专利名称：一种液晶装置及其制造方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示技术领域，特别涉及ー种液晶装置及其制造方法。
背景技术：
窄边框是电视エ业设计上的最新理念，有效的提升了显示面积，实现了超宽视屏，并且为多屏拼接等应用提供了方便。窄边框电视的边框一般只有普通液晶电视边框宽度的一半左右，在生产的过程中可以将密封胶的宽度变窄来实现窄边框。目前实现边框变窄的主要方案有密封胶厂商需要改进密封胶的配方来确保密封胶具有细线化特性，这样在保证产品质量的前提下，通过減少密封胶的下胶量实现窄边框；优化工艺，在设备能力范围内将下胶量减到最少，以实现窄边框；改造设备，让设备的压カ控制系统更为精确，能将密封胶的控制更精确，实现密封 胶的细化涂布。图Ia和图Ib是通过上述方法实现的窄边框液晶面板的结构示意图，图Ia中彩膜基板100、黑矩阵层BM200、保护膜0C300、密封胶400、保护层PVX500和阵列基板600从上至下依次设置，图Ib中在密封胶400的两侧还设置有挡墙700。图Ia和图Ib中的窄边框液晶面板的密封胶湿面积相同均为WtlXDc^其中，Wtl表示密封胶的宽度；％表示密封胶的高度，由彩膜基板100和阵列基板600之间的间隔決定。上述方案虽然可以实现窄边框，但是均需要对现有量产产线的材料、设备或者エ艺进行改造，需要消耗大量的物力、人力和财カ来进行测试，成本较高。
发明内容
(一)要解决的技术问题提供ー种液晶装置及其制造方法，以更低的成本实现窄边框液晶装置的制造。(ニ)技术方案为解决上述技术问题，本本发明还提供ー种液晶装置，包括密封胶，依次位于所述密封胶上方的保护膜0C、黑矩阵层BM和彩膜基板，以及依次位于所述密封胶下方的保护层PVX和阵列基板；所述保护膜OC上设置有第一槽或第一通孔，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部；和/或，所述保护层PVX上设置有第二槽，所述密封胶的下部位于所述第二槽的内部。其中，对应于所述保护膜OC的第一通孔，所述黑矩阵层BM的下部设置有第三槽，所述密封胶的上部同时位于所述第三槽的内部。其中，所述第三槽的深度小于等于所述黑矩阵层BM的厚度；所述第二槽的深度小于所述保护层PVX的厚度。其中，所述液晶装置为窄边框液晶面板。本发明还提供ー种液晶装置的制造方法，其包括步骤
A :在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜0C，并在所述保护膜OC上生成第ー槽或第一通孔；B :在阵列基板上沉积保护层PVX，对应所述第一槽或第一通孔的位置在所述保护层PVX上生成第二槽；C :在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部，下部位于所述第二槽的内部；其中，所述步骤A与步骤B无先后顺序。其中，当在所述保护膜OC上生成第一通孔时，所述步骤A进ー步包括步骤AlOO :在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC ；
A200 :在所述保护膜OC上生成第一通孔；A300:采用狭缝掩膜法或者灰调掩膜法，对应所述第一通孔的位置，在所述黑矩阵层BM生成第三槽。其中，所述步骤C中，所述密封胶的上部同时位于所述第三槽的内部。其中，所述步骤B中，使用正性光刻胶在所述保护层PVX上生成第二槽。本发明还提供ー种液晶装置的制造方法，其包括步骤SI :在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜0C，并在所述保护膜OC上生成
第一槽或第一通孔；S2 :在阵列基板上沉积保护层PVX ；S3 :在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第ー槽或第一通孔的内部，下部粘接所述保护层PVX ；其中，所述步骤SI与步骤S2无先后顺序。本发明还提供ー种液晶装置的制造方法，包括步骤Pl :在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC ；P2 :在阵列基板上沉积保护层PVX，在所述保护层PVX上生成第二槽；P3 :在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部粘接所述保护膜0C，下部位于所述第二槽的内部；其中，所述步骤Pl与步骤P2无先后顺序。(三)有益效果本发明所述液晶装置及其制造方法，通过在密封胶的上部结构(保护膜OC和/或黑矩阵层BM)或者下部结构(保护层PVX)设置孔或者槽，増大了注胶空间的高度，増大了密封胶的湿面积，提高了液晶装置的粘结力，从而在使用普通的的材料、设备和エ艺的情况下即可实现窄边框液晶面板制造，降低了生产成本。
图Ia飞是现有的窄边框液晶面板的结构示意图；图2是本发明实施例I所述液晶装置的结构示意图；图3是本发明实施例2所述液晶装置的结构示意图；图4是本发明实施例3所述液晶装置的结构示意图；图5是本发明实施例4所述液晶装置的制造方法流程图6是本发明实施例5所述液晶装置的制造方法流程图；图7是本发明实施例6所述液晶装置的制造方法流程图。
具体实施例方式下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式
作进ー步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。实施例I图2是本发明实施例I所述液晶装置的结构示意图，如图2所示，所述液晶装置包括密封胶400，依次位于所述密封胶400上方的保护膜0C300、黑矩阵层BM200和彩膜基板100，以及依次位于所述密封胶400下方的保护层PVX500和阵列基板600。
所述保护膜0C300上设置有第一通孔，所述第一通孔贯穿所述保护膜0C300。所述黑矩阵层BM200上设置有第三槽。所述第一通孔与所述第三槽对应设置，孔径和形状相同并且连通成一体。所述密封胶400的上部同时位于所述第一通孔和所述第三槽的内部。所述保护层PVX500上设置有第二槽，所述密封胶400的下部位于所述第二槽的内部。其中，所述第一通孔与所述第三槽的深度为dl，dl的最大值为所述保护膜0C300和所述黑矩阵层BM200的厚度之和；所述第二槽的深度为d2 ;所述密封胶400的湿面积为W0X (D0+dl+d2)o相比图Ia和图Ib中的方案，本实施例中密封胶的湿面积增大值为WtlX(dl+d2)。基于这些増大的密封胶湿面积，显著提高了液晶装置的粘结效果，因此，本实施例所述液晶装置只需采用普通的材料、设备和エ艺即可实现窄边框，从而降低了制造成本。实施例2图3是本发明实施例2所述液晶装置的结构示意图,如图3所示,本实施例所述液晶装置与实施例I所述液晶装置基本相同，其不同之处在于，本实施例中只在保护膜0C300上设置第一槽，而未在黑矩阵层BM200设置第三槽，也未在保护层PVX500上设置第二槽。其中，密封胶400的上部位于所述第一槽内部，下部与所述保护层PVX500相粘接。这种设计方式也可以增大密封胶400的湿面积，其湿面积增加值为WciXca因此，也能够在保证液晶装置的粘结效果的情况下实现窄边框；同时，由于在制造过程中減少了对黑矩阵层BM200和保护层PVX500的刻蚀过程，显然可以提高生产效率，降低生产成本。其中，所述第一槽可以替换为贯穿所述保护膜0C300的第一通孔，即所述密封胶400的上部刚好与所述黑矩阵层BM200的下表面相粘接，这样的好处在于最大化増大密封胶400的厚度，同时避免对黑矩阵层BM200的刻蚀过程。实施例3图4是本发明实施例3所述液晶装置的结构示意图，如图4所示，与实施例2相类似，本实施例所述液晶装置只在保护层PVX500上设置第二槽，而未在黑矩阵层BM200上设置第三槽，也未在保护膜0C300上设置第一槽或者第一通孔。这种设计方式也可以增大密封胶400的湿面积，其湿面积增加值为WtlXcM,因此，也能够在保证液晶装置的粘结效果的情况下实现窄边框。其中，当所述阵列基板600上存在过孔时，所述第二槽的深度d4不能达到或者超过所述保护层PVX500的厚度，以免所述阵列基板600上的电极裸露。
实施例4图5是本发明实施例4所述液晶装置的制造方法流程图，如图5所示，所述方法包括步骤A :在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜0C，并在保护膜OC上生成第一通孔或者第一槽。其中，当在所述保护膜OC上生成第一通孔时，所述步骤A可以进一歩包括步骤
AlOO :在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC ；A200 :使用负性光刻胶在所述保护膜OC上生成第一通孔，所述第一通孔贯穿所述保护膜0C。其中，本步骤曝光过程中，除了密封胶涂布的区域完全避光外，其他的区域都100%透光设计。A300:使用正性光刻胶，并采用狭缝掩膜法或者灰调掩膜法，对应所述第一通孔的位置，在所述黑矩阵层BM生成第三槽。按照该种方式得到的液晶面板如图2所示，密封胶的上部同时位于所述第一通孔和第三槽的内部。另外，当不需生成第三槽时，可以省略步骤A300。同时，还可以调整所述步骤A200，以控制在保护膜OC上生成图3所示的第一槽，而非第一通孔。B :在阵列基板上沉积保护层PVX，对应所述第一通孔或者第一槽的位置在保护层PVX上生成第二槽。本步骤中使用正性光刻胶，并使用灰调掩膜法，以控制密封胶固化的程度，再通过干刻和灰化工艺的结合，在所述保护层PVX上生成第二槽。根据不同产品保护层PVX的不同厚度，设计密封胶区域Mask的曝光量，控制第二槽的深度不能导致阵列基板上的电极裸露。C :在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一通孔或者第一槽的内部，下部位于所述第二槽的内部。另外，其中所述步骤A与步骤B无先后顺序，即其两者的先后顺序可以根据实际生产情况颠倒。实施例5图6是本发明实施例5所述液晶装置制造方法的流程图，如图6所示，所述方法包括步骤SI :在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜0C，并在保护膜OC上生成第一通孔或者第一槽；S2 :在阵列基板上沉积保护层PVX ；S3:在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一通孔或者第一槽的内部，下部粘接所述保护层PVX ；其中，所述步骤SI与步骤S2无先后顺序。本实施例所述方法可用于生产制造图3所示的液晶装置。实施例6图7是本发明实施例6所述液晶装置的制造方法流程图，如图7所示，所述方法包括步骤Pl :在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC ；P2 :在阵列基板上沉积保护层PVX，在所述保护层PVX上生成第二槽；
P3 :在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部粘接所述保护膜0C，下部位于所述第二槽的内部；其中,所述步骤Pl与步骤P2无先后顺序。本实施例所述方法适于制造图4所示的液晶装置。本发明实施例所述液晶装置及其制造方法，通过在密封胶的上部结构(保护膜OC和/或黑矩阵层BM)或者下部结构(保护层PVX)设置孔或者槽，増大了注胶空间的高度，进而增大了密封胶的湿面积，提高了液晶装置的粘结力，从而在使用普通的材料、设备和エ艺的情况下即可实现窄边框液晶面板制造，降低了生产成本。以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。
权利要求
1.一种液晶装置，包括密封胶，依次位于所述密封胶上方的保护膜0C、黑矩阵层BM和彩膜基板，以及依次位于所述密封胶下方的保护层PVX和阵列基板； 其特征在于，所述保护膜OC上设置有第一槽或第一通孔，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部；和/或， 所述保护层PVX上设置有第二槽，所述密封胶的下部位于所述第二槽的内部。
2.如权利要求I所述的液晶装置，其特征在于，对应于所述保护膜OC的第一通孔，所述黑矩阵层BM的下部设置有第三槽，所述密封胶的上部同时位于所述第三槽的内部。
3.如权利要求2所述的液晶装置，其特征在于，所述第三槽的深度小于等于所述黑矩阵层BM的厚度；所述第二槽的深度小于所述保护层PVX的厚度。
4.如权利要求I所述的液晶装置，其特征在于，所述液晶装置为窄边框液晶面板。
5.一种液晶装置的制造方法，其特征在于，包括步骤 A :在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜0C，并在所述保护膜OC上生成第一槽或第一通孔； B :在阵列基板上沉积保护层PVX，对应所述第一槽或第一通孔的位置在所述保护层PVX上生成第二槽； C :在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部，下部位于所述第二槽的内部； 其中，所述步骤A与步骤B无先后顺序。
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，当在所述保护膜OC上生成第一通孔时，所述步骤A进一步包括步骤 AlOO :在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC ； A200 :在所述保护膜OC上生成第一通孔； A300 :采用狭缝掩膜法或者灰调掩膜法，对应所述第一通孔的位置，在所述黑矩阵层BM生成第三槽。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述步骤C中，所述密封胶的上部同时位于所述第三槽的内部。
8.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述步骤B中，使用正性光刻胶在所述保护层PVX上生成第二槽。
9.一种液晶装置的制造方法，其特征在于，包括步骤 51:在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜0C，并在所述保护膜OC上生成第一槽或第一通孔； 52:在阵列基板上沉积保护层PVX ； 53:在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部位于所述第一槽或第一通孔的内部，下部粘接所述保护层PVX ； 其中，所述步骤SI与步骤S2无先后顺序。
10.一种液晶装置的制造方法，其特征在于，包括步骤 Pl :在彩膜基板上依次沉积黑矩阵层BM和保护膜OC ； P2 :在阵列基板上沉积保护层PVX，在所述保护层PVX上生成第二槽； P3 :在所述彩膜基板和阵列基板之间填充密封胶，所述密封胶的上部粘接所述保护膜0C，下部位于所述 第二槽的内部；其中，所述步骤Pl与步骤P2无先后顺序。
全文摘要
本发明公开了一种液晶装置，涉及液晶显示领域。所述液晶装置包括密封胶，依次位于密封胶上方的保护膜OC、黑矩阵层BM和彩膜基板，以及依次位于密封胶下方的保护层PVX和阵列基板；保护膜OC上设置有第一槽或第一通孔，密封胶的上部位于第一槽或第一通孔的内部；和/或，保护层PVX上设置有第二槽，密封胶的下部位于第二槽的内部。所述液晶装置及其制造方法，通过在密封胶的上部结构(保护膜OC和/或黑矩阵层BM)或者下部结构(保护层PVX)设置孔或槽，增大了注胶空间的高度，进而增大了密封胶的湿面积，提高了液晶装置的粘结力，从而在使用普通的的材料、设备和工艺的情况下即可实现窄边框液晶面板制造，降低了生产成本。
文档编号G02F1/1333GK102854667SQ201210353460
公开日2013年1月2日 申请日期2012年9月20日 优先权日2012年9月20日
发明者黄华 申请人:京东方科技集团股份有限公司