高膜质特性。
【附图说明】
[0027]图1图示喷头方式的原子层薄膜沉积装置构成的概略图。
[0028]图2是根据本发明实施例的处理腔室的外观立体图。
[0029]图3是根据本发明实施例的处理腔室的分解图。
[0030]图4是根据本发明实施例，图示处理腔室上升或下降的断面图。
[0031]图5是根据本发明实施例，图示根据在晶舟安装基板来分阶段上升晶舟的图面。
[0032]图6是根据本发明实施例，图示在上层内部外壳的内部侧壁设置工序气体流入空间体、工序气体排放空间体及等离子生成手段的图面。
[0033]图7是根据本发明实施例，图示在处理腔室上侧的工序气体流动的图面。
[0034]图8是根据本发明实施例，图示下层腔室内部外壳与晶舟相互密封结合的图面。
[0035]图9是根据本发明实施例，图示在晶舟内安装基板在腔室外壳内进行基板处理之后重新卸载的过程的图面。
[0036]图10是根据本发明实施例，图示基板处理装置的概念图。
[0037]具体实施方法
[0038]以下参照图面将更加详细说明本发明的实施例，但是本发明不限定于在以下公开的实施例，且可实现相互不同的多样的形状，本实施只是本发明的公开更加完整，并且是为了告知具有通常知识的技术人员本发明的范畴而提供的，在图面相同的符号称为相同要素。
[0039]图2是根据本发明实施例的处理腔室的外观立体图。图3是根据本发明实施例的处理腔室的分解图。图4是根据本发明实施例，图示处理腔室上升或下降的断面图。图5是根据本发明实施例，图示根据在晶舟安装基板来分阶段上升晶舟的图面。图6是根据本发明实施例，图示在上层内部外壳的内部侧壁设置工序气体流入空间体、工序气体排放空间体及等离子生成手段的图面。
[0040]处理腔室，为了提高基板处理能力，上下间隔层叠多个基板之后，将工序气体流入间隔层叠的基板之间，在基板表面进行沉积、蚀刻等基板处理。为此，处理腔室，包括:晶舟300，其间隔层叠多个基板；腔室外壳100、200，其上升所述晶舟来位于其内部空间，在侧壁水平方向喷射工序气体来流入到间隔层叠的基板之间后排放到外部；晶舟升降手段400，其将所述晶舟升降到所述腔室外壳内部；基板移送闸门500，其贯通所述腔室外壳的一侧壁。
[0041]晶舟300，上下间隔层萱多个基板，在层萱的基板之间存在间隔缝隙，工序气体流入这种缝隙向反方向流出，因此基板上部面可接触工序气体，进而可在基板上进行沉积或蚀刻等基板处理。为了间隔层叠基板，晶舟300包括上部面板310、下部面板320、多个支撑杆330、330a、330b、330c、多个基板安装槽331，其中多个基板支撑杆330、330a、330b、330c连接上部面板310与下部面板320，多个基板安装槽331形成在所述支撑杆的侧壁。基板安装槽331是在支撑杆330的侧壁凹陷的槽，在这种槽安装各个基板。
[0042]基板移送闸门500，形成在下层腔室外壳200的一侧壁，是基板出入晶舟的闸门，在晶舟300安装(loading)或卸载(unloading)各个基板时，通过基板移送闸门进行移送。
[0043]晶舟升降手段400，在上层腔室外壳100的内部空间与下层腔室外壳200的内部空间之间上升或下降晶舟300，其具有晶舟支撑架420与升降旋转驱动轴410。晶舟支撑架420，在其上部面支撑下部面板320，升降旋转驱动轴410贯通下层腔室外壳200的底面来支撑晶舟的下部面，即支撑晶舟的下部面板320。晶舟支撑架420的下部面连接于升降旋转驱动轴410，根据如同发动机的上下往返驱动源的驱动，上升及下降晶舟支撑架420的下部面。另外，升降旋转驱动轴410，在操作晶舟升降(上升/下降)时，不是一次性升降晶舟，而是分阶段上升或下降晶舟。例如，如图5(a)所示通过基板移送闸门基板插入并安装在基板安装槽的情况，如图5(b)所示晶舟升降手段将晶舟再上升一个阶段，以使下一个基板安装槽到达基板移送闸门。同样地，分阶段上升晶舟并将基板安装在各个基板安装槽，最终如图5(c)所示在各个基板安装槽搭载基板，插入到上层腔室外壳的内部空间。另外，升降旋转驱动轴旋转晶舟支撑架，最终可旋转连接于晶舟支撑架的晶舟。因此不论CVD工序、ALD工序，在进行工序时旋转晶舟的同时可将基板依序地反复露在原料气体、吹扫气体及反应气体。
[0044]腔室外壳100、200，上升所述晶舟来位于其内部空间，在其一侧内壁水平方向喷射工序气体流入间隔层叠的基板之间后排放到外部。本发明实施例的腔室外壳由下层腔室外壳200与上层腔室外壳100构成。
[0045]下层腔室外壳200，其上侧开放且具有内部空间(以下，称为“第I内部空间”)。在完成工序而卸载基板的状态中，如图4(b)所示下降的晶舟300位于下层腔室外壳200的第I内部空间，相反若基板分阶段安装在晶舟的各个基板安装槽而上升，则晶舟300不存在于上层腔室外壳100的第I内部空间。
[0046]上层腔室外壳100，其以开放下侧的状态位于下层腔室外壳200的上层，且具有内部空间(以下，称为“第2内部空间”)。在上层腔室外壳100的第2内部空间有从下层腔室外壳的第I内部空间上升的晶舟，并且在这种晶舟中基板间隔层叠地搭载在各个基板安装槽，在上层腔室外壳100的一侧内壁喷射工序气体，并且流动于在晶舟间隔层叠的基板的之间，通过上层腔室外壳的另一侧内壁来排放到外部。
[0047]在上升腔室外壳100的一侧内壁向另一侧内壁喷射工序气体的情况，上层腔室外壳可由单一的壁实现，但是也可由双层壁的形态实现。即，上层腔室外壳100由上层腔室内部外壳110与上层腔室外部外壳120构成可实现双重构造的外壳形状，上层腔室外部外壳120间隔包裹上层腔室内部外壳110。位于内侧的上层腔室内部外壳110收纳从下层腔室外壳200上升的晶舟300，位于外侧的上层腔室外部外壳120间隔包裹上层腔室内部外壳110的上面及侧壁。
[0048]在上层腔室内部外壳110的一侧内壁具有工序气体喷射手段与工序气体排放手段，其中工序气体喷射手段向相对的另一侧内壁喷射工序气体，工序气体排放手段将外壳内部的工序气体排放到外部。在一侧内壁向相对的另一侧内壁喷射工序气体，进而可将工序气体流动于在上层腔室外壳的内部空间存在的晶舟。
[0049]工序气体喷射手段130，如图6所示包括:工序气体流入空间体131，其具有内部空间；多个气体喷射孔132，其形成在接触于所述晶舟的工序气体流入空间体的壁面；工序气体供应管133，其将工序气体流入所述工序气体流入空间体的内部空间。工序气体流入空间体131作为因上下左右壁体的而具有的内部空间，在内部空间存在从工序气体供应管133流入的气体。贯通到工序气体流入空间体131内部空间的多个气体喷射孔132 (hole)形成在工序气体流入空间体的壁面，通过这种气体喷射孔132工序气体流入上层腔室内部外壳的内部空间。气体喷射孔132，在与安装在晶舟的各个基板的间隔缝隙之间分别匹配的位置形成多个气体喷射孔132。工序气体流入空间体的壁面是朝向晶舟的壁面，工序气体供应管133将工序气体流入工序气体流入空间体131的内部空间，将在工序气体储存箱储存的工序气体供应到工序气体流入空间体131。从而，工序气体供应管133沿着上层腔室内部外壳的壁体内部形成连接于储存箱的导管，将工序气体供应于工序气体流入空间体。
[0050]另外，上层腔室内部外壳具有工序气体排放手段140，将已处理基板的工序气体排放到外部。工序气体排放手段140，如图6所示包括工序气体排放空间体141、气体排放孔142、工序气体排放管143、排放泵(未图示)。工序气体排放空间体141作为因其上下左右壁体而具有内部空间的空间体，流入在上层腔室内部外壳110内部