。
[0266]在不同的实施例中，还可以将散射光的颗粒状的添加物嵌入到粘接剂的层(也称作粘接层)中，所述添加物可以引起进一步改进色角畸变(Farbwinkelverzugs)和親合输出效率。在不同的实施例中，例如可以将介电的散射颗粒设为散射光的颗粒状的添加物，例如金属氧化物，如氧化硅(S12)、氧化锌(ZnO)、氧化锆(ZrO2)、铟锡氧化物(ITO)或铟锌氧化物(IZO)、氧化镓(Ga2Oa)、氧化铝或氧化钛。其他颗粒状的添加物也可以是适合的，只要其具有与半透明的层结构的基质的有效折射率不同的折射率，例如为气泡、丙烯酸盐或玻璃空心球。此外，例如可以将金属的纳米颗粒，金属如金、银，铁纳米颗粒等设为散射光的颗粒状的添加物。
[0267]在不同的实施例中，在第二电极114和由粘接剂和/或保护漆124构成的层之间还可以施加或施加有电绝缘层(未示出)，例如为SiN，例如具有在大约300nm至大约
1.5 μ m范围内的层厚度，例如具有在大约500nm至大约I μ m范围内的层厚度，以便例如在湿法化学工艺期间保护电学不稳定的材料。
[0268]在不同的实施例中，粘接剂可以构建为，使得其自身具有小于覆盖件126的折射率的折射率。这样的粘接剂例如可以是低折射率的粘接剂，例如为具有大约为1.3的折射率的丙烯酸盐。此外，可以设有多种不同的粘接体，所述多种不同的粘接体形成粘接剂层序列。
[0269]还需要指出的是，在不同的实施例中也可以完全地弃用粘接剂124，例如在将由玻璃构成的覆盖件126借助于例如等离子体喷射而施加到阻挡薄层108上的实施例中。
[0270]在不同的实施例中，覆盖件126和/或粘接剂124具有1.55的折射率(例如在633nm的波长的情况下)。
[0271]此外，在不同的实施例中，可以在发光器件100中附加地设有一个或多个抗反射层(例如与封装件108、如阻挡薄层108组合)。
[0272]图2示出有机光电子器件的两个封装件的示意横截面图。
[0273]用于封装在玻璃衬底102例如钙钠硅酸盐玻璃102上或上方的光电子器件的电有源区域106的(在图200中示出的)方法构建为基于具有腔206的玻璃盖204的封装，在所述腔中引入所谓的吸取剂208。
[0274]吸取剂208可以理解成吸收剂208，所述吸收剂可以吸收有害物质，例如水和/或氧。
[0275]腔206例如可以由惰性的材料或材料混合物、例如惰性气体或惰性液体填充。
[0276]腔室玻璃204例如可以由钙钠硅酸盐玻璃形成。
[0277]腔室玻璃204借助于粘接剂202粘贴到玻璃衬底102上。
[0278]借助于腔室玻璃204的、例如腔室玻璃204的腔206的特定的制造工艺，然而，腔室玻璃204明显贵于普通的平板玻璃(钙钠硅酸盐玻璃)。
[0279]在图210中示出用于封装钙钠硅酸盐玻璃102上或上方的光电子器件100的电有源区域106的另一个方法。
[0280]可以将用于保护薄膜封装件212免受机械损坏的层压玻璃216借助于层压粘接剂214粘贴到薄膜封装件212上。
[0281]层压玻璃216例如可以由钙钠硅酸盐玻璃形成。
[0282]借助于施加适当的薄膜212(薄层)，有机器件100可以对水和氧得到充分密封。
[0283]可以对薄膜封装件提出极端的质量要求并且薄膜封装件的许多不同的层的沉积工艺会是非常耗费时间的。
[0284]图3示出有机光电子器件的另一个封装件的示意横截面视图。
[0285]在光电子器件300例如OLED显示器300中，光电子器件的封装例如可以借助于玻璃料 302、即玻璃料封装(英语为，glass frit bonding/glass soldering/seal glassbonding)实现。
[0286]在玻璃料封装的情况下，将也称作为玻璃料302的低熔点的玻璃302用作为玻璃衬底304和玻璃盖之间的连接部。
[0287]光电子器件的一部分例如电有源区域106可以在玻璃衬底304和玻璃盖之间构成。
[0288]玻璃料302与玻璃盖和玻璃衬底304的连接部可以在玻璃料302的区域中横向地保护电有源区域106免受有害的环境影响，例如免受进入的水和/或氧。
[0289]对于用于照明的有机光电子器件100例如OLED，这种封装是令人感兴趣的替选方案。然而，在利用OLED的常规照明的大程度受成本导向的区段中，将其他的玻璃衬底102例如用在OLED显示器300中，例如为显示器玻璃304，例如为铝硅酸盐玻璃。
[0290]在用于照明的有机光电子器件100中，通常使用成本适宜的玻璃衬底102，例如钙钠娃酸盐玻璃 102 (soda-lime glass) ο
[0291]然而，在钙钠硅酸盐玻璃102上，玻璃料封装到目前是不可能的。
[0292]出现的问题是在焊接部位上的玻璃料302加热时、例如在玻璃化时玻璃衬底102的钙钠硅酸盐玻璃的热膨胀的不兼容性。
[0293]图4示出根据不同实施例的用于制造光电子器件的方法的流程图400。
[0294]示意地示出用于制造如例如在图5中示出的光电子器件的方法的流程。
[0295]方法(400)具有:制备402玻璃衬底102 ;构成404玻璃层504 ;构成406光电子器件的层；施加408玻璃料502 ;施加410玻璃盖126 ;构成412玻璃层504、玻璃料502和玻璃盖126之间的配合的连接。
[0296]折射率大约为1.5的玻璃衬底102 (没有示出)、例如钙钠硅酸盐玻璃的制备402例如可以具有:施加阻挡层104、例如S1Jl ;清洁玻璃衬底102的或阻挡层104的表面；设定玻璃衬底102或阻挡层104的表面302上的化学基团或表面粗糙度，例如作为湿法化学的清洁，或者是可选的。
[0297]在制备402玻璃衬底102之后，方法可以具有构成404玻璃层504。
[0298]构成404玻璃层504例如可以借助于不同的方法构成。
[0299]下面，在不限制普遍性的情况下，示出用于构成404玻璃层504的不同的设计方案。
[0300]在用于构成404玻璃层504的一个设计方案中，可以借助丝网印刷或模板印刷将玻璃层前体施加到玻璃衬底102上，例如所述玻璃层前体具有玻璃焊料粉末悬浮物或玻璃焊料粉末膏，所述玻璃焊料粉末悬浮物或玻璃焊料粉末膏可以具有由硼酸铋玻璃颗粒或硼硅酸铋玻璃构成的粉末，所述玻璃层前体例如具有大约大于1.5、例如大于大约1.6、例如大于大约1.65、例如在大约1.7和大约2.5的范围中的折射率。
[0301]玻璃焊料粉末悬浮物或玻璃焊料粉末膏可以具有市售的丝网印刷介质(例如，乙酸乙酯中的硝化纤维素或乙二醇醚中的纤维素衍生物)。
[0302]硼酸铋玻璃颗粒或硼硅酸铋玻璃颗粒例如可以具有大约为I μπι的粒度分布D50并且对大约50°C至大约350°C的温度范围具有大约为8.5.10_61/K的热膨胀系数。
[0303]替选地，也可以选择铋锌硼酸盐玻璃颗粒或铋锌硼硅酸盐玻璃颗粒，其具有大约为7 μπι的粒度分布D50并且对在大约50°C至大约300°C的温度范围具有大约10.10_61/K的热膨胀系数。
[0304]在施加玻璃层前体之后，可以将玻璃层前体干燥，以便移除挥发性的组成部分，例如在70°C下干燥3小时。
[0305]在干燥玻璃层前体之后，干燥的玻璃层前体中的非挥发性的有机组成部分可以借助于移除非挥发性的有机组成部分以热学的方式移除，例如借助于热解。
[0306]丝网印刷介质应当选择成，使得在玻璃焊料粉末软化之前，排除脱粘。
[0307]因为使用的硼硅酸铋从大约500°C起可以开始软化，所以两个上述粘合剂溶剂体系良好地适合于所述玻璃，因为他们按照体系能够在大约200°C至大约400°C之间已经燃尽。
[0308]在移除非挥发性的有机组成部分之后，可以将玻璃层前体液化。
[0309]在上述硼硅酸铋玻璃作为玻璃粉末层的情况下，玻璃化可以在大约500°C以上的温度下进行。
[0310]在钙钠硅酸盐玻璃作为上部的冷却温度为大约550°C的玻璃衬底的情况下，为了将玻璃衬底102的变形保持得小或避免玻璃衬底102的变形，根据加热方法，上部的温度极限的值可以是大约600°C。
[0311]在玻璃化时，玻璃层前体的或玻璃焊料颗粒的粘度下降。由此，玻璃层前体或玻璃焊料颗粒可以构成玻璃衬底102的表面上的玻璃层504。所述工艺过程也称作为玻璃化。
[0312]如果玻璃化在玻璃衬底102的转变温度之下进行，那么在所述玻璃衬底中不构建热应力。两个连接配对物的热膨胀系数、即玻璃衬底102和玻璃层的基质的玻璃焊料的热膨胀系数不应相差过大，以避免玻璃衬底102和保护层106之间的强的连接应力并且由此确保持久的连接。
[0313]因为玻璃层504可以类似于阻挡层起作用，所以可以弃用阻挡薄层104，例如当玻璃层504的基质506的材料或材料混合物无碱时如此。
[0314]借助于玻璃化，玻璃层504的厚度可以相对于玻璃层前体的厚度借助于填充玻璃焊料颗粒之间的中间空间来减小，例如减小到在大约I μπι至大约100 μπι的范围中、例如在大约10 μm至大约50 μm的范围中的厚度，例如减小至大约25 μπι。
[0315]在液化玻璃层前体和形成玻璃层504的轮廓之后，基质506的玻璃焊料可以固化，例如借助于冷却，例如被动地冷却。
[0316]借助于玻璃层504的基质506的玻璃的固化，可以构成玻璃层504。
[0317]在玻璃层504的固化之后，可以设定玻璃层504的表面特性，例如抛光、即使玻璃层504的表面光滑，例如借助于短时局部提高温度，例如借助于定向的等离子体，例如作为火焰抛光或也作为激光抛光。
[0318]在玻璃层504的一个设计方案中，玻璃层504可以具有玻璃基质506和在其中分布的添加物508。
[0319]构成404具有基质506和添加物508的玻璃层504可以以不同的方式进行。
[0320]在方法的一个设计方案中，颗粒状的添加物可以以层片形式构成或施加在玻璃衬底102上或上方。基质506的材料或材料混合物的玻璃焊料粉末大致可以在颗粒状的添加物508的层片上或上方施加。随后，可以将玻璃焊料粉末液化，使得液化的玻璃焊料的一部分在颗粒状的添加物508之间朝向玻璃衬底的表面流动，使得液化的玻璃的一部分仍留在颗粒状的添加物508之上。
[0321]玻璃层504在颗粒状的添加物508之上的部分应具有等于或大于没有玻璃的颗粒状的添加物508的最上面的层片的粗糙度的厚度，使得构成玻璃层的至少一个光滑的表面，即表面具有小的RMS粗糙度(root mean square，均方根)，例如小于10nm。
[0322]在一个设计方案中，玻璃层504的表面的粗糙度可以构建成或理解成散射中心。借助于玻璃层504的粗糙度，例如可以提高从电有源区域106耦合输出或耦合输入到电有源区域106中的电磁辐射的份额。
[0323]对方法的所述设计方案重要的是:在施加颗粒状的添加物508之后液化玻璃焊料。由此，可以设定颗粒状的添加物508在玻璃层504中的分布并且在玻璃层504的基质506的材料的或材料混合物的玻璃焊料的唯一的液化工艺中、例如在唯一的退火工艺中构成玻璃层504的光滑的表面。
[0324]在该意义中，由基质506的材料或材料混合物的玻璃焊料颗粒或借助基质506的材料或材料混合物的玻璃焊料粉末制造悬浮物或膏不能理解成液化，因为玻璃焊料颗粒的外观不通过悬浮而发生改变。
[0325]在方法的另一个设计方案中，为了构成玻璃层504，可以将基质506的材料或材料混合物的玻璃焊料粉末与添加物508混合并且作为膏或悬浮物借助于丝网或模板印刷施加到玻璃衬底上。这可以在玻璃化之后引起添加物在玻璃基质中的均匀的分布。其他的用于由悬浮物或膏制造层的方法例如可以是刮涂或也可以是喷涂法。
[0326]添加物可以不同地构成，例如作为颗粒或分子，和/或具有不同的作用或功能，如在下文中描述的那样。
[0327]在一个设计方案中，添加物可以具有无机材料或无机材料混合物或由其形成。
[0328]在又一个设计方案中，一种添加物可以具有选自下述材料组的材料或材料混合物或化学计量的化合物或者由其形成:Ti02、CeO2, Bi203、ZnO、SnO2, A1203、S12, Y2O3, ZrO2、发光材料、染料、以及吸收UV的玻璃颗粒、适当的吸收UV的金属纳米颗粒，其中发光材料例如可以吸收UV范围中的电磁辐射。
[0329]在又一个设计方案中，颗粒状的添加物可以具有拱起的表面，例如类似于光学透镜。
[0330]在又一个设计方案中，颗粒状的添加物可以具有选自下述形状组的几何形状和/或几何形状的一部分:球形的、非球形的、例如棱柱形的、椭圆形的、空心的、紧凑的、小板形的或小棒形的。
[0331 ] 在一个设计方案中，颗粒状的添加物可以具有玻璃或由其形成。
[0332]在一个设计方案中，颗粒状的添加物可以具有在大约0.1 μπι至大约ΙΟμπι的范围中、例如在大约0.1 μπι至大约I μπι的范围中的平均粒度。
[0333]在又一个设计方案中，在玻璃衬底上或上方的在玻璃层中的添加物可以具有厚度大约为0.1 μπι至大约100 μm的层片。
[0334]在又一个设计方案中，玻璃层的添加物可以具有在玻璃衬底上或上方相叠的多个层片，其中各个层片可以不同地构成。
[0335]在又一个设计方案中，在添加物的层片中，至少一种颗粒状的添加物的颗粒状的添加物的平均大小可以从玻璃衬底的表面开始减小。
[0336]在又一个设计方案中，添加物的各个层片可以具有不同的平均大小的颗粒状的添加物和/或对在一个波长范围中的数个波长的电磁辐射具有不同的透射率，例如波长小于大约400nm。
[0337]在又一个设计方案中，添加物的各个层片可以具有不同的平均大小的颗粒状的添加物和/或对电磁辐射具有不同的折射率。
[0338]在一个设计方案中，玻璃层可以具有颗粒状的添加物，所述颗粒状的添加物构建成用于电磁辐射的散射颗粒，其中散射颗粒可以在基质中分布。
[0339]换言之:基质可以具有至少一种散射添加物，使得玻璃层附加地对至少一个波长范围中的入射电磁辐射构成散射作用，例如借助于与基质不同的折射率和/或直径，所述直径大致对应于要散射的辐射的波长的大小。
[0340]散射作用可以涉及如下电磁辐射，所述电磁辐射由在保护层上或上方的有机功能层系统发射，例如以便提高光耦合输出。
[0341]在又一个设计方案中，具有散射添加物的玻璃层可以具有散射添加物的折射率与基质的折射率的为大于大约0.05的差。
[0342]在一个设计方案中，添加物可以构建成染料。
[0343]在一个设计方案中，借助于染料可以改变玻璃层的光学外观。
[0344]在一个设计方案中，染料可以吸收应用特定的不相关的、例如大于大约700nm的波长范围中的电磁辐射。
[0345]由此，可以改变玻璃层的光学外观，例如将玻璃层染色，而不使光电子器件的效率变差。
[0346]在一个设计方案中，玻璃层的添加物可以具有至少一种吸收UV的添加物，其中吸收UV的添加物相对基质和/或玻璃衬底减小具有至少在一个波长范围中的小于大约400nm的波长的电磁辐射的透射率。
[0347]具有吸收UV的添加物的玻璃层相对玻璃衬底和/或基质的较小的UV透射率例如可以借助于通过吸收UV的添加物对UV辐射的较高的吸收和/或反射和/或散射来构成。
[0348]在一个设计方案中，一种吸收UV的添加物可以具有选自下述材料