一种基于宽禁带半导体纳米管阵列薄膜结构的同位素电池的制作方法与工艺

文档序号:11733447阅读:来源:国知局
技术总结
一种基于宽禁带半导体纳米管阵列薄膜结构的同位素电池,涉及同位素电池。设有衬底、收集电极、半导体纳米管阵列薄膜和同位素辐射源,半导体纳米管阵列薄膜经过表面修饰和掺杂改性形成肖特基结或异质结,同位素辐射源位于半导体纳米管阵列薄膜的纳米管内,收集电极和衬底分别设于半导体纳米管阵列薄膜的上表面和下表面,将半导体纳米管阵列薄膜膜与分别镀有收集电极层的上下衬底封装。基于宽禁带半导体纳米管阵列薄膜结构的同位素电池可为单层同位素电池,或并联堆垛级联结构同位素电池,或串联堆垛级联结构同位素电池,或串并联堆垛级联结构同位素电池。采用高比表面积、垂直有序的纳米管结构和长半衰期的同位素辐射源,转换效率高。

技术研发人员:伞海生;张强;张鸿;陈然斌
受保护的技术使用者:厦门大学
文档号码:201410421891
技术研发日:2014.08.25
技术公布日:2017.05.03

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