所述内侧带区间之间的缓冲空间的气体的吸气机构。
[0016]根据该结构，由吸气机构抽吸外侧带区间与内侧带区间之间的缓冲空间的气体，因此，能够有效果地防止框体的外部空间的气体流入至由内侧带区间包围的空间。其结果，当框体的外部空间的气体中含有腐蚀性气体时，能够防止因该气体流入至由内侧带区间包围的空间而导致驱动机构受到腐蚀性气体腐蚀。又，由于能够防止由内侧带区间包围的空间的气体流出至框体的外部空间，故而能够更有效果地防止由内侧带区间包围的空间的气体中所含的、由驱动机构产生的微粒流出至框体的外部空间而导致制品的成品率下降。
[0017]发明效果:
本发明的机械臂具有针对驱动机构产生的微粒的防尘效果相比现有技术有所提高的效果。
【附图说明】
[0018]图1是示出根据本发明第一实施形态的机械臂的结构例的局部剖视立体图；
图2是示出图1的机械臂的结构例的纵向剖面图； 图3是示出图2的A-A剖面的剖面图；
图4是示出根据本发明第二实施形态的机械臂的结构例的纵向剖面图。
【具体实施方式】
[0019]以下，参照【附图说明】本发明的实施形态。再者，本发明并不受本实施形态限定。又，以下对全部图中的相同或相当的要素附上相同参照符号，且省略其重复说明。
[0020](第一实施形态)
图1是示出根据本发明第一实施形态的机械臂100的结构例的局部剖视立体图。图2是示出机械臂100的结构例的纵向剖面图。图3是图2的A-A剖面图。
[0021]机械臂100是在例如对基板实施热处理、杂质导入处理、薄膜形成处理、光微影处理、洗净处理及平坦化(Lithography)处理等各种程序处理的设备中，用于搬送基板的机械臂。再者，机械臂100并不限定于基板搬送机械臂，只要是具备防尘机构的机械臂即可，该防尘机构防止设置于内部的驱动部产生的微粒向外部流出。又，基板例如为半导体晶片(wafer)、玻璃晶片等，作为半导体晶片，可例示硅晶片、蓝宝石(单晶氧化铝)晶片及其他各种晶片。而且，如图1及图2所示，机械臂100具备框体1、移动体2、驱动机构3、密封带4、固定于框体1的多个固定辊、机械手6及控制部9。
[0022]框体1为箱体。而且，于框体1中形成有沿着某个方向延伸，且于该延伸方向上具有第一端及第二端的开口 10。
[0023]于本实施形态所例示的形态中，如图2所示，框体1为沿着垂直方向延伸的中空的长方体，其具有正面壁11、与正面壁11相对的背面壁12、连接正面壁11及背面壁12的两侧缘的一对侧壁13、连接正面壁11及背面壁12的上缘的上壁14、以及连接正面壁11及背面壁12的下缘的底壁15。而且，于正面壁11中形成有沿着垂直方向呈一条直线地延伸的矩形的开口 10。此外，开口 10的上端10a构成上述第一端，开口 10的下端10b构成上述第二端。又，背面壁12具有排气口 16，该排气口 16是以使框体1的内部与外部连通的形式而形成的贯通孔。
[0024]移动体2经由开口 10而向框体1的内部及外部延伸。而且，于向框体1的外部延伸的部分设置有机械手6。机械手6是由众所周知的机械手结构，因此省略其说明。
[0025]于本实施形态所例示的形态中，移动体2包含移动台21、第一移动辊22及第二移动辊2 3。移动台21向框体1的内部及外部延伸，较开口 10更向框体1的内部侧延伸的部分构成移动台21的内在部21a，较开口 10更向框体1的外部侧延伸的部分构成移动台21的外在部21b。机械手6设置于外在部21b。第一移动辊22是沿着开口 10的宽度方向延伸的圆柱体，以位于移动台21的内在部2 la的开口 10附近的上方(移动体2的内在部2 la的第一端的一侧的部分)的形式安装于移动台21。而且，第一移动辊22以两端能够相对于移动台21旋转的形式受到支持，且以围绕沿开口 10的宽度方向延伸的旋转轴旋转的形式被安装。第二移动辊23是沿着开口 10的宽度方向延伸的圆柱体，以位于移动台21的内在部2 la的开口 10附近的下方(移动体2的内在部21a的第二端的一侧的部分)的形式安装于移动台21。而且，第二移动辊23以两端能够旋转的形式受到支持，且以围绕沿开口 10的宽度方向延伸的旋转轴旋转的形式被安装。
[0026]驱动机构3容纳于框体1，且作用于移动体2的移动台21的内在部21a而使移动体2沿着开口 10的延伸方向即垂直方向移动。又，驱动机构3位于由密封带4的后述的内侧带区间41包围的内部空间S1内。
[0027]于本实施形态所例示的形态中，驱动机构3是众所周知的滚珠螺杆机构，其包含:围绕沿垂直方向延伸的旋转轴旋转的滚珠螺杆31 ；螺合于滚珠螺杆31的滑件32 ；与滚珠螺杆31平行地延伸，阻止移动台21与滚珠螺杆31共同旋转，且沿着滑件32的延伸方向进行导引的导轨33;以及经由设置于滚珠螺杆31的下端的齿轮34而使滚珠螺杆31旋转的伺服马达35。滚珠螺杆31经由未图示的轴承而安装于框体1。导轨33的两端经由未图示的支持体而固定于框体1。伺服马达35固定于框体1。移动台21的内在部21a固定于滑件32。而且，藉由滚珠螺杆31的旋转，滑件32于特定的行程范围内受到导轨33导引，沿着滚珠螺杆31的旋转轴方向(垂直方向)移动，藉此，移动体2于特定的行程范围内，相对于框体1而沿着垂直方向移动。伺服马达35的旋转由控制部9控制。
[0028]再者，驱动机构3不限于滚珠螺杆机构，取而代之，例如能够应用齿条齿轮机构、线性马达机构。
[0029]密封带4容纳于框体1。而且，密封带4包含内侧带区间41与外侧带区间42，自开口10的法线方向观察，该内侧带区间41与外侧带区间42以两侧缘位于开口 10的两侧缘外侧的形式沿着开口 10的延伸方向延伸。
[0030]于框体1的内部，内侧带区间41的一端41a保持于移动台21的内在部21 a的开口 10附近的上表面(移动体2的内在部21a的第一端的一侧的部分)。而且，内侧带区间41的其他部分自移动台21的内在部2la的开口 10附近的上表面，沿着开口 10延伸至较移动台21的内在部21a更靠开口 10的上端10a侧的第一空间位置P1。该自移动台21的内在部21a的开口 10附近的上表面延伸至第一空间位置P1的部分构成密封带4的内侧上部密封区间45。而且，内侧带区间41自第一空间位置P1起，于中途反转而延伸至较移动台21的内在部21a更靠开口10的下端10b侧的第二空间位置P2为止。此外，内侧带区间41自第二空间位置P2沿着开口 10延伸。而且，内侧带区间41的另一端41b保持于移动台21的内在部21a的开口 10附近的下表面(移动体2的内在部21a的第二端的一侧的部分)。自第二空间位置P2延伸至移动台21的内在部21a的开口 10附近的下表面的部分构成密封带4的内侧下部密封区间46。而且，内侧带区间41形成为随着移动体2的移动而旋转的结构。
[0031 ] 外侧带区间42包含第一部分43与第二部分44。第一部分43的一端43a于内侧带区间41与开口 10之间，保持于移动台21的内在部21a的开口 10附近的上表面(移动体2的内在部21a的第一端的一侧的部分)，其他部分自移动台21的内在部21a的开口 10附近的上表面，沿着开口 10延伸至超越上端10a的第三空间位置P3为止。该自移动台21的内在部21a的开口10附近的上表面延伸至第三空间位置P3为止的部分构成密封带4的外侧上部密封区间47。而且，第一部分43的另一端43b保持于第三空间位置P3。第二部分44的一端44a于内侧带区间41与开口 10之间，保持于移动台21的内在部21a的开口 10附近的下表面(移动体2的内在部21a的第二端的一侧的部分)，其他部分自移动台21的内在部21a的开口 10附近的下表面，沿着开口 10延伸至超越下端1 Ob的第四空间位置P4为止。该自移动台21的内在部2 la的开口10附近的下表面延伸至第四空间位置P4为止的部分构成密封带4的外侧下部密封区间48。而且，第二部分44的另一端44b保持于第四空间位置P4。此外，第一部分43及第二部分44形成为随着移动