构130、开关结构140、有机发光结构150、外围电路部分160、第二基板170和密封件180可分别与参照图1描述的偏振结构130、开关结构140、有机发光结构150、外围电路部分160、第二基板170和密封件180基本上相同或基本上相似。因此，为简洁起见，可简化或省略其详细描述。参照图3和图4，第一基板112可包括透明绝缘基板。第一基板可包括显示区域I和可被设置为靠近显示区域I的至少一侧的外围区域II。尽管如图4中所示，外围区域II可邻近显示区域I的下侧和右侧，但是在选择性实施例中，外围区域II也可邻近显示区域I的上侧、左侧、下侧和右侧中的一侧。在其他的实施例中，外围区域II可邻近显示区域I的上侧、左侧、下侧和右侧中的两侧或三侧。在图4中所示的实施例中，外围区域II沿着下侧和右侧的整个长度延伸。 可选择地，外围区域II可沿着显示区域I的侧部的部分长度延伸。有机发光结构150可设置在显示区域I中，外围电路单元160可设置在外围区域II中。参照图3，凹陷116可在外围区域II中形成在第一基板112的第二面上。因此，凹陷116可靠近或邻近显示区域I的至少一侧。如上所述，凹陷116可邻近显示区域I的上侧、下侧、右侧和左侧中的一侧、两侧或三侧。黑矩阵121可填充凹陷116，从而靠近显示区域I的上侧、下侧、右侧和左侧中的至少一侧并基本上沿着显示区域I的上侧、下侧、右侧和左侧中的至少一侧延伸。因此，当沿着与第二面垂直的方向观看时，黑矩阵121可具有例如基本上的弯线形状、曲线形状和基本上的“U”形形状等的各种形状。在实施例中，黑矩阵121可具有与凹陷116的深度基本上相同的厚度。即，黑矩阵121可具有与凹陷116的尺寸基本上相同或基本上相似的尺寸。偏振结构130可设置在第一基板112的第二面和黑矩阵121上。如上所述，在偏振结构130和第一基板112之间或偏振结构130和黑矩阵121之间可以不产生空隙或气泡。在实施例中，有机发光显示装置102可包括填充凹陷116的黑矩阵121，其中，凹陷116可在外围区域II中设置在第一基板112的第二面上。与参照图1描述的有机发光显示装置100相比，参照图3描述的有机发光显示装置102可包括可沿着显示区域I的侧部部分地延伸的黑矩阵121。在这种情况下，可省略用于屏蔽外围电路单元160的另外的框架或另外的边框，并且在第一基板112和偏振结构130之间或在黑矩阵121和偏振结构130之间可以不出现空隙或气泡。图5至图8是示出了根据实施例的有机发光显示装置的制造方法的剖视图。参照图5,可提供具有显不区域I和外围区域II的第一基板110。如图2和图4中所示，外围区域II可与显示区域I的至少一侧接触。在实施例中，可在显示区域I中在第一基板110的第一面上顺序地形成开关结构140和有机发光结构150,可在外围区域II中在第一基板110的第一面上形成外围电路单元160。可在第一基板110的上方设置第二基板170以与第一基板110的第一面相对，可通过使用密封件180固定第一基板110和第二基板170，以完成有机发光显示装置的显示面板。参照图6，可去除第一基板110的部分以在第一基板110的第二面上形成凹陷115。在实施例中，凹陷115可形成在可接触显示区域I的至少一侧的外围区域II中。在这种情况下，凹陷115可具有例如基本上的线形形状、基本上的弯线形状、曲线形状和基本上的“U”形形状等的各种形状中的一种。在一些实施例中，凹陷115可形成在可完全围绕或包围显示区域I的四侧的外围区域II中。在这种情况下，凹陷115可具有例如基本上的矩形带形状、基本上的椭圆带形状、基本上的圆形带形状和基本上的多边形带形状等的各种平面形状。当第一基板110包括例如透明陶瓷基板、玻璃基板或石英基板的透明的无机基板时，可通过干蚀刻工艺或湿蚀刻工艺形成凹陷115。在实施例中，可在第一基板110的第二面上形成光致抗蚀剂图案或硬掩模，可使用光致抗蚀剂图案或硬掩模部分地蚀刻第一基板110以在外围区域II中形成凹陷115。 当第一基板110包括透明聚合物基板时，可通过干蚀刻工艺、湿蚀刻工艺或抛光工艺形成凹陷115。包括透明聚合物基板的第一基板110的机械强度可显著低于包括透明的无机基板的第一基板110的机械强度。因此，可通过执行抛光工艺以及蚀刻工艺在外围区域II中形成凹陷115。凹陷115可被形成为具有与外围区域II的宽度基本上相同的宽度。例如，凹陷115可具有大约5mm至大约15mm的宽度。凹陷115可具有在大约3 μ m至大约20 μ m范围内的深度，使得凹陷115的深度与宽度的比可以是大约1:250至大约1:5000。在实施例中，凹陷115的侧壁可与第一基板110的第二面基本上垂直。在一些实施例中，凹陷115的侧壁可相对于第一基板110的第二面具有预定的角度。即，凹陷115可具有相对于第一基板110以预定的角度倾斜的侧壁。参照图7，可在凹陷115中形成黑矩阵120。 在实施例中，可通过紫外(UV)墨印刷工艺形成黑矩阵120。例如，可通过用黑色紫夕KUV)墨填充凹陷115并照射具有预定波长的光以使黑色UV墨硬化来形成黑矩阵120。在这种情况下，黑矩阵120可被形成为具有各种平面形状，例如基本上的线形形状、基本上的弯线形状、曲线形状、基本上的“U”形形状、基本上的矩形带形状、基本上的椭圆带形状、基本上的圆形带形状和基本上的多边形带形状等。例如，黑色UV墨可包括黑硅或炭黑。可在相对低的温度下执行UV墨印刷工艺，使得在凹陷115中形成黑矩阵120的同时显示面板不会受到热损害。可选择地，可通过喷射印刷工艺形成黑矩阵120。黑矩阵120可被形成为具有与凹陷115的尺寸基本上相同或基本上相似的尺寸。因此，在黑矩阵120的暴露的面和第一基板110的第二面之间可以不形成台阶。参照图8，可在第一基板110的第二面和黑矩阵120上形成偏振结构130。在实施例中，可邻近第一基板110的第二面形成偏振结构130的粘合层135。粘合层135可包括压敏粘合剂，使得当对粘合层135施加压力时，偏振结构130可粘附到第一基板110和黑矩阵。因此，可完成有机发光显示装置。根据制造有机发光显示装置的方法的实施例，在第一基板110的第二面和黑矩阵120的暴露的面之间可以不形成台阶。因此，偏振结构130可粘附到第一基板110，而在它们之间不形成空隙或气泡。另外，可在相对低的温度下使用紫外(UV)墨印刷工艺形成黑矩阵120，而不对显示面板造成损害。根据实施例，在第一基板和偏振结构之间或在黑矩阵和偏振结构之间可以不形成空隙或气泡。因此，可改善有机发光显示装置的机械强度和可视性。根据实施例的有机发光显示装置可应用在常规的显示设备和各种新近的电子设备例如电子书、消费类产品等中。前述是实施例的举例说明，并不解释为对实施例进行限制。虽然已经描述了一些实施例，但是本领域的技术人员将容易地理解，在本质上不脱离本发明的新颖的教导和优点的情况下，能够在实施例中做出许多修改。因此，意图将所有这样的修改包括在本发明的如权利要求中限定的范围之内。在权利要求中，功能性限定意在覆盖这里被描述为执行所述功能的结构，并且不仅覆盖结构上的等同物而且覆盖等同的结构。因此，应该理解的是，前述是各种实施例的举例说明，并不被解释为局限于公开的特定实施例，并且对公开的实施例的修改以及其他实施例意图被包括在权利要求的范围之内。
权利要求
1.一种有机发光显示装置，所述有机发光显示装置包括: 第一基板，包括显示区域和靠近显示区域的至少一侧的外围区域； 有机发光结构，在显示区域中设置在第一基板的第一面的上方； 外围电路部分，在外围区域中设置在第一基板的第一面的上方； 凹陷，在外围区域中设置在第一基板的第二面上，所述第二面与第一面相反； 黑矩阵，设置在凹陷中；以及 偏振结构，设置在第一基板的第二面和黑矩阵的上方。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，凹陷具有5mm至15mm的宽度，凹陷的深度与凹陷的宽度的比是1:250至1:5000。
3.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，凹陷的深度与黑矩阵的厚度基本上相同。
4.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，黑矩阵包括黑硅或炭黑。
5.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，外围区域围绕显示区域。
6.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，其中，黑矩阵具有与凹陷的尺寸基本上相同的尺寸。
7.根据权利要求6所述的有机发光显示装置，其中，黑矩阵的表面和第一基板的第二面位于同一平面上。
8.根据权利要求6所述的有机发光显示装置，其中，当沿着与第二面垂直的方向观看时，黑矩阵具有从由线形形状、弯线形状、曲线形状、“U”形形状、矩形带形状、椭圆带形状、圆形带形状和多边形带形状组成的组中选择的形状。
9.根据权利要求1所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置还包括: 开关结构，在显示区域中设置在第一基板和有机发光结构之间； 第二基板，与第一基板相对；以及 密封件，将第一基板和第二基板互连。
10.一种制造有机发光显示装置的方法，所述方法包括: 提供显示面板，显示面板包括第一基板、设置在第一基板的第一面上方的有机发光结构和设置在第一基板的第一面上方的外围电路，显示面板具有显示区域和外围区域；部分地去除第一基板以在外围区域中在第一基板的第二面上形成凹陷； 在凹陷中形成黑矩阵；以及 在第一基板的第二面和黑矩阵的上方形成偏振结构。
11.根据权利要求10所述的方法，其中，外围区域靠近显示区域的至少一侧。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，外围区域围绕显示区域。
13.根据权利要求10所述的方法，其中，凹陷具有5mm至15mm的宽度，凹陷的深度与凹陷的宽度的比是1:250至1:5000。
14.根据权利要求10所述的方法，其中，黑矩阵具有与凹陷的尺寸基本上相同的尺寸。
15.根据权利要求10所述的方法，其中，当沿着与第二面垂直的方向观看时，黑矩阵被形成为具有从由线形形状、弯线形状、曲线形状、“U”形形状、矩形带形状、椭圆带形状、圆形带形状和多边形带形状组成的组中选择的形状。
16.根据权利要求14所述的方法， 其中，使用黑硅或炭黑形成黑矩阵。
17.根据权利要求10所述的方法，其中，第一基板包括透明的无机基板，通过使用干蚀刻工艺或湿蚀刻工艺形成凹陷。
18.根据权利要求10所述的方法，其中，第一基板包括透明聚合物基板，通过使用抛光工艺形成凹陷。
19.根据权 利要求10所述的方法，其中，黑矩阵的表面和第一基板的第二面位于同一平面上。
全文摘要
本发明公开了一种有机发光显示装置及其制造方法，所述有机发光显示装置包括第一基板、有机发光结构、外围电路、凹陷、黑矩阵和偏振结构。第一基板可包括显示区域和外围区域。外围区域可围绕显示区域或沿显示区域的至少一侧延伸。有机发光结构可在显示区域中设置在第一基板的第一面的上方。外围电路可在外围区域中设置在第一基板的第一面的上方。凹陷可在外围区域中设置在第一基板的第二面上。黑矩阵可设置在凹陷中。偏振结构可设置在第一基板的第二面和黑矩阵的上方。
文档编号H01L27/32GK103219358SQ20131002725
公开日2013年7月24日 申请日期2013年1月18日 优先权日2012年1月19日
发明者梁承要, 柳道亨 申请人:三星显示有限公司