FinFET器件的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体制造领域，具体涉及一种FinFET器件的制造方法。
【背景技术】
[0002]在现有技术中，鳍式场效晶体管(Fin Field Effect Transistor, FinFET)与传统的平面结构晶体管相比，不仅具有较好的栅控能力，还能够较好地抑制短沟槽效应，使半导体器件的尺寸得到进一步减小。
[0003]而现有FinFET器件在制造时的具体步骤为，先形成鳍部(Fin)，再在所述鳍部上形成横跨所述鳍部的栅极。在这之后，在形成的鳍部以及栅极上覆盖一层侧墙材料，并去除部分所述侧墙材料，仅保留栅极侧壁的侧墙材料，以形成栅极的侧墙。
[0004]但是，在实际的制造过程中，一方面，由于所述鳍部为凸出衬底的立体结构，鳍部底部附近的部分侧墙材料难以被去除，进而导致对后续的源区、漏区的形成造成影响。另一方面，在去除部分侧墙材料的过程中也会对其他部件(比如栅极)等造成影响。
[0005]因此，如何形成较为理想的栅极的侧墙，同时尽量去除如鳍部等部位的其它部分的侧墙材料，以为后续的制造步骤提供条件，成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。
【发明内容】
[0006]本发明解决的问题是提供一种FinFET器件的制造方法，以在形成侧墙的同时，尽量避免在FinFET器件的其他部位造成残留，或者对FinFET器件的其他部件造成影响。
[0007]为解决上述问题，本发明提供一种FinFET器件的制造方法，包括:
[0008]提供衬底；
[0009]在所述衬底上形成若干鳍部；
[0010]在所述衬底以及鳍部上覆盖材料层；
[0011]使所述材料层的一部分转换为框形的介质材料层，所述框形的介质材料层横跨一个或多个鳍部；
[0012]在所述材料层以及框形介质材料层上覆盖牺牲层；
[0013]去除部分牺牲层以露出所述框形的介质材料层，同时露出框内区域的材料层；
[0014]去除露出的材料层，以露出部分鳍部以及部分鳍部之间的衬底；
[0015]在所述框内区域中填充形成栅极，并使所述栅极覆盖露出的部分的鳍部，所述框形的介质材料层作为所述栅极的侧墙；
[0016]去除剩余的牺牲层；
[0017]去除剩余的材料层。
[0018]可选的，形成若干鳍部的步骤还包括以下步骤:在所述鳍部之间形成隔离结构。
[0019]可选的，覆盖材料层的步骤包括:使所述材料层为包括硅氢键以及硅氧键的材料层。
[0020]可选的，所述材料层采用氢化倍半硅氧烷作为材料。
[0021]可选的，采用旋涂、喷射的方法形成所述氢化倍半硅氧烷的材料层。
[0022]可选的，形成框形的介质材料层的步骤包括:
[0023]在所述材料层上覆盖光刻胶；
[0024]图形化所述光刻胶以露出部分氢化倍半硅氧烷的材料层；
[0025]对露出的氢化倍半硅氧烷的材料层进行曝光以形成所述框形的介质材料层，所述介质材料层的材料为硅的氧化物。
[0026]可选的，在曝光的过程中，采用电子束轰击或者深紫外线进行曝光。
[0027]可选的，覆盖牺牲层的步骤包括，采用氮化硅作为所述牺牲层的材料，通过沉积的方式形成所述牺牲层。
[0028]可选的，去除部分牺牲层的步骤包括，采用干法刻蚀去除所述牺牲层。
[0029]可选的，在形成栅极的步骤中，采用多晶硅或者金属作为所述栅极的材料。
[0030]可选的，去除剩余的牺牲层的步骤包括:以所述剩余的材料层为停止层，通过平坦化的方式去除所述牺牲层。
[0031]与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点:
[0032]使所述材料层的一部分形成框形的介质材料层，并最终在所述框形的介质材料层中形成栅极，此时所述框形的介质材料层作为所述栅极的侧墙。这样能够直接形成侧墙，而无需采用现有的覆盖一层侧墙材料然后通过部分刻蚀的方法，对侧墙材料不需要的部分进行去除以形成侧墙，从而尽量的避免了在鳍部等其他部位形成残留杂质。另外，由于位于形成的栅极两侧的鳍部，也就是用于形成源区以及漏区的鳍部一直被材料层所掩盖，本发明还能够尽量减小对此部分的鳍部的影响。
【附图说明】
[0033]图1是本发明FinFET器件的制造方法一实施例的流程示意图；
[0034]图2a至图8b为图1中各个步骤的FinFET器件的结构示意图。
【具体实施方式】
[0035]在现有的制作FinFET器件的过程中，在形成鳍部以及栅极后形成侧墙，而所述侧墙通常上通过在衬底、鳍部以及栅极上覆盖一层侧墙材料，然后通过各向异性刻蚀的方式，去除衬底、鳍部以及栅极表面的侧墙材料，以保留栅极侧壁上的侧墙材料。然而，由于鳍部为立体结构，鳍部的侧壁上的侧墙材料难以被去除，而成为残留杂质，这些残留杂质将影响后续形成源区、漏区等步骤的进行。
[0036]此外，在去除这些残留杂质同时，也容易对FinFET器件的其它部件(如栅极)在成影响。
[0037]为此，本发明提供一种FinFET器件的制造方法，参考图1，示出了为本发明一实施例的流程示意图。所述制造方法大致包括以下步骤:
[0038]步骤SI，提供衬底；
[0039]步骤S2，在所述衬底上形成若干鳍部；
[0040]步骤S3，在所述衬底以及鳍部上覆盖材料层；
[0041]步骤S4，使所述材料层的一部分转换为框形的介质材料层，所述框形的介质材料层横跨一个或多个所述鳍部；
[0042]步骤S5，在所述材料层以及框形的介质材料层上覆盖牺牲层；
[0043]步骤S6，去除部分牺牲层以露出所述框形的介质材料层，同时露出框内区域的材料层；
[0044]步骤S7，去除露出的材料层，以露出部分鳍部以及部分鳍部之间的衬底；
[0045]步骤S8，在所述框内区域中填充形成栅极，并使所述栅极覆盖露出的部分的鳍部；此时所述框形的介质材料层作为所述栅极的侧墙；
[0046]步骤S9，去除剩余的牺牲层；
[0047]步骤S10，去除剩余的材料层。
[0048]通过上述步骤，以将所述材料层的一部分转化成硅的氧化物，作为后续形成的栅极的侧墙，也就是说，本发明可以直接形成侧墙，而无需采用现有的覆盖一层侧墙材料然后通过部分刻蚀的方法，对侧墙材料不需要的部分进行去除以形成侧墙，从而尽量的避免了在鳍部等其他部位形成残留杂质。另外，由于位于形成的栅极两侧的鳍部在步骤SlO之前都是被材料层所掩盖的，而这部分的鳍部用于形成源区以及漏区，相对于现有技术，能够尽量减小对此部分的鳍部的影响。
[0049]为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
[0050]参考图2a以及2b所示(图2b为图2a沿A-A'的剖视图)，执行步骤SI，提供衬底100 ；
[0051]此步骤为现有技术中的常规步骤，本发明在此不做任何限定。
[0052]继续执行步骤S2，在所述衬底100上形成若干鳍部101 ;在本实施例中，形成所述鳍部101包括以下分步骤:
[0053]步骤S21，在所述衬底100上覆盖掩模(图中未示出)；
[0054]步骤S22，图形化所述掩模，以露出部分衬底；
[0055]步骤S23，对露出的衬底进行蚀刻以形成若干沟槽，此时，衬底上相对于沟槽凸出的部分成为所述鳍部101 ；
[0056]步骤S24，在所述鳍部之间形成隔离结构102。在本实施例中，所述隔离结构102的材料为二氧化硅，采用浅槽隔离的方式形成。
[0057]参考图3a以及3b所示(图3b为图3a沿B-B'的剖视图)，执行步骤S3，在所述衬底100以及鳍部101上覆盖材料层50。所述材料层50用于在后续的步骤中作为形成栅极侧墙的介质材料层。
[0058]在本实施例中，所述材料层50的材料为氢化倍半娃氧烧材料(Hydrogen SilsesQu1Xane，HSQ)。但是，本发明对此不作限定，也可以采用其它具有硅氢键以及硅氧键的材料层。
[0059]所述材料层50在本实施例中可以采用旋涂、喷射的方法形成，但是本发明对此不做限定，还可以采用如电子束辐射等方法形成。
[0060]参考图4a以及4b所示(图4b为图4a沿C-C'的剖视图)，执行步骤S4，使所述材料层50的一部分转换为框形的介