板6和矩形隔墙板13组成。即所述密封舱室由H型墙板6、矩形隔墙板13、夕卜承力墙板8和内承力墙板10构成。所述上密封面11和下密封面14是由一定数量封闭的几何图形排列组合而成。
[0032]图5显示为使用本发明在检漏装置的安装图，用于密封圈防密封面深漏点的试验。密封圈23设置于密封面之间，该检漏装置中间设有进气孔22。图5所示的装有密封圈的检漏装置，其中有密封圈槽的密封面，螺栓紧固孔19，密封圈23，检漏进气孔22，密封圈外径42mm，内径34mm，密封圈横截面:宽度4mm，高度3mm，密封圈槽外径42mm，内径34mm，密封圈横截面:宽度4mm，高度2.1mm，密封圈按30%压缩率设定密封圈槽的深度。如图6所示为检漏装置密封面刻有限深漏点的示意图。密封圈压痕27内外均显示出深漏点26。，该装置是人为在密封面上设置诸多深漏点检漏装置，其中预设深漏点26，深漏点宽度2_，深漏点深度为0.5mm，密封圈压痕位置27，设置深漏点的密封面。将所述检漏装置浸泡在透明水箱内的水里进行检漏，测试气压为0.2MPa，静置3天后仍没有发现有气泡漏出。如图7所示检漏装置密封面刻有无限浅漏点示意图，用于密封圈防密封面浅漏点的试验。该装置人为在密封面上设置诸多条模拟无限浅漏点测试装置，其中预设模拟无限浅漏点27，浅漏点深度为0.3_。安装后的检漏装置浸泡在透明水箱进行检漏，测试气压为0.2MPa，静置3天后检漏装置没有发现气泡漏出。
[0033]如图8所示液流框密封圈安装示意图。用于10千瓦全钒液流电池液流框密封试验。其中液流框密封圈35，主流道密封圈365，液流框37，检漏气压为0.2MPa，静置3天后仍没有发现有气泡漏出。
[0034]如图9a至9c所示的密封舱室正面俯视图形为圆形的密封面结构示意图，其中，图9a显示为每层密封舱室为对称的两排设置。图9b显示为每层密封舱室为错开的两排设置。
[0035]图9c显示为每层密封舱室为单排设置。
[0036]如图1Oa至1c所示的密封舱室正面俯视图形为跑道形的密封面结构示意图，其中，图1Oa显示为每层密封舱室为错开的两排设置。图1Ob显示为每层密封舱室为对称的两排设置。图1Oc显示为每层密封舱室为单排设置。
[0037]如图1la至Ilc所示的密封舱室正面俯视图形为正方形的密封面结构示意图，其中，图1la显示为每层密封舱室为错开的两排设置。图1lb显示为每层密封舱室为对称的两排设置。图1lc显示为每层密封舱室为单排设置。
[0038]如图12a至12c所示的密封舱室正面图是图形为长方形的密封面结构示意图，其中，图12a显示为每层密封舱室为错开的两排设置。图12b显示为每层密封舱室为对称的两排设置。图12c显示为每层密封舱室为单排设置。
[0039]如图13a至13c所示的密封舱室正面图是图形为三角形的密封面结构示意图，其中，图13a显示为每层密封舱室为一正一倒的正三角形组合的两排设置。图13b显示为中部为正方形，两侧为对称的三角形(顶角对顶角)设置的舱室结构。图13c显示为单层密封舱室，该单层密封舱室为一正一倒的正三角形组合的两排设置。
[0040]如图14a至14b所示的密封舱室正面俯视图形为蜂窝状的密封面结构示意图，其中，图14a显示为每层密封舱室为两排一样的蜂窝状设置。图14b显示为单排蜂窝状设置的舱室结构。
[0041]本发明密封舱室主要功能是解决密封面上出现有限数量的深漏点的密封问题，如图3所示，这是密封圈防密封面深漏点的分析图，其中黑色区域18表示深漏点，当密封面出现图中出现的种种深漏点情况，本发明密封圈可以对上述情况进行有效的密封。请继续参阅附图3所示的防深度漏点的效果图。在本实施例中，上层密封面17和下层密封面15与密封圈之间有深漏点18。从该截面图中的密封圈纵截面16中可以看出，上下层的密封舱室是的深漏点隔离。
[0042]本发明可以实现高压缩率，能够解决密封面上出现无限数量的浅漏点的密封问题，如图4所示，当密封面出现大小不等、形状各异的无限量的浅漏点，其中测漏装置螺栓孔19，测漏装置密封面20，无限数量浅漏点21，当密封面出现图中出现的无情况，本发明密封圈可以对上述情况进行有效的密封。
[0043]综上所述，本发明有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
[0044]上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。
【主权项】
1.一种密封圈，其特征在于，所述密封圈内设有若干密封舱室结构。
2.根据权利要求1所述的密封圈，其特征在于，所述密封舱室结构容纳密封圈在20?40%压缩率的情况下的变形。
3.根据权利要求1或2所述的密封圈，其特征在于，所述密封舱室结构为双层密封舱室结构。
4.根据权利要求3所述的密封圈，其特征在于，所述双层密封舱室横截面由H形墙板结构和矩形墙结构交替组成。
5.根据权利要求4所述的密封圈，其特征在于，所述每一密封舱室结构的正面俯视图形为圆形、跑道圆、正方形、矩形、三角形、多边形和扇形中的一种。
6.根据权利要求3所述的密封圈，其特征在于，所述每层密封舱室结构为双排舱室。
7.根据权利要求6所述的密封圈，其特征在于，所述双排舱室对称设置或交错设置。
【专利摘要】本发明提供一种密封圈，包括多重密封舱室结构和高压缩率结构相结合的密封圈，所述的密封圈的上下两侧面上均设置多重密封舱室，所述的密封圈的横截面能适应高压缩率的几何变形，当密封面出现诸多漏点时，本发明密封圈仍具有良好密封性能。
【IPC分类】H01M2-08
【公开号】CN104766935
【申请号】CN201510135183
【发明人】罗琦俊
【申请人】罗琦俊
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2015年3月26日