干燥槽装置制造方法

文档序号:7029842阅读:154来源:国知局
干燥槽装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提出了一种干燥槽装置,用于干燥晶圆,包括:第一干燥槽,与第一干燥槽的一侧壁相连的水槽,与第一干燥槽的另一侧壁相连的第二干燥槽,第一干燥槽设有遮挡板,设于第一干燥槽外、并悬空位于遮挡板上方的除水单元,位于水槽、第一干燥槽以及第二干燥槽外的机械手臂;在第一干燥槽外添加除水单元,并将除水单元设于遮挡板上方,当遮挡板关闭时,除水单元能够对遮挡板的表面进行除水处理,从而避免在遮挡板打开时遮挡板上的水滴滴落至晶圆的表面,进而消除缺陷,提高晶圆的良率。
【专利说明】干燥槽装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体制造领域,尤其涉及一种干燥槽装置。
【背景技术】
[0002]在半导体制造领域过程中,进行湿法刻蚀之后需要对晶圆进行干燥处理。干燥处理首先是将所述晶圆在水槽中进行清洗,去除所述晶圆表面的废液或颗粒,接着是将所述晶圆移至干燥槽中进行气体烘干,达到将所述晶圆进行干燥的目的。
[0003]具体的,请参考图1,现有技术中干燥槽装置通常包括:水槽21、第一干燥槽22、第二干燥槽23以及机械手臂40,其中,所述第一干燥槽22的一侧壁与所述水槽21相固定,所述第一干燥槽22的另一侧壁与所述第二干燥槽23相固定;所述第一干燥槽22设有遮挡板50,用于遮挡外部落入的水滴等,所述遮挡板50可以打开和关闭。
[0004]所述干燥槽装置在使用过程中,晶圆10由所述机械手臂40先放入所述水槽21中进行冲洗,接着,所述晶圆10由所述机械手臂40移至所述第一干燥槽22中进行空气干燥,此时,另一片晶圆10也已经进入所述水槽21中进行清洗,在其清洗完毕后,由于所述第一干燥槽22里已经有晶圆10在进行干燥,因此所述机械手臂40再将另一片晶圆10移动至所述第二干燥槽23中进行清洗。由于所述机械手臂40从所述水槽21中带有水滴30,在所述机械手臂40从所述第一干燥槽22上方移动时,所述水滴30容易滴落在所述遮挡板50上,由于所述第一干燥槽22中有晶圆10进行干燥,此时的遮挡板50是关闭的。在所述晶圆10干燥完毕时,所述遮挡板50会打开将方便将所述晶圆10移出,然而所述遮挡板50上的水滴通常会滴落在所述晶圆10的表面,造成缺陷。
实用新型内容
[0005]本实用新型的目的在于提供一种干燥槽装置,能够避免水滴滴落在晶圆的表面,消除缺陷。
[0006]为了实现上述目的,本实用新型提出了一种干燥槽装置,包括:
[0007]水槽、第一干燥槽、第二干燥槽、机械手臂以及除水单元,其中,所述第一干燥槽的一侧壁与所述水槽相连,所述第一干燥槽的另一侧壁与所述第二干燥槽相连,所述第一干燥槽设有遮挡板,所述除水单元设于所述第一干燥槽外,并悬空位于所述遮挡板上方,所述机械手臂位于所述水槽、第一干燥槽以及第二干燥槽外。
[0008]进一步的,所述除水单元包括风刀、管路、气缸以及挡水盖,所述风刀通过所述管路与所述气缸相连,所述挡水盖位于所述第一干燥槽外。
[0009]进一步的,所述风刀上设有多个喷嘴。
[0010]进一步的,所述风刀的材质为聚丙烯。
[0011]进一步的,所述管路的材质为聚丙烯。
[0012]进一步的,所述挡水盖的材质为聚丙烯。
[0013]与现有技术相比,本实用新型的有益效果主要体现在:在第一干燥槽外添加除水单元,并将所述除水单元设于所述遮挡板上方,当所述遮挡板关闭时,所述除水单元能够对所述遮挡板的表面进行除水处理,从而避免在所述遮挡板打开时所述遮挡板上的水滴滴落至所述晶圆的表面,进而消除缺陷,提高晶圆的良率。
【专利附图】

【附图说明】
[0014]图1现有技术中干燥槽装置的结构示意图;
[0015]图2为本实用新型一实施例中干燥槽装置的结构示意图;
[0016]图3为本实用新型一实施例中除水单元除水时的结构示意图;
[0017]图4为本实用新型一实施例中除水单元除水完成后的结构示意图。
【具体实施方式】
[0018]下面将结合示意图对本实用新型的干燥槽装置进行更详细的描述,其中表示了本实用新型的优选实施例,应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型,而仍然实现本实用新型的有利效果。因此,下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道,而并不作为对本实用新型的限制。
[0019]为了清楚,不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中,不详细描述公知的功能和结构,因为它们会使本实用新型由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中,必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标,例如按照有关系统或有关商业的限制,由一个实施例改变为另一个实施例。另外,应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的,但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。
[0020]在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本实用新型。根据下面说明和权利要求书,本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
[0021]请参考图2,在本实施例中,提出了一种干燥槽装置,用于干燥晶圆100,所述装置包括:
[0022]水槽210、第一干燥槽220、第二干燥槽230、机械手臂400以及除水单元,其中,所述第一干燥槽220的一侧壁与所述水槽210相连,所述第一干燥槽220的另一侧壁与所述第二干燥槽230相连,所述第一干燥槽220设有遮挡板500,所述除水单元设于所述第一干燥槽220外,并悬空位于所述遮挡板500上方,所述机械手臂400位于所述水槽210、第一干燥槽220以及第二干燥槽230外。
[0023]其中,机械手臂400用于盛放和传输所述晶圆100,将所述晶圆100移入所述水槽210、第一干燥槽220以及第二干燥槽230之中,或者是将所述晶圆100从所述水槽210、第一干燥槽220以及第二干燥槽230之中移出;所述水槽210用于对所述晶圆100进行清洗;所述第一干燥槽220以及第二干燥槽230用于对所述晶圆100进行干燥,所述遮挡板500能够在所述第一干燥槽220对所述晶圆100进行干燥时关闭,并在所述晶圆100干燥完毕时打开,方便将所述晶圆100移出。
[0024]请参考图3和图4,在本实施例中,所述除水单元包括风刀620、管路610、气缸(图未示)以及挡水盖630,所述风刀620通过所述管路610与所述气缸相连,所述气缸用于提供流量为0.05mPa?0.1mPa干燥的N2,所述N2能够经由所述管路610和风刀620对所述遮挡板500的表面进行去除处理,将所述遮挡板500上的水滴300全部清除干净,避免所述遮挡板500在打开时水滴300滴落至所述晶圆100的表面,进而消除缺陷;所述挡水盖630位于所述第一干燥槽220外,其目的主要是在所述风刀620对所述遮挡板500清除完水滴300之后,所述遮挡板500需要打开时,所述风刀620能够移动至所述挡水盖630的下方,避免所述机械手臂400上有水滴300滴落至所述风刀620上,如图4所示。
[0025]在本实施例中,所述风刀620上设有多个喷嘴,干燥的N2由所述喷嘴喷向所述遮挡板500的表面,所述风刀620、管路610以及挡水盖630的材质为聚丙烯。
[0026]需要指出的是,所述除水单元能够采用自动模式和手动模式操作,两种模式能够相互转换。
[0027]综上,在本实用新型实施例提供的干燥槽装置中,在第一干燥槽外添加除水单元,并将所述除水单元设于所述遮挡板上方,当所述遮挡板关闭时,所述除水单元能够对所述遮挡板的表面进行除水处理,从而避免在所述遮挡板打开时所述遮挡板上的水滴滴落至所述晶圆的表面,进而消除缺陷,提闻晶圆的良率。
[0028]上述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不对本实用新型起到任何限制作用。任何所属【技术领域】的技术人员,在不脱离本实用新型的技术方案的范围内,对本实用新型揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动,均属未脱离本实用新型的技术方案的内容,仍属于本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种干燥槽装置,用于干燥晶圆,其特征在于,所述装置包括: 水槽、第一干燥槽、第二干燥槽、机械手臂以及除水单元,其中,所述第一干燥槽的一侧壁与所述水槽相连,所述第一干燥槽的另一侧壁与所述第二干燥槽相连,所述第一干燥槽设有遮挡板,所述除水单元设于所述第一干燥槽外,并悬空位于所述遮挡板上方,所述机械手臂位于所述水槽、第一干燥槽以及第二干燥槽外。
2.如权利要求1所述的干燥槽装置,其特征在于,所述除水单元包括风刀、管路、气缸以及挡水盖,所述风刀通过所述管路与所述气缸相连,所述挡水盖位于所述第一干燥槽外。
3.如权利要求2所述的干燥槽装置,其特征在于,所述风刀上设有多个喷嘴。
4.如权利要求2所述的干燥槽装置,其特征在于,所述风刀的材质为聚丙烯。
5.如权利要求2所述的干燥槽装置,其特征在于,所述管路的材质为聚丙烯。
6.如权利要求2所述的干燥槽装置,其特征在于,所述挡水盖的材质为聚丙烯。
【文档编号】H01L21/67GK203553116SQ201320717938
【公开日】2014年4月16日 申请日期:2013年11月14日 优先权日:2013年11月14日
【发明者】董明, 肖方, 钱文明, 喻畅, 沈雪松 申请人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
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