以大约4000RPM以上对中性化的氧化物石墨烯溶液进行离心处理来移除 剩余的石墨氧化物（即，未剥离的石墨氧化物）。
[0120] 如上所述，Hummers方法使用高猛酸钾和硫酸盐。高猛酸钾是通常使用的氧化剂， 但是实际上对膨胀石墨进行氧化的活性物质是七氧化二锰。通过如下的高锰酸钾与硫酸盐 之间的反应来产生七氧化二锰：
[0121] KMn04+3H2S04->K++Mn0 3++H30++3HS0，
[0122] Mn03++Mn〇4_->Mn20 7
[0123] 图10是根据本发明的实施方式的官能化石墨烯的化学结构式。如图10中所示， 根据本发明的官能化石墨烯可以包括环氧基（A)、羟基（B)和/或羧基（C)作为亲水基。
[0124] 根据本发明的嵌段共聚物包括至少一个亲水均聚物和至少一个疏水均聚物。例 如，嵌段共聚物可以是聚苯乙烯和聚氧化乙烯的嵌段共聚物（PS-b-PEO)、聚苯乙烯和聚二 甲硅氧烷的嵌段共聚物（PS-b-PDMS)、聚酰亚胺和聚氧化乙烯的嵌段共聚物（PI-b-PEO)或 其中的两种或更多种的混合物。
[0125] 可以通过调整形成每个嵌段的均聚物的体积分数来控制通过自组装形成的嵌段 共聚物的微结构的类型。因此，根据本发明，通过调整均聚物的体积分数来获得被自组装为 适合于有机发光显示设备的包封结构的层状结构的嵌段共聚物。
[0126] 根据本发明的实施方式，嵌段共聚物中的亲水均聚物的体积分数为0. 3至0. 7。 特别地，当嵌段共聚物是是聚苯乙烯和聚氧化乙烯的嵌段共聚物（PS-b-PEO)或聚酰亚胺 和聚氧化乙烯的嵌段共聚物（PI-b-PEO)时，嵌段共聚物中的亲水均聚物（即，聚氧化乙烯 (PEO))的体积分数为0. 4至0. 5。
[0127] 如上所述，嵌段共聚物（亲水均聚物的体积分数被调整以在层状结构中进行自组 装）以及具有亲水基的官能化石墨烯在公共溶剂中混合，从而产生了混合溶液。公共溶剂 是与官能化石墨烯和嵌段共聚物具有混合性的溶剂，并且例如可以包括PGMEA、甲苯等等。
[0128] 混合溶液被涂敷在基板IOOa和保护层400上，并且然后，通过执行退火处理来形 成包封层400。
[0129] 通过旋涂处理、缝型挤压涂覆工艺、缝涂覆工艺、滴涂工艺或喷墨印刷工艺来执行 混合溶液的涂敷。
[0130] 可以通过使用诸如丙酮或甲苯的饱和有机溶剂蒸气（例如，饱和丙酮或甲苯）在 直到大约80摄氏度的正常温度下执行退火处理达0. 5小时至1小时。
[0131] 根据上述方法，包封层400可以具有层状结构，其中，通过官能化石墨烯和亲水均 聚物（例如，PEO或PDMS)的化学键合形成的第一层410和包括疏水均聚物（例如，PS或 PI)的第二层420交替地堆叠至少两次或更多次。
[0132] 根据本发明的通过在液态状态下涂敷或印刷处理形成的包封层400具有良好的 台阶覆盖特性，从而进一步增强了有机发光显示设备的水/氧切断特性。
[0133] 此外，根据本发明，由于通过仅执行一次涂敷处理而没有执行要求昂贵的设备和 耗时的真空的CVD处理来形成具有多层层状结构的包封层400,因此，能够创新性地简化处 理，能够显著地缩短单件工件的生产事件，并且能够显著地减少制造成本。
[0134] 在包封层400之后，如图11中所示，偏光器500粘附到包封层400,并且然后，包 括触摸膜710和盖窗口 720的前模块700通过诸如PSA或OCA的粘合层600粘合到偏光器 500。
[0135] 接下来，如图12中所示，通过使用激光将在制造处理中执行支撑功能的玻璃基板 101与聚酰亚胺膜110分离。对于这样的分离处理，通过吸收辐射的激光来进行加热和溶 解，并且因此，可以在玻璃基板101与聚酰亚胺膜110之间进一步形成使得能够在玻璃基板 101与聚酰亚胺膜110之间进行分离的牺牲层（未示出）。
[0136] 玻璃基板101与聚酰亚胺膜110分离，并且然后，如图13中所示，用于支撑有机发 光显示设备的后板190通过诸如PSA或OCA的粘合层180粘附到聚酰亚胺膜110。
[0137] 根据本发明的上述实施方式，完全地切断了外部的水和氧，并且能够增加有机发 光显示设备的可靠性和寿命。
[0138] 此外，增强了有机发光显示设备的柔性，并且因此，能够实施能够以更大的曲率半 径弯曲的下一代柔性显示设备和可折叠显示设备。
[0139] 此外，能够以更薄的厚度制造具有优异的水/氧切断性能和良好的柔性的有机发 光显不设备。
[0140] 此外，根据本发明，能够通过相对简单的工艺以相对低的成本来制造具有优异的 水/氧切断性能和良好的柔性的有机发光显示设备。
[0141] 对于本领域的技术人员而言将显而易见的是，在不脱离本发明的精神或范围的情 况下，可以对本发明进行各种修改和变化。因此，本发明旨在涵盖此发明的修改和变化，只 要它们落入所附权利要求及其等同物的范围内即可。
【主权项】
1. 一种有机发光显示设备，所述有机发光显示设备包括： TFT基板，所述TFT基板包括多个薄膜晶体管； 有机发光器件，所述有机发光器件位于所述TFT基板上；W及 包封层，所述包封层形成在所述TFT基板和所述有机发光器件上，W覆盖所述有机发 光器件， 其中，所述包封层包括由嵌段共聚物和官能化石墨帰形成的混合材料。
2. 根据权利要求1所述的有机发光显示设备，其中， 所述嵌段共聚物包括至少一个亲水均聚物和至少一个疏水均聚物，并且 所述包封层包括： 通过所述官能化石墨帰和所述亲水均聚物的化学键合形成的第一层；W及 包括所述疏水均聚物的第二层。
3. 根据权利要求2所述的有机发光显示设备，其中，所述包封层具有其中所述第一层 和所述第二层交替地堆叠至少两次或更多次的层状结构。
4. 根据权利要求2所述的有机发光显示设备，其中，所述嵌段共聚物是聚苯己帰和聚 氧化己帰的嵌段共聚物、聚苯己帰和聚二甲娃氧焼的嵌段共聚物、聚醜亚胺和聚氧化己帰 的嵌段共聚物或者上述中的两种或更多种的混合物。
5. 根据权利要求1所述的有机发光显示设备，所述有机发光显示设备进一步包括位于 所述有机发光器件和所述包封层之间的保护层。
6. 根据权利要求5所述的有机发光显示设备，其中，所述保护层形成在所述TFT基板和 所述有机发光器件上W整体地覆盖所述有机发光器件，W防止所述有机发光器件与所述包 封层的直接接触。
7. 根据权利要求6所述的有机发光显示设备，其中，所述保护层由包含下述中的一种 或更多种的材料形成；AI2O3、Si〇2、SigN*、SiON、A10N、A1N、Ti〇2、ZrO、ZnO 和 Ta2〇5。
8. -种制造有机发光显示设备的方法，所述方法包括： 制备基板，所述基板包括多个薄膜晶体管； 在所述基板上形成有机发光器件； 在所述基板和所述有机发光器件上形成保护层W覆盖所述有机发光器件；W及 在所述基板和所述保护层上形成包封层W覆盖所述保护层， 其中，形成包封层的步骤包括： 在公共溶剂中混合官能化石墨帰和嵌段共聚物，W产生混合溶液；W及 将所述混合溶液涂覆在所述基板和所述保护层上。
9. 根据权利要求8所述的方法，其中， 所述嵌段共聚物包括至少一个亲水均聚物和至少一个疏水均聚物，并且 所述嵌段共聚物中的所述亲水均聚物的体积分数为0. 3至0. 7。
10. 根据权利要求8所述的方法，其中，所述嵌段共聚物是聚苯己帰和聚氧化己帰的嵌 段共聚物、聚苯己帰和聚二甲娃氧焼的嵌段共聚物、聚醜亚胺和聚氧化己帰的嵌段共聚物 或者上述中的两种或更多种的混合物。
11. 根据权利要求9所述的方法，其中， 所述嵌段共聚物是聚苯己帰和聚氧化己帰的嵌段共聚物或聚醜亚胺和聚氧化己帰的 嵌段共聚物，并且 所述嵌段共聚物中的所述亲水均聚物的体积分数为0. 4至0. 5。
12. 根据权利要求8所述的方法，所述方法进一步包括对涂覆的混合溶液进行退火。
13. 根据权利要求12所述的方法，其中，通过使用饱和有机溶剂蒸气来执行所述退火。
14. 根据权利要求8所述的方法，其中，通过旋涂工艺、缝型挤压涂覆工艺、缝涂覆工 艺、滴涂工艺或喷墨印刷工艺来执行混合溶液的涂覆。
【专利摘要】本发明提供了一种有机发光显示设备及其制造方法。所公开的有机发光显示设备具有优异的水/氧切断性能和良好的柔性，并且所述方法通过相对简单的处理以相对较低的成本制造有机发光显示设备。有机发光显示设备包括：TFT基板，其包括多个薄膜晶体管；有机发光器件，其位于TFT基板上；以及包封层，其形成在TFT基板和有机发光器件上以覆盖有机发光器件。包封层包括由嵌段共聚物和官能化石墨烯形成的混合材料。
【IPC分类】H01L51-52, H01L51-56, H01L27-32
【公开号】CN104681586
【申请号】CN201410696950
【发明人】朴钟贤
【申请人】乐金显示有限公司
【公开日】2015年6月3日
【申请日】2014年11月26日
【公告号】US20150144912, US20150263311