专利名称：一种平板显示用玻璃基板蚀刻液的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种玻璃基板蚀刻液，特别是一种平板显示用玻璃基板蚀刻液。
背景技术：
在平板显示领域中，包括等离子体显示(PDP)、触摸屏(TP)、液晶显示(LCD)及有机电致发光(OLED)等制备工艺过程中，为了进一步减轻显示器件的重量，生产厂家越来越多的采用将玻璃基板进行减薄的方法。通常使用的减薄方法有两种，一种是物理方法，用抛光粉进行抛光研磨，这种方法减薄时间长，且产品良率低；另一种方法为化学蚀刻法，这种方法减薄时间短，所使用的设备投入小，产品良率高，且减薄液的成分简单，都是一些工业上常用的酸性物质，成本低廉。 目前，用化学方法进行减薄的生产厂家所采用的减薄液，基本都采用氢氟酸为主要成分，还有一些厂家再辅助加入其它强酸。当蚀刻液中含有氢氟酸时，会存在以下问题1)氢氟酸毒性大，容易挥发，尤其是在配置时需要采用较高温度和浓度，不仅生产过程中危险性高，而且会对环境造成巨大污染；2)蚀刻产生的副产物容易吸附在玻璃、设备和管道表面，造成产品表面处理效果差、管道阻塞等问题；3)生产过程中蚀刻速率不稳定，蚀刻液的利用率相对较低，由此还会造成废液处理量大，处理成本也随之增高。
发明内容
本发明的目的是提供一种平板显示用玻璃基板蚀刻液。 本发明提供的平板玻璃蚀刻液，是由氟化氢吡啶盐、强酸、水和乙二胺四乙酸组成；所述氟化氢吡啶盐、强酸和乙二胺四乙酸占所述平板玻璃蚀刻液总重的百分比分别为10-20%、30-70%和0. 5-5%，余量为水。 上述蚀刻液中，所述氟化氢吡啶盐的结构式为F _。
所述蚀刻液选自下述蚀刻液l' -26'中的任意一种 由10-20重量份的氟化氢吡啶盐、30-50重量份的强酸、0. 5_5重量份的乙二胺四乙酸和25-59. 5重量份的水组成的蚀刻液1'; 由10-15重量份的氟化氢吡啶盐、30-50重量份的强酸、0. 5_5重量份的乙二胺四乙酸和34. 5-59. 5重量份的水组成的蚀刻液2'; 由15-20重量份的氟化氢吡啶盐、30-50重量份的强酸、0. 5_5重量份的乙二胺四乙酸和25-54. 5重量份的水组成的蚀刻液3'; 由10-20重量份的氟化氢吡啶盐、30-40重量份的强酸、0. 5-5重量份的乙二胺四乙酸和25-59. 5重量份的水组成的蚀刻液4'; 由10-15重量份的氟化氢吡啶盐、30-40重量份的强酸、0. 5_5重量份的乙二胺四乙酸和34. 5-59. 5重量份的水组成的蚀刻液5'; 由10重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和59. 5重量份的水组成的蚀刻液6';
由10重量份的氟化氢吡啶盐、40重 49.5重量份的水组成的蚀刻液7';
由10重量份的氟化氢吡啶盐、50重 39. 5重量份的水组成的蚀刻液8';
由10重量份的氟化氢吡啶盐、30重邐 量份的水组成的蚀刻液9';
由10重量份的氟化氢吡啶盐、50重邐 量份的水组成的蚀刻液10';
由10重量份的氟化氢吡啶盐、30重邐
量份的水组成的蚀刻液ll';
由10重量份的氟化氢吡啶盐、50重邐 量份的水组成的蚀刻液12';
由15重量份的氟化氢吡啶盐、30重 54. 5重量份的水组成的蚀刻液13';
由15重量份的氟化氢吡啶盐、50重 34. 5重量份的水组成的蚀刻液14';
由15重量份的氟化氢吡啶盐、30重邐 量份的水组成的蚀刻液15';
由20重量份的氟化氢吡啶盐、30重 29. 5重量份的水组成的蚀刻液16';
由20重量份的氟化氢吡啶盐、50重 29.5重量份的水组成的蚀刻液17';
由10重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、10重量份的磷酸、0. 5重量份的乙 二胺四乙酸和59. 5重量份的水组成的蚀刻液18'; 由10重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、20重量份的磷酸、0. 5重量份的乙 二胺四乙酸和49. 5重量份的水组成的蚀刻液19'; 由10重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、30重量份的磷酸、0. 5重量份的乙 二胺四乙酸和39. 5重量份的水组成的蚀刻液20'; 由10重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、10重量份的磷酸、5重量份的乙二 胺四乙酸和55重量份的水组成的蚀刻液21'; 由10重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、30重量份的磷酸、5重量份的乙二 胺四乙酸和35重量份的水组成的蚀刻液22'; 由10重量份的氟化氢吡啶盐、40重量份的硫酸、10重量份的磷酸、5重量份的乙二 胺四乙酸和35重量份的水组成的蚀刻液23'; 由15重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、10重量份的磷酸、5重量份的乙二 胺四乙酸和50重量份的水组成的蚀刻液24'; 由20重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、10重量份的磷酸、5重量份的乙二 胺四乙酸和45重量份的水组成的蚀刻液25';
量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和 量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和 i份的硫酸、2重量份的乙二胺四乙酸和58重 i份的硫酸、2重量份的乙二胺四乙酸和38重 i份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸和55重 i份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸和35重 量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和 量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和 i份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸和50重 量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和 量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和
7
由20重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、30重量份的磷酸、5重量份的乙二 胺四乙酸和25重量份的水组成的蚀刻液26'。 所述强酸选自硫酸和磷酸中的至少一种；所述强酸为硫酸和磷酸的混合物时，每 100份所述蚀刻液中，硫酸和磷酸的混合物选自下述混合物a_混合物f中的任意一种
由20重量份的硫酸和10重量份的磷酸组成的混合物a
由30重量份的硫酸和20重量份的磷酸组成的混合物b
由40重量份的硫酸和30重量份的磷酸组成的混合物c
由20-30重量份的硫酸和10-20重量份的磷酸组成的混合物d ;
由20-40重量份的硫酸和10-30重量份的磷酸组成的混合物e ;
由30-40重量份的硫酸和20-30重量份的磷酸组成的混合物f 。
本发明提供的制备上述平板玻璃蚀刻液的方法，是将氟化氢吡啶盐、强酸、水和乙 二胺四乙酸在20 3(TC混匀，得到所述平板玻璃蚀刻液； 所述氟化氢吡啶盐、强酸和乙二胺四乙酸占所述平板玻璃蚀刻液总重的百分比分
别为10-20%、30-70 %和0. 5-5%，余量为水。 该方法中，所述氟化氢吡啶盐的结构式为<^^^ f _ 。 所述蚀刻液中各组分的重量份选自下述组分1' _组分26'中的任意一种
组分1' :10-20重量份的氟化氢吡啶盐、30-50重量份的强酸、0. 5_5重量份的乙 二胺四乙酸和25-59. 5重量份的水； 组分2' :10-15重量份的氟化氢吡啶盐、30-50重量份的强酸、0. 5_5重量份的乙 二胺四乙酸和34. 5-59. 5重量份的水； 组分3' :15-20重量份的氟化氢吡啶盐、30-50重量份的强酸、0. 5_5重量份的乙 二胺四乙酸和25-54. 5重量份的水； 组分4' :10-20重量份的氟化氢吡啶盐、30-40重量份的强酸、0. 5_5重量份的乙 二胺四乙酸和25-59. 5重量份的水； 组分5' :10-15重量份的氟化氢吡啶盐、30-40重量份的强酸、0. 5_5重量份的乙 二胺四乙酸和34. 5-59. 5重量份的水；
组分6' :10重量份的氟化氢吡啶盐、30重〗 酸和59. 5重量份的水；
份的氟化氢吡啶盐、40重』 组分7' :10重: 酸和49. 5重量份的水；
组分8' :10重: 酸和39. 5重量份的水；
组分9' :10重:
和58重量份的水； 组分10' :10重
和38重量份的水；
组分ll' :10重 和55重量份的水； 组分12' :10重
:份的氟化氢吡啶盐、50重』
:份的氟化氢吡啶盐、30重』
t份的氟化氢吡啶盐、50重j
t份的氟化氢吡啶盐、30重j
t份的氟化氢吡啶盐、50重j 8
t份的硫酸、0. 5重 t份的硫酸、0. 5重 t份的硫酸、0. 5重
:份的硫酸、2重
t份的硫酸、2重 t份的硫酸、5重 t份的硫酸、5重
份的乙二胺四乙 份的乙二胺四乙 份的乙二胺四乙 份的乙二胺四乙酸 份的乙二胺四乙酸 份的乙二胺四乙酸 份的乙二胺四乙酸和35重量份的水； 组分13' :15重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙 酸和54. 5重量份的水； 组分14' :15重量份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙 酸和34. 5重量份的水； 组分15' :15重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸 和50重量份的水； 组分16' :20重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙 酸和29. 5重量份的水； 组分17' :20重量份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙 酸和29. 5重量份的水； 组分18' :10重量份的氟化氢吡啶盐、20 量份的乙二胺四乙酸和59. 5重量份的水；
组分19' :10重量份的氟化氢吡啶盐、20 量份的乙二胺四乙酸和49. 5重量份的水；
组分20' :10重量份的氟化氢吡啶盐、20 量份的乙二胺四乙酸和39. 5重量份的水；
组分21' :10重量份的氟化氢吡啶盐、20 份的乙二胺四乙酸和55重量份的水；
组分22' :10重量份的氟化氢吡啶盐、20 份的乙二胺四乙酸和35重量份的水；
组分23' :10重量份的氟化氢吡啶盐、40 份的乙二胺四乙酸和35重量份的水；
组分24' :15重量份的氟化氢吡啶盐、20 份的乙二胺四乙酸和50重量份的水；
组分25' :20重量份的氟化氢吡啶盐、20 份的乙二胺四乙酸和45重量份的水；
组分26' :20重量份的氟化氢吡啶盐、20 份的乙二胺四乙酸和25重量份的水。
所述强酸选自硫酸和磷酸中的至少一种；所述强酸为硫酸和磷酸的混合物时，每 100份所述蚀刻液中，硫酸和磷酸的混合物选自下述混合物a-混合物f中的任意一种
由20重量份的硫酸和10重量份的磷酸组成的混合物a ;
由30重量份的硫酸和20重量份的磷酸组成的混合物b ;
由40重量份的硫酸和30重量份的磷酸组成的混合物c ;
由20-30重量份的硫酸和10-20重量份的磷酸组成的混合物d ;
由20-40重量份的硫酸和10-30重量份的磷酸组成的混合物e ;
由30-40重量份的硫酸和20-30重量份的磷酸组成的混合物f 。
另外，该平板玻璃蚀刻液在制备平板玻璃减薄用蚀刻液中的应用，也属于本发明 的保护范围。
重量份的硫酸、10重量份的磷酸、0. 5重 重量份的硫酸、20重量份的磷酸、0. 5重 重量份的硫酸、30重量份的磷酸、0. 5重 重量份的硫酸、10重量份的磷酸、5重量 重量份的硫酸、30重量份的磷酸、5重量 重量份的硫酸、10重量份的磷酸、5重量 重量份的硫酸、10重量份的磷酸、5重量 重量份的硫酸、10重量份的磷酸、5重量 重量份的硫酸、30重量份的磷酸、5重量
本发明提供的平板玻璃减薄用蚀刻液，采用氟化氢吡啶盐、强酸和水作为基本成 分，并加入金属鳌合剂乙二胺四乙酸(Ethylene Diamine Tetraacetic Acid，简称EDTA)。 由于氟化氢吡啶盐具有不易挥发、毒性小的特点；EDTA的特点是能够与蚀刻时产生的金属 离子形成螯合物，更加容易被水溶解，该蚀刻液是一种安全、稳定、高效的蚀刻液，能够很好 的解决蚀刻过程中产生的难溶性副产物问题，同时也提高了蚀刻速率和蚀刻效果。该蚀刻 液适用于TFT玻璃基板的减薄，以及液晶显示(LCD)(具体包括扭曲向列型(TN)、超扭曲向 列型(STN)和彩色超扭曲向列型(CSTN))、触摸屏(TP)、有机电致发光(0LED)及等离子体 (PDP)显示用玻璃基板的减薄。
具体实施例方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明，但本发明并不限于以下实施例。
本发明将厚度为0. 8mm的薄膜晶体管(TFT)玻璃基板减薄为厚度为0. 5mm的过程 如下 将300mm宽和300mm长尺寸的TFT玻璃基板用清洗液清洗完毕后，竖立放入蚀刻 篮子中，然后完全浸泡在盛有本发明蚀刻液的带有控温装置的容器中，将温度保持在25 3(TC，经过30分钟的蚀刻，取出玻璃，用去离子水冲洗，再用特制的清洗液冲洗后，最后用
去离子水冲洗并烘干，测量玻璃的厚度，要求玻璃厚度非均匀性小于1 % 。
实施例1、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸30%、 EDTAO. 5%、纯水59. 5% 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻 液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为2. 5微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小 于1 % ，装有蚀刻液的容器中有少量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例2、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸40%、 EDTAO. 5%、纯水49. 5% 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻 液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为4微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于 1 % ，装有蚀刻液的容器中有少量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例3、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸50%、 EDTAO. 5%、纯水39. 5% 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻 液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为8微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于 1 % ，装有蚀刻液的容器中有少量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例4、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸30%、 EDTA2X、纯水58%。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。
在25 3(TC下，蚀刻速率为3. 5微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于1 % ，装有蚀刻液的容器中有微量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例5、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸50%、 EDTA2X、纯水38%。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。
在25 3(TC下，蚀刻速率为10微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于 1 % ，装有蚀刻液的容器中有微量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例6、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸30%、 EDTA5X、纯水55%。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。
在25 3(TC下，蚀刻速率为5微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于 1 % ，装有蚀刻液的容器中有微量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例7、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸50%、 EDTA5X、纯水35%。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。
在25 3(TC下，蚀刻速率为10微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于 1 % ，装有蚀刻液的容器中基本没有微量白色絮状物质产生。
实施例8、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐15%、硫酸30%、 EDTAO. 5%、纯水54. 5% 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻 液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为3微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于 1 % ，装有蚀刻液的容器中有少量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例9、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐15%、硫酸50%、 EDTAO. 5%、纯水34. 5% 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻 液。 实施例10、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐15%、硫酸30%、 EDTA5X、纯水50%。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。
在25 3(TC下，蚀刻速率为3. 5微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小 于1 % ，装有蚀刻液的容器中有微量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例ll、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐20 % 、硫酸30 % 、 EDTAO. 5%、纯水29. 5% 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻 液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为8微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于 1 % ，装有蚀刻液的容器中有微量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例12、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐20 % 、硫酸50 % 、EDTAO. 5%、纯水29. 5% 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为12微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于1 % ，装有蚀刻液的容器中无白色絮状物质产生。
实施例13、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸20%、磷酸10%，EDTA0. 5%、纯水59. 5% 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为2微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于1 % ，装有蚀刻液的容器中有少量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例14、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸20%、磷酸20%，EDTA0. 5%、纯水49. 5% 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为5微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于1 % ，装有蚀刻液的容器中有少量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例15、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸20%、磷酸30%，EDTA0. 5%、纯水39. 5% 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为9微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于1 % ，装有蚀刻液的容器中有少量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例16、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸20%、磷酸10 % ， EDTA5 % 、纯水55 % 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为2. 5微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于1 % ，装有蚀刻液的容器中有微量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例17、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸20%、磷酸30 % ， EDTA5 % 、纯水35 % 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为10微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于1 % ，装有蚀刻液的容器中无白色絮状物质产生。
实施例18、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐10%、硫酸40%、磷酸10 % ， EDTA5 % 、纯水35 % 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为11微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于1 % ，装有蚀刻液的容器中无白色絮状物质产生。
实施例19、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐15%、硫酸20%、磷酸10 % ， EDTA5 % 、纯水50 % 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为5微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于1 % ，装有蚀刻液的容器中有微量白色絮状物质产生，容易除去。
实施例20、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐20%、硫酸20%、磷酸10 % ， EDTA5 % 、纯水45 % 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为9微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于1 % ，装有蚀刻液的容器中有无白色絮状物质产生。
实施例21、 蚀刻液包括以下重量百分比的组成成分氟化氢吡啶盐20%、硫酸20%、磷酸30 % ， EDTA5 % 、纯水25 % 。将上述比例的各种物质在室温下搅拌均匀得到本发明提供的蚀刻液。 在25 3(TC下，蚀刻速率为14微米/分钟，蚀刻后玻璃基板的厚度非均匀性小于1 % ，装有蚀刻液的容器中无白色絮状物质产生。 以上实施例是以TFT玻璃基板作为玻璃基板而进行应用的减薄蚀刻液，除此之外，该玻璃基板还包括液晶显示(LCD)(具体包括扭曲向列型(TN)、超扭曲向列型(STN)和彩色超扭曲向列型(CSTN))、触摸屏(TP)、有机电致发光(OLED)及等离子体(PDP)显示用玻璃基板。
权利要求
一种平板玻璃蚀刻液，是由氟化氢吡啶盐、强酸、水和乙二胺四乙酸组成；所述氟化氢吡啶盐、强酸和乙二胺四乙酸占所述平板玻璃蚀刻液总重的百分比分别为10-20％、30-70％和0.5-5％，余量为水。
2. 根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于所述氟化氢吡啶盐的结构式为0*h+',。
3. 根据权利要求1或2所述的蚀刻液，其特征在于所述蚀刻液选自下述蚀刻液1' _26'中的任意一种由10-20重量份的氟化氢吡啶盐、30-50重量份的强酸、0. 5-5重量份的乙二胺四乙酸和25-59. 5重量份的水组成的蚀刻液1';由10-15重量份的氟化氢吡啶盐、30-50重量份的强酸、0. 5-5重量份的乙二胺四乙酸和34. 5-59. 5重量份的水组成的蚀刻液2';由15-20重量份的氟化氢吡啶盐、30-50重量份的强酸、0. 5-5重量份的乙二胺四乙酸和25-54. 5重量份的水组成的蚀刻液3';由10-20重量份的氟化氢吡啶盐、30-40重量份的强酸、0. 5-5重量份的乙二胺四乙酸和25-59. 5重量份的水组成的蚀刻液4';由10-15重量份的氟化氢吡啶盐、30-40重量份的强酸、0. 5-5重量份的乙二胺四乙酸和34. 5-59. 5重量份的水组成的蚀刻液5';由10重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和59. 5重量份的水组成的蚀刻液6';由10重量份的氟化氢吡啶盐、40重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和49. 5重量份的水组成的蚀刻液7';由10重量份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和39. 5重量份的水组成的蚀刻液8';由10重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、2重量份的乙二胺四乙酸和58重量份的水组成的蚀刻液9';由10重量份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、2重量份的乙二胺四乙酸和38重量份的水组成的蚀刻液10';由10重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸和55重量份的水组成的蚀刻液ll';由10重量份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸和35重量份的水组成的蚀刻液12';由15重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和54. 5重量份的水组成的蚀刻液13';由15重量份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和34. 5重量份的水组成的蚀刻液14';由15重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸和50重量份的水组成的蚀刻液15';由20重量份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和29. 5重量份的水组成的蚀刻液16';由20重量份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和29. 5重量份的水组成的蚀刻液17';由10重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、10重四乙酸和59. 5重量份的水组成的蚀刻液18';由10重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、20重四乙酸和49. 5重量份的水组成的蚀刻液19';由10重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、30重四乙酸和39. 5重量份的水组成的蚀刻液20';由10重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、10重乙酸和55重量份的水组成的蚀刻液21';由10重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、30重乙酸和35重量份的水组成的蚀刻液22';由10重量份的氟化氢吡啶盐、40重量份的硫酸、10重乙酸和35重量份的水组成的蚀刻液23';由15重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、10重乙酸和50重量份的水组成的蚀刻液24';由20重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、10重乙酸和45重量份的水组成的蚀刻液25';由20重量份的氟化氢吡啶盐、20重量份的硫酸、30重乙酸和25重量份的水组成的蚀刻液26'。
4. 根据权利要求l-3任一所述的蚀刻液，其特征在于所述强酸选自硫酸和磷酸中的至少一种；所述强酸为硫酸和磷酸的混合物时，每100份所述蚀刻液中，硫酸和磷酸的混合物选自下述混合物a-混合物f中的任意一种由20重量份的硫酸和10重量份的磷酸组成的混合物a ;由30重量份的硫酸和20重量份的磷酸组成的混合物b ;由40重量份的硫酸和30重量份的磷酸组成的混合物c ;由20-30重量份的硫酸和10-20重量份的磷酸组成的混合物d ;由20-40重量份的硫酸和10-30重量份的磷酸组成的混合物e ;由30-40重量份的硫酸和20-30重量份的磷酸组成的混合物f 。
5. 根据权利要求l-4任一所述的蚀刻液，其特征在于所述平板玻璃蚀刻液是按照权利要求6-9任一所述方法制备而得。
6. —种制备权利要求1-5任一所述平板玻璃蚀刻液的方法，是将氟化氢吡啶盐、强酸、水和乙二胺四乙酸在20 3(TC混匀，得到所述平板玻璃蚀刻液；所述氟化氢吡啶盐、强酸和乙二胺四乙酸占所述平板玻璃蚀刻液总重的百分比分别为10-20%、30-70%和0. 5-5%，余量为水。
7. 根据权利要求6所述的方法，其特征在于所述氟化氢吡啶盐的结构式为^>,
8. 根据权利要求6或7所述的方法，其特征在于所述蚀刻液中各组分的重量份选自 量份的磷酸、0. 5重量份的乙二胺量份的磷酸、0. 5重量份的乙二胺量份的磷酸、0. 5重量份的乙二胺量份的磷酸、5重量份的乙二胺四量份的磷酸、5重量份的乙二胺四量份的磷酸、5重量份的乙二胺四量份的磷酸、5重量份的乙二胺四量份的磷酸、5重量份的乙二胺四量份的磷酸、5重量份的乙二胺四下述组分l' _组分26'中的任意一种组分1' :10-20重量份的氟化氢吡啶盐、30四乙酸和25-59. 5重量份的水；组分2' :10-15重量份的氟化氢吡啶盐、30四乙酸和34. 5-59. 5重量份的水;组分3' :15-20重量份的氟化氢吡啶盐、30四乙酸和25-54. 5重量份的水；组分4' :10-20重量份的氟化氢吡啶盐、30四乙酸和25-59. 5重量份的水；组分5' :10-15重量份的氟化氢吡啶盐、30四乙酸和34. 5-59. 5重量份的水;组分6' :10重量份的氟化氢吡啶盐、30重j`59. 5重量份的水；组分7' :10重量份的氟化氢吡啶盐、40重j`49. 5重量份的水；组分8' :10重量份的氟化氢吡啶盐、50重j`39. 5重量份的水；组分9' :10重量份的氟化氢吡啶盐、30重i重量份的水；组分10' :10重』重量份的水；组分ll' :10重』重量份的水；组分12' :10重』重量份的水；组分13' :15重]`54. 5重量份的水；组分14' :15重]`34. 5重量份的水；组分15' :15重』重量份的水；组分16' :20重]`29. 5重量份的水；组分17' :20重]`29. 5重量份的水；组分18' :10重量份的氟化氢吡啶盐、20重的乙二胺四乙酸和59. 5重量份的水；组分19' :10重量份的氟化氢吡啶盐、20重的乙二胺四乙酸和49. 5重量份的水；-50重量份的强酸、0. 5-5重量份的乙二胺-50重量份的强酸、0. 5-5重量份的乙二胺-50重量份的强酸、0. 5-5重量份的乙二胺-40重量份的强酸、0. 5-5重量份的乙二胺-40重量份的强酸、0. 5-5重量份的乙二胺量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和l:份的硫酸、2重量份的乙二胺四乙酸和58份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、2重量份的乙二胺四乙酸和38份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸和55份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸和35:份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和:份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、5重量份的乙二胺四乙酸和50:份的氟化氢吡啶盐、30重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和:份的氟化氢吡啶盐、50重量份的硫酸、0. 5重量份的乙二胺四乙酸和量份的硫酸、10重量份的磷酸、0. 5重量份t份的硫酸、20重量份的磷酸、0. 5重量份组分20' :10重量份的氟化氢吡啶盐的乙二胺四乙酸和39. 5重量份的水；组分21' :10重量份的氟化氢吡啶盐乙二胺四乙酸和55重量份的水；组分22' :10重量份的氟化氢吡啶盐乙二胺四乙酸和35重量份的水；组分23' :10重量份的氟化氢吡啶盐乙二胺四乙酸和35重量份的水；组分24' :15重量份的氟化氢吡啶盐乙二胺四乙酸和50重量份的水；组分25' :20重量份的氟化氢吡啶盐乙二胺四乙酸和45重量份的水；组分26' :20重量份的氟化氢吡啶盐乙二胺四乙酸和25重量份的水。
9. 根据权利要求6-8任一所述的方法，其特征在于所述强酸选自硫酸和磷酸中的至少一种；所述强酸为硫酸和磷酸的混合物时，每100份所述蚀刻液中，硫酸和磷酸的混合物选自下述混合物a-混合物f中的任意一种由20重量份的硫酸和10重量份的磷酸组成的混合物a ;由30重量份的硫酸和20重量份的磷酸组成的混合物b ;由40重量份的硫酸和30重量份的磷酸组成的混合物c ;由20-30重量份的硫酸和10-20重量份的磷酸组成的混合物d ;由20-40重量份的硫酸和10-30重量份的磷酸组成的混合物e ;由30-40重量份的硫酸和20-30重量份的磷酸组成的混合物f 。
10. 权利要求l-5任一所述平板玻璃蚀刻液在制备平板玻璃减薄用蚀刻液中的应用。、20重量份的硫酸、30重量份的磷酸、0. 5重量份、20重量份的硫酸、10重量份的磷酸、5重量份的、20重量份的硫酸、30重量份的磷酸、5重量份的、40重量份的硫酸、10重量份的磷酸、5重量份的、20重量份的硫酸、10重量份的磷酸、5重量份的、20重量份的硫酸、10重量份的磷酸、5重量份的、20重量份的硫酸、30重量份的磷酸、5重量份的
全文摘要
本发明公开了一种平板显示用玻璃基板蚀刻液。该蚀刻液由氟化氢吡啶盐、强酸、水和乙二胺四乙酸组成。各组分占蚀刻液总重的百分比分别为氟化氢吡啶盐10-20％；强酸30-70％；乙二胺四乙酸0.5-5％；余量为水。该蚀刻液是一种安全、稳定、高效的蚀刻液，能够很好的解决蚀刻过程中产生的难溶性副产物问题，同时也提高了蚀刻速率和蚀刻效果。该蚀刻液适用于TFT等玻璃基板的减薄。
文档编号C03C15/00GK101774767SQ201010109119
公开日2010年7月14日 申请日期2010年2月8日 优先权日2010年2月8日
发明者冯卫文 申请人:绵阳艾萨斯电子材料有限公司