端口相距9_。外电极14为环形电极，材料为铜带，厚度2mm，长度25mm。外电极14包覆在绝缘介质12的外侧，外电极14与供电电源16的另一端相连，与绝缘介质腔12的气体引出端18相距2_。供电电源16为内电极13、夕卜电极14供电，供电电源16为高压射频介质阻挡供电电源，频率为0.5-500KHZ，峰值电压为220-80000V，工作功率为2-50W。放电气体引入装置11内通入的放电气体为氦，氦气流速410ml/min,当氦气经过绝缘介质腔12从绝缘介质腔12的气体引出端18流出的过程中，经过内电极13与外电极14组成的放电区，放电电极上施加的放电电压使氦电离，产生氦等离子体，在气流的作用下，氦等离子体随气流流出放电区形成等离子体射流15，等离子体射流15与进样装置的三通管件9的金属喷管21相接触。等离子体射流15与金属喷管21接触时，等离子体中高能的活性成分与三通管件9喷嘴7端的金属表面相互作用，金属表面的电子激发或者是表面等离子体共振形成表面等离子体激元，这样，由于喷嘴7向内收缩的开口结构，其金属表面电荷分布不均匀，当气体样品经过喷嘴7时，发生电荷转移或弧光放电使样品分子电离。
[0056]本实施例中低温等离子体射流装置与质谱口 19不在同一侧，且距离较远，则不存在射频电场的作用，电离的样品分子不需要在推斥电极作用，就能进入质谱口被检测，进而降低了能耗。
[0057]注意，以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施方式的限制，上述实施方式和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内，本实用新型的要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
【主权项】
1.一种等离子体喷雾质谱电离源，其特征在于，包括: 低温等离子体射流装置，包括绝缘介质腔(12)、放电电极、导气管(17)、放电气体引入装置(11);反应气体存储在放电气体引入装置(11)内，反应气体通过所述导气管(17)进入所述绝缘介质腔(12)中，在所述放电电极的放电作用下产生低温等离子体，并由所述绝缘介质腔(12)的气体引出端(18)喷出，所述绝缘介质腔(12)为一端为气体引出端(18)，另一端为通过密封装置(10)密封的腔体结构，所述气体引出端(18)向内收缩开口，所述导气管(17)的一端伸入所述密封装置(10)内，并与所述绝缘介质腔(12)的一端相连通，另一端伸出所述密封装置与放电气体引入装置(11)相连； 进样装置，包括进样管、与所述进样管连通的三通管件(9)及加热装置￠)，所述进样管包括气体进样管(20)和液体进样管(2)，所述液体进样管(2) —端伸出所述三通管件(9)的液体引入端且与液体进样装置(I)连接，另一端伸出所述三通管件(9)的喷嘴(7)夕卜，所述气体进样管(20) —端伸入所述的三通管件(9)内，另一端伸出所述的三通管件(9)外并与气体进样装置(4)相连，为气体样品引入端，所述加热装置(6)包覆于所述三通管件(9)夕卜，用于加热液体样品的脱溶剂，三通管件(9)的金属喷管(21)的喷嘴(7)为液体引出端，设有向内收缩的开口结构； 所述低温等离子体射流装置的绝缘介质腔(12)的气体引出端(18)靠近进样装置的三通管件(9)的金属喷管(21)且相互垂直，在等离子体射流的间接作用下，经三通管件(9)的金属喷管(21)的喷嘴(7)喷出的样品分子电离。
2.根据权利要求1所述的等离子体喷雾质谱电离源，其特征在于，所述液体进样管(2)外壁与三通管件(9)内壁形成鞘气层； 所述液体进样管(2)为外径为0.19mm，内径为0.1mm的恪融石英毛细管； 所述三通管件(9)的液体引入端的液体进样管(2)与三通管件(9)液体引入端之间设置液体进样管密封件(3); 所述三通管件(9)的气体引入端的气体进样管(20)与所述三通管件(9)气体引入端之间设置气体进样密封件(4); 所述气体进样管(20)伸入三通管件(9)内的一端与所述的鞘气层相连通，所述的气体进样管(20)用于通入辅助载气或者用于分析的气体样品，所述气体进样管(20)为1/16的TeflonFEP 管； 液体样品进样时，液体样品经液体进样管(2)引入，此时气体进样管(20)通入高纯氮气作为载气，当气体进样时，气体样品经气体进样管(20)引入。
3.根据权利要求2所述的等离子体喷雾质谱电离源，其特征在于，所述液体进样管(2)伸出三通管件(9)的喷嘴(7)外的一端的长度范围为0-lmm。
4.根据权利要求1所述的等离子体喷雾质谱电离源，其特征在于，所述放电电极包括内电极(13)和外电极(14)； 所述内电极(13)为棒状电极或空心管状电极，其设于所述绝缘介质腔(12)内，所述内电极(13)的一端与供电电源(16)的一端相连，所述内电极(13)的另一端位于所述绝缘介质腔(12)内，并与所述绝缘介质腔(12)的引出端端口相距3-10mm; 所述外电极(14)环绕所述绝缘介质腔(12)外壁设置，所述外电极(14)的外周包覆绝缘介质，所述外电极(14)与所述供电电源(16)的另一端相连，靠近所述绝缘介质腔(12)引出端的外电极(14) 一端与所述绝缘介质腔(12)的引出端端口相距2-5mm。
5.根据权利要求4所述的等离子体喷雾质谱电离源，其特征在于，所述内电极(13)为钨棒，直径范围为l_2mm，长度为120mm ;所述外电极(14)为厚度为l_2mm，长度为15_25mm的铜带。
6.根据权利要求4所述的等离子体喷雾质谱电离源，其特征在于，所述供电电源(16)为高压射频介质阻挡供电电源，频率为0.5-500KHZ,峰值电压为220-80000V，工作功率为2-50ffo
7.根据权利要求1所述的等离子体喷雾质谱电离源，其特征在于，所述加热装置(6)为电热丝，外层包裹有绝热棉。
8.根据权利要求1所述的等离子体喷雾质谱电离源，其特征在于，所述绝缘介质腔(12)靠近进样管一侧，气体引出端(18)与三通管件(9)的喷嘴(7)之间的轴向距离为8mm，径向距离为15mm ； 所述绝缘介质腔(12)的气体引出端(18)与金属喷管(21)之间的距离为l-2mm; 所述绝缘介质腔(12)由石英玻璃或陶瓷制作而成，其内径为0-3mm，长度为50-120mm。
9.根据权利要求1所述的等离子体喷雾质谱电离源，其特征在于，所述放电气体引入装置(11)内通入的放电气体为氦气，氦气流速为300-450ml/min。
10.根据权利要求1-9任一所述的等离子体喷雾质谱电离源，其特征在于，所指三通管件(9)的喷嘴(7)位于质谱口(19)的正前方，其引出端与质谱口(19)的间距为3-5mm。
【专利摘要】本实用新型公开了一种等离子体喷雾质谱电离源，包括低温等离子体射流装置和进样装置；低温等离子体射流装置的绝缘介质腔的气体引出端靠近进样装置的三通管件的金属喷管且相互垂直，绝缘介质腔靠近气体进样管一侧，在等离子体射流的间接作用下，经三通管件的金属喷管的喷嘴喷出的样品分子电离。本实用新型离子化效率高，且能够规避射频电场作用，降低能耗。
【IPC分类】H01J49-16
【公开号】CN204424207
【申请号】CN201520069956
【发明人】刘吉星, 张建军, 朱辉, 程平, 黄正旭, 高伟, 董俊国, 周振
【申请人】昆山禾信质谱技术有限公司, 广州禾信分析仪器有限公司, 上海大学
【公开日】2015年6月24日
【申请日】2015年1月30日