一种基板处理装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种基板处理装置，该装置包括处理基板的处理设备，以及设置于所述处理设备入口处的气刀。本实用新型的基板处理装置，能够对要进入处理设备的基板进行吹扫，以尽量去除基板上的杂质。这样，最终进入处理设备的基板上几乎没有杂质，因此不会因杂质而导致后续对基板进行处理时发生不良，提高了产品质量。
【专利说明】一种基板处理装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及机械领域，具体涉及一种基板处理装置。
【背景技术】
[0002]目前，基板在进入刻蚀设备等处理设备时，通常要求基板上没有杂质，如果基板上存在杂质，由于杂质的阻挡，杂质下面的待刻蚀物无法被刻蚀掉从而会导致不良，所以通常需要提供洁净度较高的外部环境。但是，在基板进入处理设备前的运输过程中，由于存在设备的摩擦碎屑等，基板上经常会不可避免的落入杂质。
实用新型内容
[0003]有鉴于此，本实用新型的主要目的在于提供一种基板处理装置，以有效去除要进入处理设备的基板上的杂质。
[0004]为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的:
[0005]一种基板处理装置，该装置包括处理基板的处理设备，以及设置于所述处理设备入口处的气刀。
[0006]优选地，所述气刀与气体供应端通过导管相连。
[0007]优选地，所述气刀与所述气体供应端之间连接有控制气体通断的通气阀；和/或，所述气刀与所述气体供应端之间连接有改变所述导管中通过的气体流量的调压阀。
[0008]优选地，所述装置包含所述通气阀时，所述通气阀与控制该通气阀导通和关闭的控制器相连；所述装置包含所述调压阀时，所述调压阀与控制该调压阀的气体流量的所述控制器相连。
[0009]优选地，在所述气刀与所述气体供应端之间连接有所述通气阀和调压阀的情况下，在所述气体供应端与通气阀之间的导管上设置有所述调压阀，或在所述通气阀与气刀之间的导管上设置有所述调压阀。
[0010]优选地，在所述处理设备入口处还设置有用于监测所述处理设备的门的开启和关闭的传感器，该传感器与所述控制器相连，用于将所述门的开启或关闭的信号传送给所述控制器。
[0011]优选地，所述气刀设置于支撑架上或所述处理设备的门上。
[0012]本实用新型的基板处理装置，能够对要进入处理设备的基板进行吹扫，以尽量去除基板上的杂质。这样，最终进入处理设备的基板上几乎没有杂质，因此不会因杂质而导致后续对基板进行处理时发生不良，提高了产品质量。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型实施例的基板处理装置的示意图；
[0014]图2为图1中的基板处理装置的气刀的工作原理示意图；
[0015]附图标记说明:[0016]1、处理腔室(Process Chamber);3、基板；4、传送单兀(Transfer Module);5、加载互锁(Load Lock)单元；7、气刀；8、机械手；9、端(Port) 口 ；14、调压阀；15、通气阀；17、传感器；18、导管；20、门；21、气体供应端；22、电线；23、电源；24、控制器。
【具体实施方式】
[0017]目前常用的刻蚀设备通常包括图1中所示的处理腔室1、传送单元4、加载互锁单兀6。
[0018]机械手8能够将放置于端口 9中的基板3取出，并将取出的基板3经过加载互锁单元5的门20放置于加载互锁单元5中。之后，加载互锁单元5中的基板3会被传送单元4传送到处理腔室I中进行刻蚀等后续处理。
[0019]在实际应用中，可以在加载互锁单元5的入口处设置气刀7，由气刀7对要进入加载互锁单元5的基板3进行吹扫，以尽量去除基板3上的杂质。这样，最终进入处理腔室I的基板3上几乎没有杂质，因此不会因杂质而导致后续对基板3进行处理时发生不良，提高了产品质量。
[0020]气刀7的设置位置可以多种多样，如:设置在门20附近或门20上等。当然，气刀7也可以设置在单独的支撑架上。无论如何设置气刀7，只要气刀7能够对要进入加载互锁单元5的基板3进行吹扫，以尽量去除基板3上的杂质即可。
[0021]需要说明的是，本实用新型只是以刻蚀设备为例。实际上，无论是刻蚀设备还是其它的处理设备，都可以在该处理设备的入口处设置气刀7，由气刀7对要进入该处理设备的基板3进行吹扫，以尽量去除基板3上的杂质。
[0022]在实际应用中，可以基于图2所示对气刀7进行控制。图2中，气刀7通过导管18连接通气阀15，通气阀15则通过导管18连接气体供应端21。通气阀15可以通过电线22连接到电源23以及控制器24。当然，控制器24也可以通过电线22连接到电源23。
[0023]上述器件中，气体供应端21能够通过导管18提供气体；通气阀15能够根据控制器24的控制实现导通或关闭，当通气阀15导通时，气体供应端21所提供的气体通过通气阀15被传送到气刀7 ;当通气阀15关闭时，气体供应端21所提供的气体则截止于通气阀15而无法被传送到气刀7。
[0024]再有，还可以在加载互锁单元5的入口处(如加载互锁单元5附近)设置传感器17，并将传感器17通过电线22连接到电源23以及控制器24。传感器17能够监测门20的开启和关闭并向控制器24传导相应的信号，控制器24根据收到的信号控制通气阀15相应导通或关闭。比如:当门20开启时，传感器17监测到该情况并将相应的开启信号发送给控制器24，控制器24控制通气阀15导通，控制器24还可以根据基板3的搬送时间精确调整通气阀15导通的时间，此时气体供应端21所提供的气体通过气刀7吹向基板3。
[0025]在基板3被传送进加载互锁单元5的过程中，气刀7 —直处于工作状态，向基板3吹扫。之后，在基板3完全进入加载互锁单元5后，门20关闭，这时传感器17监测到该情况并将相应的关闭信号发送给控制器24，控制器24控制通气阀15关闭，气刀7停止工作。
[0026]当然，可以直接将气体供应端21与气刀7相连，但相比较这种连接方式，在气体供应端21与气刀7之间连接通气阀15，能够有效节省气体消耗。
[0027]为了对气刀7的吹扫进行更有效的控制，可以在气体供应端21与气刀7之间的气体通路上设置调压阀14，如:在气体供应端21与通气阀15之间的导管18上设置调压阀14，或在通气阀15与气刀7之间的导管18上设置调压阀14。另外，调压阀14可以通过电线22与控制器24相连，根据控制器24的控制改变通过的气体流量。
[0028]图2中，电源23可以是24V电源；控制器24可以是精控-定时程序控制器，能够精确设置通气阀15的开启与关闭时间；气体供应端21所提供的气体可以是纯净的氮气；传感器17可以是光电传感器；通气阀15可以是电磁阀。
[0029]需要说明的是，本实用新型的基板处理装置上，可以只安装通气阀15，或只安装调压阀14，也可以同时安装有通气阀15和调压阀14。当同时安装有通气阀15和调压阀14时，通气阀15和调压阀14的位置顺序可以互换。控制器24也可以是可编程控制器(PLC)、单片机系列及工控机等。另外，还可以在处理设备的入口处安装辅助超声清洗装置，由该辅助超声清洗装置对要进入处理设备的基板3进行清洗。
[0030]综上所述可见，本实用新型的基板处理装置，能够对要进入处理设备的基板进行吹扫，以尽量去除基板上的杂质。这样，最终进入处理设备的基板上几乎没有杂质，因此不会因杂质而导致后续对基板进行处理时发生不良，提高了产品质量。
[0031]以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用于限定本实用新型的保护范围。
【权利要求】
1.一种基板处理装置，其特征在于，该装置包括处理基板的处理设备，以及设置于所述处理设备入口处的气刀。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气刀与气体供应端通过导管相连。
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于， 所述气刀与所述气体供应端之间连接有控制气体通断的通气阀；和/或， 所述气刀与所述气体供应端之间连接有改变所述导管中通过的气体流量的调压阀。
4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于， 所述装置包含所述通气阀时，所述通气阀与控制该通气阀导通和关闭的控制器相连； 所述装置包含所述调压阀时，所述调压阀与控制该调压阀的气体流量的所述控制器相连。
5.根据权利要求3或4所述的装置，其特征在于，在所述气刀与所述气体供应端之间连接有所述通气阀和调压阀的情况下， 在所述气体供应端与通气阀之间的导管上设置有所述调压阀， 或在所述通气阀与气刀之间的导管上设置有所述调压阀。
6.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，在所述处理设备入口处还设置有用于监测所述处理设备的门的开启和关闭的传感器，该传感器与所述控制器相连，用于将所述门的开启或关闭的信号传送给所述控制器。
7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气刀设置于支撑架上或所述处理设备的门上。
【文档编号】H01L21/67GK203456425SQ201320483919
【公开日】2014年2月26日 申请日期:2013年8月8日 优先权日:2013年8月8日
【发明者】蒋会刚, 肖红玺, 刘华锋, 吴平, 谢海征, 高福亮, 林雨 申请人:北京京东方光电科技有限公司