1.一种通过激光烧蚀工序蚀刻电极的方法，其通过激光辐照来除去形成在电极表面上的一部分活性材料膜，所述方法包括
在所述蚀刻之前加热电极。
2.权利要求1的蚀刻电极的方法，其中，
所述活性材料膜是正极活性材料膜，其由选自由如下构成的组中的至少一种构成：LiCoO2；LiMnxO2x，其中x为1或2；LiFePO4；LiNi1/3Co1/3Mn1/3O2；和LiNi1-xCoxMyO2，其中x为0至0.2，M为选自由Mg、Ca、Sr、Ba和La构成的组中的至少一种元素，并且y为0.001至0.02。
3.权利要求1的蚀刻电极的方法，其中，
所述活性材料膜为负极活性材料膜，其由选自由石墨、硅基化合物、含锗材料和含锡材料构成的组中的至少一者制成。
4.权利要求1的蚀刻电极的方法，其中，
通过选自由热风枪、射频(RF)感应器、感应红外(IR)灯和热板构成的组中的至少一者来进行所述加热。
5.权利要求1的蚀刻电极的方法，其中，
所述激光为脉冲激光。
6.权利要求1的蚀刻电极的方法，其中，
用于所述激光的聚焦透镜的焦距在100mm至300mm的范围内。
7.权利要求1的蚀刻电极的方法，其中，
所述激光的脉冲宽度在1ns至300ns的范围内。
8.权利要求1的蚀刻电极的方法，其中，
作为表示激光品质的变量的光束模式参数(M2)的值在1至2.0的范围内。
9.权利要求1的蚀刻电极的方法，其中，
所述激光的频率在20kHz至1000kHz的范围内。
10.权利要求1的蚀刻电极的方法，其中，
所述激光的速度在0.5m/s至5m/s的范围内。
11.权利要求1的蚀刻电极的方法，其中，
所述激光光斑的尺寸在18μm至86μm的范围内。
12.权利要求1的蚀刻电极的方法，其中，
所述激光的脉冲能量为0.1μJ至1000μJ。
13.一种制造二次电池的方法，所述方法包括通过权利要求1至12中任一项的蚀刻电极的方法来蚀刻电极。
14.一种二次电池，其包含通过权利要求1至12中任一项的蚀刻电极的方法蚀刻后的电极。