一种基板的表面处理工艺的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种基板的表面处理工艺，将基板浸入玻璃洗涤剂内，洗净后用去离子水清洗；浸入附着力促进液中，超声处理然后取出加入丙酮超声处理取出后使用去离子水冲洗，然后使用氮气将基板吹干；浸泡在有机溶剂内，避光保存。本发明使用清洗、超声、冲洗、干燥、浸泡处理工艺处理的基板材料，能够利用有机溶剂与基板表面的缓慢反应最大限度的去除表面油污残留，并改善基板表面浸润性，能够增强基板后续镀膜的附着力及均匀性，该方法操作简单，无需其他处理设备，可在室温下空气中制备，与大面积商业化生产制备工艺相兼容。
【专利说明】
一种基板的表面处理工艺
技术领域
[0001]本发明涉及表面处理领域，具体涉及一种改善基板表面浸润性、增强基板镀膜附着力及均匀性的基板的表面处理工艺。
【背景技术】
[0002]近年来，基板材料在电子产品，半导体器件等领域广泛使用。
[0003]通常为了制造太阳能电池、半导体器件和平板显示器件，需要在基板的表面形成预定的薄膜层、薄膜电路图案或光学团。隐刺，需要进行半导体制造工艺，例如，在基板上沉积预定材料的薄膜的薄膜沉积工艺，使用光敏材料对薄膜进行选择性的曝光的光学工艺，以及通过选择性的出去该薄膜的曝光部分形成图案的蚀刻工艺。
[0004]基板材料在使用前需要采用超声清洗方式去除表面油污。超声清洗具有以下问题:短时间超声清洗无法去除基板所有油污，对基板表面浸润性改善不明显，超声后基板若不立刻使用则会造成基板的二次污染，因此，基板的清洗效果受到影响和限制。
【发明内容】
[0005]本发明的目的是为了解决现有基板超声清洗后对基板表面浸润性改善不明显、附着力差的缺陷而提供一种改善基板表面浸润性、增强基板镀膜附着力及均匀性的基板的表面处理工艺。
[0006]为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案:
一种基板的表面处理工艺，包括以下步骤:
a)清洗:将基板浸入玻璃洗涤剂内，洗净后用去离子水清洗；
b)超声处理:将步骤a)得到的基板浸入附着力促进液中，超声处理45-60min;然后取出加入丙酮超声处理15_30min，取出后使用去离子水冲洗，然后使用氮气将基板吹干；
c)浸泡保存:将步骤b)得到的基板浸泡在有机溶剂内，避光保存。在本技术方案中，首先通过玻璃洗涤剂清洗基板表面的油渍污垢等物质，然后用附着力促进液提升基板表面的附着力与浸润性，以便后续提高后续镀膜时的基板镀膜附着力及均匀性，长时间浸泡有助于基板表面与有机溶剂缓慢发生反应，彻底清除基板表面油污残留并改善基板表面浸润性。
[0007]作为优选，步骤b)中附着力促进液由以下重量份的原料组成:羟乙基纤维素10-15份、正硅酸甲酯20-35份、海藻泥5-10份、乙酸乙酯80-100份、硅烷偶联剂15-25份与氢氟酸卜5份。
[0008]作为优选，附着力促进液的制备方法为:将羟乙基纤维素、正硅酸甲酯、硅烷偶联剂与海藻泥加入到乙酸乙酯中，搅拌溶解完后加入氢氟酸，超声60KHz处理35-50min后得到。
[0009]作为优选，步骤b)中附着力促进液的温度为65_80°C。
[0010]作为优选，步骤b)中超声频率85-lOOKHz。
[0011]作为优选，步骤c)中有机溶剂为乙醇、异丙醇、丙酮、甲醇、乙二醇乙醚或丙二醇甲醚中的一种。
[0012]作为优选，所述基板为PET，玻璃，石英，硅片，ITO导电玻璃，FTO导电玻璃，ZnO导电玻璃中的一种。
[0013]本发明的有益效果:本发明使用清洗、超声、冲洗、干燥、浸泡处理工艺处理的基板材料，能够利用有机溶剂与基板表面的缓慢反应最大限度的去除表面油污残留，并改善基板表面浸润性，能够增强基板后续镀膜的附着力及均匀性，该方法操作简单，无需其他处理设备，可在室温下空气中制备，与大面积商业化生产制备工艺相兼容。
【具体实施方式】
[0014]下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
[0015]实施例1
一种基板的表面处理工艺，包括以下步骤:
a)清洗:将基板(基板选择ITO导电玻璃)浸入玻璃洗涤剂内，洗净后用去离子水清洗；
b)超声处理:将步骤a)得到的基板浸入温度为65°C的附着力促进液中，超声频率85KHz处理45min;然后取出加入丙酮超声频率85KHz处理15min，取出后使用去离子水冲洗，然后使用氮气将基板吹干;其中附着力促进液由以下重量份的原料组成:羟乙基纤维素10份、正硅酸甲酯20份、海藻泥5份、乙酸乙酯80份、硅烷偶联剂15份与氢氟酸I份；附着力促进液的制备方法为:将羟乙基纤维素、正硅酸甲酯、硅烷偶联剂与海藻泥加入到乙酸乙酯中，搅拌溶解完后加入氢氟酸，超声60KHz处理35min后得到；；
c)浸泡保存:将步骤b)得到的基板浸泡在乙醇内，将密封瓶盖旋紧，并放于避光阴凉处。放置24小时以上，待用。
[0016]实施例2
一种基板的表面处理工艺，包括以下步骤:
a)清洗:将基板(基板选择ZnO导电玻璃)浸入玻璃洗涤剂内，洗净后用去离子水清洗；
b)超声处理:将步骤a)得到的基板浸入温度为70°C的附着力促进液中，超声频率90KHz处理50min;然后取出加入丙酮超声频率90KHz处理20min，取出后使用去离子水冲洗，然后使用氮气将基板吹干;其中附着力促进液由以下重量份的原料组成:羟乙基纤维素12份、正硅酸甲酯25份、海藻泥5份、乙酸乙酯95份、硅烷偶联剂20份与氢氟酸3份；附着力促进液的制备方法为:将羟乙基纤维素、正硅酸甲酯、硅烷偶联剂与海藻泥加入到乙酸乙酯中，搅拌溶解完后加入氢氟酸，超声60KHz处理40min后得到；；
c)浸泡保存:将步骤b)得到的基板浸泡在丙二醇甲醚内，将密封瓶盖旋紧，并放于避光阴凉处。放置24小时以上，待用。
[0017]实施例3
一种基板的表面处理工艺，包括以下步骤:
a)清洗:将基板(基板选择FTO导电玻璃)浸入玻璃洗涤剂内，洗净后用去离子水清洗； b)超声处理:将步骤a)得到的基板浸入温度为80°C的附着力促进液中，超声频率10KHz处理60min;然后取出加入丙酮超声频率10KHz处理30min，取出后使用去离子水冲洗，然后使用氮气将基板吹干;其中附着力促进液由以下重量份的原料组成:羟乙基纤维素15份、正硅酸甲酯35份、海藻泥10份、乙酸乙酯100份、硅烷偶联剂25份与氢氟酸5份;附着力促进液的制备方法为:将羟乙基纤维素、正硅酸甲酯、硅烷偶联剂与海藻泥加入到乙酸乙酯中，搅拌溶解完后加入氢氟酸，超声60KHz处理50min后得到；；
c)浸泡保存:将步骤b)得到的基板浸泡在有机溶剂内，将密封瓶盖旋紧，并放于避光阴凉处。放置24小时以上，待用。
[0018]以上所述的实施例只是本发明的一种较佳的方案，并非对本发明作任何形式上的限制，在不超出权利要求所记载的技术方案的前提下还有其它的变体及改型。
【主权项】
1.一种基板的表面处理工艺，其特征在于，包括以下步骤: a)清洗:将基板浸入玻璃洗涤剂内，洗净后用去离子水清洗； b)超声处理:将步骤a)得到的基板浸入附着力促进液中，超声处理45-60min;然后取出加入丙酮超声处理15_30min，取出后使用去离子水冲洗，然后使用氮气将基板吹干； c)浸泡保存:将步骤b)得到的基板浸泡在有机溶剂内，避光保存。2.根据权利要求1所述的一种基板的表面处理工艺，其特征在于，步骤b)中附着力促进液由以下重量份的原料组成:羟乙基纤维素10-15份、正硅酸甲酯20-35份、海藻泥5-10份、乙酸乙酯80-100份、硅烷偶联剂15-25份与氢氟酸1-5份。3.根据权利要求2所述的一种基板的表面处理工艺，其特征在于，附着力促进液的制备方法为:将羟乙基纤维素、正硅酸甲酯、硅烷偶联剂与海藻泥加入到乙酸乙酯中，搅拌溶解完后加入氢氟酸，超声60KHz处理35-50min后得到。4.根据权利要求1所述的一种基板的表面处理工艺，其特征在于，步骤b)中附着力促进液的温度为65-80 °C。5.根据权利要求1所述的一种基板的表面处理工艺，其特征在于，步骤b)中超声频率85-100KHzo6.根据权利要求1所述的一种基板的表面处理工艺，其特征在于，步骤c)中有机溶剂为乙醇、异丙醇、丙酮、甲醇、乙二醇乙醚或丙二醇甲醚中的一种。7.根据权利要求1所述的一种基板的表面处理工艺，其特征在于，所述基板为PET，玻璃，石英，硅片，ITO导电玻璃，FTO导电玻璃，ZnO导电玻璃中的一种。
【文档编号】C03C23/00GK105957800SQ201610301332
【公开日】2016年9月21日
【申请日】2016年5月9日
【发明人】余璇, 于晓明, 陈立桥, 潘洪军
【申请人】浙江海洋大学