量子点膜、其制作方法及显示器件与流程

本发明涉及光学
技术领域：
，具体而言，涉及一种量子点膜、其制作方法及显示器件。
背景技术：
：随着科学技术的不断发展，人们对显示器画质的要求不断提升，QLED(量子点发光二极管)显示以其高的色彩纯度、色饱和度和广色域被认为是未来最具代表性的显示技术。目前QLED器件主要利用溶液法制程来制作，如喷墨打印、丝网印刷、旋涂、狭缝涂布等，由于显示的像素非常小，目前子像素的涂布一般利用喷墨打印工艺来进行选择性涂布，即在有像素隔离结构构筑的RGB子像素凹槽内，利用喷嘴依次打印R、G、B量子点墨水。由于目前蓝光QLED器件的效率较低，直接利用量子点构筑RGB显示的QLED器件还有一定难度，而传统的LED与OLED的蓝光发展较为成熟，因此可以利用量子点的RG光致结合LED或者OLED电致蓝光来实现RGB显示的方式，短期内可以较快实现。另一方面，利用黄光工艺制作的像素隔离结构工艺复杂、造价昂贵，而精密的喷墨打印设备投入同样高昂，为新技术的推广增加了难度。技术实现要素：本发明的主要目的在于提供一种量子点膜、其制作方法及显示器件，以解决现有技术中利用黄光工艺制作的像素隔离结构工艺复杂且造价昂贵的问题。为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种量子点膜的制作方法，包括以下步骤：步骤S1，在透光基板的第一表面上形成亲水区域和疏水区域；步骤S2，将具有多个镂空部的表面改性掩模板设置于第一表面上，并使表面改性掩模板中的镂空部对应亲水区域或疏水区域设置，表面改性掩模板具有改性表面，改性表面包括第一改性表面和第二改性表面，第一改性表面围绕镂空部，第一改性表面之外的改性表面为第二改性表面，第一改性表面和第二改性表面不同且分别选自亲水性表面和疏水性表面中的一种，且第一改性表面位于表面改性掩模板的远离第一表面的一侧；步骤S3，第一改性表面为疏水性表面，使疏水性的量子点墨水通过镂空部进入疏水区域中，或第一改性表面为亲水性表面，使亲水性的量子点墨水通过镂空部进入亲水区域中；步骤S4，将亲水区域或疏水区域中的量子点墨水干燥。进一步地，步骤S1包括：步骤S11，在透光基板的表面设置包括第一反应原料的原料；步骤S12，遮盖位于第一区域的第一反应原料，并对位于第二区域的第一反应原料进行紫外光照射，第一反应原料在第二区域形成第二遮盖区域；步骤S13，去除第一区域的第一反应原料，在第一区域和第二遮盖区域上设置第二反应原料；步骤S14，遮盖位于第二遮盖区域的第二反应原料，并对位于第一区域的第二反应原料进行紫外光照射，第二反应原料在第一区域形成第一遮盖区域，然后去除第二遮盖区域上的第二反应原料，其中，第一反应原料和第二反应原料分别选自亲水性反应物和疏水性反应物中的一种，且二者的亲疏水性能相反，第一遮盖区域和第二遮盖区域对应形成亲水区域和疏水区域。进一步地，制作方法还包括制备表面改性掩模板的过程：步骤S01，将掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，以使疏水性材料固定于掩模板的表面，优选疏水性材料为含氟的硅烷偶联剂；步骤S02，将固定有疏水性材料的掩模板与溶液分离，并对掩模板进行干燥处理；步骤S03，将第一光罩设置于掩模板上，第一光罩由多个第一遮挡部以及连接各第一遮挡部的第一透光部组成，第一遮挡部与镂空部一一对应，且一一对应的各第一遮挡部的面积大于各镂空部的面积，通过第一光罩对掩模板进行紫外线臭氧光解氧化，以使掩模板的对应第一透光部的表面形成具有亲水性的第二改性表面，掩模板的其余表面构成具有疏水性的第一改性表面；或将第二光罩设置于掩模板上，第二光罩由多个第二透光部以及连接各第二透光部的第二遮挡部组成，且第二透光部与镂空部一一对应，且一一对应的各第二透光部的面积大于各镂空部的面积，对掩模板进行紫外线臭氧光解氧化，以使掩模板的对应第二透光部的表面形成具有亲水性的第一改性表面，掩模板的其余表面构成具有疏水性的第二改性表面。进一步地，步骤S3采用喷涂工艺或喷墨打印工艺以使量子点墨水通过镂空部进入亲水区域或疏水区域中。进一步地，喷涂工艺为超声喷涂。进一步地，在第一表面上形成多个亲水区域和多个疏水区域，且各亲水区域和各疏水区域交替排列。进一步地，亲水性的量子点墨水包括亲水性量子点，且亲水性量子点为表面配体含亲水基团的量子点；疏水性的量子点墨水包括疏水性量子点，且疏水性量子点为表面配体含疏水基团的量子点。进一步地，量子点墨水中的量子点为红色量子点和/或绿色量子点。根据本发明的另一方面，提供了一种量子点膜，量子点膜由上述的制作方法制作而成。根据本发明的另一方面，还提供了一种显示器件，显示器件包括电致发光器件以及设置于电致发光器件出光侧的量子点膜，量子点膜为上述的量子点膜。应用本发明的技术方案，提供了一种量子点膜的制作方法，由于该制作方法通过在透光基板的第一表面上形成亲水区域和疏水区域，并将表面改性掩模板设置于透光基板的第一表面上，使镂空部对应亲水区域或疏水区域设置，从而不仅能够通过表面改性掩模板使不同的量子点墨水进入到不同的像素区域中，还能够通过透光基板上的亲水区域和疏水区域在透光基板的表面形成多个被分隔开的子像素区域，使亲水性量子点墨水进入亲水区域，疏水区域作为隔离结构，或使疏水性的量子点墨水进入疏水区域，亲水区域作为隔离结构，从而有效地防止了不同子像素区域间的量子点墨水混色，进而也有效地解决了不同子像素区域内量子点墨水混色而降低色彩精准性的问题；并且，相比在透明基板上设置像素隔离结构的制作方法，本申请的上述制作方法不仅能够同样地使墨水注入所需的子像素区域，同时还降低了量子点膜的制作成本。除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本发明作进一步详细的说明。附图说明构成本发明的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：图1示出了本发明实施方式所提供的电致发光器件的制作方法的流程示意图；以及图2示出了本发明实施方式所提供的一种表面改性掩模板的俯视结构示意图。其中，上述附图包括以下附图标记：10、镂空部；20、改性表面；210、第一改性表面；220、第二改性表面。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。为了使本
技术领域：
的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。正如
背景技术：
中所介绍的，现有技术中在基板上喷墨打印制备子像素前，需先利用光刻工艺制备像素隔离结构，以避免相邻子像素的墨水发生混色，但是像素隔离结构的制备与精密的喷墨打印设备都代价高昂。本申请的发明人针对上述问题进行研究，提出了一种量子点膜的制作方法，如图1所示，包括以下步骤：步骤S1，在透光基板的第一表面上形成亲水区域和疏水区域；步骤S2，将具有多个镂空部的表面改性掩模板设置于第一表面上，并使表面改性掩模板中的镂空部对应亲水区域或疏水区域设置，表面改性掩模板具有改性表面，改性表面包括第一改性表面和第二改性表面，第一改性表面围绕镂空部，第一改性表面之外的改性表面为第二改性表面，第一改性表面和第二改性表面不同且分别选自亲水性表面和疏水性表面中的一种，且第一改性表面位于表面改性掩模板的远离第一表面的一侧；步骤S3，第一改性表面为疏水性表面，使疏水性的量子点墨水通过镂空部进入疏水区域中，或第一改性表面为亲水性表面，使亲水性的量子点墨水通过镂空部进入亲水区域中；步骤S4，将亲水区域或疏水区域中的量子点墨水干燥。本发明的上述量子点膜的制作方法中由于在透光基板的第一表面上形成亲水区域和疏水区域，并将表面改性掩模板设置于透光基板的第一表面上，使镂空部对应亲水区域或疏水区域设置，从而不仅能够通过表面改性掩模板使不同的量子点墨水进入到不同的像素区域中，还能够通过透光基板上的亲水区域和疏水区域在透光基板的表面形成多个被分隔开的子像素区域，使亲水性量子点墨水进入亲水区域，疏水区域作为隔离结构，或使疏水性的量子点墨水进入疏水区域，亲水区域作为隔离结构，从而有效地防止了不同子像素区域间的量子点墨水混色，进而也有效地解决了不同子像素区域内量子点墨水混色而降低色彩精准性的问题；并且，相比在透明基板上设置像素隔离结构的制作方法，本申请的上述制作方法不仅能够同样地使墨水注入所需的子像素区域，同时还降低了量子点膜的制作成本。下面将更详细地描述根据本发明提供的量子点膜的制作方法的示例性实施方式。然而，这些示例性实施方式可以由多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施方式。应当理解的是，提供这些实施方式是为了使得本申请的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施方式的构思充分传达给本领域普通技术人员。首先，执行步骤S1：在透光基板的第一表面上形成亲水区域和疏水区域。在一种优选的实施方式中，在第一表面上形成多个亲水区域和多个疏水区域，且各亲水区域和各疏水区域交替排列。采用上述优选的实施方式能够在透光基板的第一表面上形成多个相互隔离的子像素区域，从而使不同颜色的量子点墨水分别进入到不同的子像素区域中，并使具有该量子点的膜在蓝色背光的照射下能够形成发光阵列，从而制得量子点彩膜实现RGB的全彩显示。在一种优选的实施方式中，步骤S1包括：步骤S11，在透光基板的表面设置包括第一反应原料的原料；步骤S12，遮盖位于第一区域的第一反应原料，并对位于第二区域的第一反应原料进行紫外光照射，第一反应原料在第二区域形成第二遮盖区域；步骤S13，去除第一区域的第一反应原料，在第一区域和第二遮盖区域上设置第二反应原料；步骤S14，遮盖位于第二遮盖区域的第二反应原料，并对位于第一区域的第二反应原料进行紫外光照射，第二反应原料在第一区域形成第一遮盖区域，然后去除第二遮盖区域上的第二反应原料，其中，第一反应原料和第二反应原料选择亲水性反应物和疏水性反应物，且二者的亲疏性能相反，第一遮盖区域和第二遮盖区域对应亲水区域和疏水区域。在上述优选的实施方式中，上述包括第一反应原料的原料还可以包括溶剂、偶联剂和引发剂。此时，上述步骤S11包括以下过程：A、将偶联剂和引发剂在溶剂中混合，形成基板处理液；B、将透光基板的至少一侧表面放置于基板处理液中，使偶联剂键合固定在透光基板的表面上并形成键合表面；C、将第一反应原料设置于键合表面。在上述步骤S12中，通过对位于第二区域的第一反应原料进行紫外光照射，以使第一反应原料与偶联剂在紫外照射下进行接枝反应，从而形成上述第二遮盖区域；在上述步骤S14中，通过对位于第一区域的第二反应原料进行紫外光照射，以使第二反应原料与偶联剂在紫外照射下进行接枝反应，从而形成上述第一遮盖区域。在上述优选的实施方式中，去除第一区域的第一反应原料的过程可以包括：用溶剂洗去第一区域上的第一反应原料，然后对透光基板的表面进行干燥处理；同样地，去除第二遮盖区域上的第二反应原料的过程包括：用溶剂洗去第二遮盖区域上的第二反应原料，然后对透光基板的表面进行干燥处理。本领域技术人员可以根据现有技术上述清洗工艺和干燥处理的工艺条件进行设定。为了使第一反应原料与偶联剂之间以及第二反应原料与偶联剂更好地进行接枝反应，优选地，上述偶联剂的通式为(X1-X2-X3-)Si-Y，其中，Y为带有乙烯基的基团或末端带SH基的烃基，X1、X2和X3分别独立地选自Cl、CH3、OCH3、OCH2CH3和CH2CH3中的任一种，且X1、X2和X3不同时为烃基；上述第一反应原料和第二反应原料的通式为A-B，其中，A为带有乙烯基的基团，此时Y为末端带SH基的烃基，或A为末端带SH基的烃基，此时Y为带有乙烯基的基团，B为带亲水基团的残基，此时第一反应原料或第二反应原料为亲水性反应物，优选亲水基团为磺酸基、胺基、羟基、羧基和氨基中的任一种或多种，或B为带疏水基团的残基，此时第一反应原料或第二反应原料为疏水性反应物，优选亲水基团为烃基、酯基、卤素和硝基中的任一种或多种。在执行步骤S1之后，执行步骤S2：将上述的表面改性掩模板设置于第一表面上，表面改性掩模板中的镂空部10对应亲水区域或疏水区域设置，表面改性掩模板具有改性表面20，改性表面20包括第一改性表面210和第二改性表面220，第一改性表面210围绕镂空部10，第一改性表面210之外的改性表面20为第二改性表面220，且第一改性表面210和第二改性表面220分别具有亲水性和疏水性，上述表面改性掩模板如图2所示。为了在后续步骤S3中使亲水性墨水或疏水性墨水通过表面改性掩模板的镂空部10更准确地进入透光基板的亲水性或疏水性子像素区域中，优选地，表面改性掩模板中镂空部10的面积≤对应的亲水区域或疏水区域的面积，更为优选地，镂空部10与对应的亲水区域或疏水区域的形状一致。在一种优选的实施方式中，上述制作方法还包括制备上述表面改性掩模板的过程：步骤S01，将掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，以使疏水性材料固定于掩模板的表面；步骤S02，将固定有疏水性材料的掩模板与溶液分离，并对掩模板进行干燥处理；步骤S03，将第一光罩设置于掩模板的第一表面上，第一光罩由多个第一遮挡部以及连接各第一遮挡部的第一透光部组成，第一遮挡部与镂空部10一一对应，且各第一遮挡部的面积大于与其对应的各镂空部10的面积，通过第一光罩对第一表面进行紫外线臭氧光解氧化，再对掩模板的与第一表面相对的第二表面进行紫外线臭氧光解氧化，以形成具有亲水性的第二改性表面220，掩模板的其余表面构成具有疏水性的第一改性表面210；或将第二光罩设置于掩模板上，第二光罩由多个第二透光部以及连接各第二透光部的第二遮挡部组成，且第二透光部与镂空部10一一对应，且一一对应的各第二透光部的面积大于各镂空部10的面积，对掩模板进行紫外线臭氧光解氧化，以使掩模板的对应第二透光部的表面形成具有亲水性的第一改性表面210，掩模板的其余表面构成具有疏水性的第二改性表面220。在上述制备表面改性掩模板的步骤中，掩模板一般由金属材料制成，由于金属表面的氧化层与水能很好的亲和，所以大部分金属表面都是亲水的，此处优选亲水的金属材料或其他亲水性耐紫外老化的材料；并且，为了使制备而成的表面改性掩模板具有更好的疏水性，优选疏水性材料为含氟的硅烷偶联剂。通过对疏水性材料进行紫外线臭氧光解氧化，以将疏水的含氟硅烷偶联剂去除露出亲水性的金属表面，上述紫外线臭氧光解氧化的工艺条件本领域技术人员可以根据现有技术进行设定。在执行步骤S2之后，执行步骤S3：第一改性表面210为疏水性表面，使疏水性的量子点墨水通过镂空部10进入疏水区域中，或第一改性表面210为亲水性表面，使亲水性的量子点墨水通过镂空部10进入亲水区域中。可以采用喷涂工艺或喷墨打印工艺以使量子点墨水通过镂空部10进入亲水区域或疏水区域中，优选上述量子点墨水的粘度≤50cps，从而使量子点墨水更好地分散出墨落入子像素区域中；并且，为了保证喷头能有效的将量子点墨水雾化开，优选地，上述喷涂工艺为超声喷涂，而为了提高量子点墨水的喷涂效果，优选超声喷涂采用的超声频率为45kHz～180kHz，优选量子点墨水的粘度≤10cps。上述亲水性墨水包括亲水性量子点，且亲水性量子点为表面配体含亲水基团的量子点，优选亲水基团为羧基、氨基、羟基或巯基；上述疏水性墨水包括疏水性量子点，且疏水性量子点为表面配体含疏水基团的量子点，优选疏水基团为烷烃链或酯基；为了使电致光致结合的发光器件能够全彩显示，优选上述量子点墨水中的量子点为红色量子点和绿色量子点。上述亲水性和疏水性量子点墨水还可以包括可固化树脂或其单体以及溶剂(或称作分散剂)。其中，溶剂可以选自沸点为40～250℃之间的长链烃、醇、酯和醚的混合物作为有机溶剂。优选地，烃为直链或支链烷烃，例如，烃为C6-10烷烃。上述有机溶剂可以为氯苯、邻二氯苯、四氢呋喃、苯甲醚、吗啉、甲苯、邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、烷基苯、硝基苯、正己烷、环己烷、正庚烷、环庚烷、二氧六环、二氯甲烷、三氯甲烷、二氯乙烷、氯仿、氯苯、1,4二氧杂环己烷、1,2二氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2,2-四氯乙烷、四氢萘、萘烷、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜氯仿、四氢呋喃、二氯甲烷、甲苯、正己烷、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、丙酮、二氧六环、二甲基甲酰胺和二甲基亚砜。其中，可固化树脂选自环氧树脂、丙烯酸树脂、有机硅树脂，或者对应的单体交联形成可固化树脂。上述亲水性和疏水性量子点墨水中还可以包括带双键的交联剂，光固化剂或热固化剂等。在执行步骤S3之后，执行步骤S4：将亲水区域或疏水区域中的量子点墨水干燥。对上述量子点墨水干燥的工艺条件本领域技术人员可以根据现有技术进行设定。在一种优选的实施方式中，制作方法还包括至少重复一次步骤S2至S4的过程，各次重复过程中，所采用的表面改性掩模板的镂空部对应亲水区域或疏水区域，所采用的量子点墨水的发光颜色也不同。在上述优选地实施方式中，通过使各子像素区域中设置不同发光颜色的量子点墨水并干燥，以调整电致发光器件最终的发光颜色；并且，通过分别在不同的子像素区域中设置红色量子点和绿色量子点，在蓝色背光的照射下，该量子点膜能实现红色和绿色的光致发光，从而实现RGB的全彩显示。根据本申请的另一个方面，还提供了一种量子点膜，该量子点膜由上述的制作方法制作而成。由于上述量子点膜是通过在透光基板的第一表面上形成亲水区域和疏水区域，并将上述的表面改性掩模板设置于透光基板的第一表面上，使镂空部对应亲水区域或疏水区域设置而形成的，从而不仅能够通过表面改性掩模板使不同的量子点墨水进入到不同的子像素区域中，还能够通过透光基板上的亲水区域和疏水区域在透光基板的表面形成多个被分隔开的子像素区域，使亲水性量子点墨水进入亲水区域，疏水区域作为隔离结构，或使疏水性的量子点墨水进入疏水区域，亲水区域作为隔离结构，有效地防止了量子点膜中不同子像素区域间的量子点混色；并且，相比在透明基板上设置像素隔离结构而形成的量子点膜，上述量子点膜能够具有更低的制作成本。根据本申请的另一个方面，还提供了一种显示器件，显示器件包括电致发光器件以及设置于电致发光器件出光侧的上述量子点膜。由于上述显示器件中的量子点膜是通过在透光基板的第一表面上形成亲水区域和疏水区域，并将上述的表面改性掩模板设置于透光基板的第一表面上，使镂空部对应亲水区域或疏水区域设置而形成的，从而通过防止量子点膜中不同像素区域间的量子点混色，有效地提高了具有该量子点膜的显示器件色彩精准性的问题。为了防止在电致发光器件照射量子点膜时量子点膜中相邻子像素区域间的混光，优选地，在量子点膜中的透光基板的与第一改性表面相对的第二改性表面或与第二改性表面贴合的蓝色背光出光侧上设置黑色矩阵，当亲水性的量子点墨水进入亲水区域中时，黑色矩阵与疏水区域对应设置，当疏水性的量子点墨水进入疏水区域中时，黑色矩阵与亲水区域对应设置。下面将结合实施例进一步说明本发明提供的量子点膜的制作方法。实施例1本实施例提供的表面改性掩模板的制作方法的步骤包括：步骤S01，将掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，上述疏水性材料为十七氟癸基三甲氧基硅烷，以使疏水性材料固定于掩模板的表面；步骤S02，将固定有疏水性材料的掩模板与溶液分离，并将掩模板干燥；步骤S03，将第一光罩设置于具有96×64个镂空部的掩模板的第一表面上，第一光罩由96×64个第一遮挡部以及连接各第一遮挡部的第一透光部组成，第一遮挡部与镂空部一一对应，且一一对应的各第一遮挡部的面积大于各镂空部的面积，采用UV灯发出185nm和254nm波长的紫外光并使紫外光通过第一光罩对第一表面进行5min的紫外线臭氧光解氧化，再采用UV灯发出185nm和254nm波长的紫外光对掩模板的与第一表面相对的第二表面进行5min的紫外线臭氧光解氧化，以将光照射到的表面形成亲水性表面，掩模板的其余表面构成疏水性表面，疏水性表面围绕镂空部。实施例2本实施例提供的表面改性透光基板的制作方式如下：将偶联剂和引发剂在溶剂中混合，形成基板处理液，将透光基板的一侧表面放置于基板处理液中，使偶联剂键合固定在透光基板的表面上并形成键合表面，将第一反应原料设置于键合表面上，遮盖位于第一区域的第一反应原料，并对位于第二区域的第一反应原料进行紫外照射，以使第一反应原料与偶联剂在紫外照射下进行接枝反应，从而形成疏水区域，去除第一区域的第一反应原料，在第一区域和第二遮盖区域上设置第二反应原料，遮盖位于第二遮盖区域的第二反应原料，并对位于第一区域的第二反应原料进行紫外照射，以使第二反应原料与偶联剂在紫外照射下进行接枝反应，从而形成亲水区域；其中，透光基板为玻璃，偶联剂为氯(二甲基)乙烯基硅烷，引发剂为4-二甲基吡啶，第一反应原料1H,1H,2H,2H-全氟癸硫醇，第二反应原料巯基乙胺，疏水性的第二区域对应两组96×64的微阵列图案。实施例3本实施例提供的量子点膜的制作方法，采用实施例1中的表面改性掩模板和实施例2中的表面改性透光基板，制作方法包括以下步骤：步骤S1，将表面改性掩模板设置于第一表面上，表面改性的96×64个镂空部与疏水区域的其中一组96×64个微阵列图案对应；步骤S2，采用喷墨打印(型号为DimatixMaterialsPrinterDMP-2831)工艺使疏水性的红色量子点墨水通过镂空部进入疏水区域中；步骤S3，将疏水区域中的量子点墨水干燥，步骤S4，将表面改性掩模板设置于第一表面上，表面改性的96×64个镂空部与疏水区域的另一组96×64个微阵列图案对应；步骤S5，采用喷墨打印(型号为DimatixMaterialsPrinterDMP-2831)工艺使疏水性的绿色量子点墨水通过镂空部进入疏水区域中；步骤S3，将疏水区域中的量子点墨水干燥，其中，红色与绿色量子点墨水的粘度均为15cps，红色量子点材料为CdSe/ZnS，绿色量子点材料为CdSe/CdS，两者表面的疏水配体都为油酸。实施例4本实施例提供的制作方法与实施例3的区别在于：喷墨打印采用的红色和绿色量子点墨水的粘度为5cps。实施例5本实施例提供的制作方法与实施例3的区别在于：采用超声喷涂使疏水性的红色量子点墨水和绿色量子点墨水通过镂空部进入疏水区域中，上述超声喷涂工艺中的超声频率为120kHz。实施例6本实施例提供的制作方法与实施例5的区别在于：超声喷涂工艺中的超声频率为45kHz。对比例1本对比例提供的量子点膜的制作方法的步骤包括：步骤S1，在透光基板的第一表面上涂覆光刻胶，然后依次进行曝光和显影，以形成像素隔离结构，像素隔离结构具有两组96×64个相互隔离的子像素区域，且像素隔离结构的裸露表面为亲水性表面，像素隔离结构中隔离基体的相邻侧壁与基板垂直，相邻的侧壁之间的隔离基体为隔离条，且隔离条的远离基板的一侧表面为平面；步骤S2，将表面改性的掩模板设置于第一表面上，掩模板的96×64个镂空部与一组子像素区域对应；步骤S3，采用喷墨打印工艺使疏水性的红色量子点墨水通过镂空部进入疏水区域中；步骤S4，将疏水区域中的红色量子点墨水干燥；步骤S5，表面改性的掩模板设置于第一表面上，掩模板的96×64个镂空部与另一组子像素区域对应；步骤S6，采用喷墨打印工艺使疏水性的绿色量子点墨水通过镂空部进入疏水区域中；步骤S7，将疏水区域中的绿色量子点墨水干燥，其中，透光基板为玻璃，形成上述裸露表面的材料为聚酰亚胺，红色量子点材料墨水包括CdSe/ZnS，绿色量子点材料包括CdSe/CdS，量子点材料墨水的粘度为15cps。对比例2本对比例提供的制作方法与对比例1的区别在于，通过分别旋涂红色、绿色量子点材料，多次曝光显影得到红色绿色相间的量子点膜，具体步骤为：步骤S1，在有像素隔离结构的透光基板上旋涂红色量子点材料，然后对设置有红色量子点材料的透光基板依次进行烘烤处理、曝光处理、显影处理和干燥处理；步骤S2，在上述基板上旋涂绿色量子点材料，然后对设置有绿色量子点材料的透光基板依次进行烘烤处理、曝光处理、显影处理和干燥处理，其中，步骤S1和步骤S2分别得到96×64个红色量子点阵列和96×64个绿色量子点阵列。分别将上述实施例3至6和对比例1至2中的量子点膜施加密封保护层后，设置于蓝色电致发光器件(BLED)的出光侧，电致发光器件包括顺序层叠环氧树脂封装的蓝色LED灯珠和光扩散板。利用积分球对红色和绿色量子点的光致发光光谱面积进行积分，得到红色和绿色量子的光致发光效率分别如下：实施例编号红色量子点光致效率绿色量子点光致效率实施例341％32％实施例446％36％实施例545％37％实施例643％33％对比例144％35％对比例242％31％从上述测试结果可以看出，本发明的实施方式得到的红色量子点和绿色量子点膜的光致发光效率与传统工艺相当，甚至还有所提高，但制造成本却大为降低。从以上的描述中，可以看出，本发明上述的实施例实现了如下技术效果：1、利用本发明的表面改性掩模板制备量子点膜时，能够通过使量子点墨水与围绕镂空部的第一改性表面具有相同的亲疏水性，使量子点墨水在通过镂空部进入对应的子像素区域中不会粘附在表面改性掩模板上，从而有效地防止了由于墨水粘附在掩模板上而导致进入各子像素区域中的墨水量不均，进而有效地避免了由于各子像素区域中的墨水量不均而导致的色彩精准性降低的问题；2、通过透光基板上的亲水区域和疏水区域在透光基板的表面形成多个被分隔开的子像素区域，使亲水性量子点墨水进入亲水区域，疏水区域作为隔离结构，或使疏水性的量子点墨水进入疏水区域，亲水区域作为隔离结构，从而有效地防止了不同子像素区域间的量子点墨水混色，进而也有效地解决了不同子像素区域内量子点墨水混色而降低色彩精准性的问题；3、相比在透明基板上设置像素隔离结构的制作方法，本申请的上述制作方法不仅能够同样地使墨水注入所需的子像素区域，同时还降低了量子点膜的制作成本。以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。当前第1页1 2 3