一种曝光装置的制作方法

本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光装置。

背景技术：

在显示面板的制作过程中，曝光工艺是较为常见的制作工艺。曝光工艺一般通过曝光装置来实现。现有的曝光装置，如图1所示，包括：光源101、掩膜板102、用于承载掩膜板102的第一载台103、光学结构104以及用于承载待曝光基板的第二载台105；其中，光学结构104一般采用由梯形镜106、凹面镜107和凸面镜108组成的UM(Ultra Mirror)结构，光源101则采用圆弧光源，从光学结构104出射的光为圆弧光。

在曝光工艺开始之前，曝光装置通常会对掩膜板进行检查，确认掩膜板的表面无异物，以避免由于掩膜板的表面存在异物导致显示面板出现短路或断路的问题，然而，整个曝光过程无法保证无尘操作，且曝光装置无法在曝光过程中对掩膜板进行检查，从而无法及时发现掩膜板的表面存在异物进而及时停止曝光工艺并采取有效措施，只有在批量制作的显示面板出现不良之后才发现掩膜板的表面存在异物，这势必会影响显示面板的制作良率。并且，曝光装置是通过读取人工放置的标签来选取相应的掩膜板进行曝光工艺，一旦标签放置错误，就会出现掩膜板使用错误的问题，而现有的曝光装置无法自动检测使用的掩膜板是否正确，从而无法及时发现掩膜板使用错误进而及时停止曝光工艺并采取有效措施，这同样会影响显示面板的制作良率。

因此，如何及时发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型实施例提供了一种曝光装置，用以及时发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题。

因此，本实用新型实施例提供了一种曝光装置，包括：位于掩膜板的出光侧的图像采集单元和与所述图像采集单元连接的处理单元；其中，

所述图像采集单元，用于采集曝光过程中由所述掩膜板的出射光所呈现的掩膜板图像，将采集的所述掩膜板图像发送给所述处理单元；

所述处理单元，用于接收所述图像采集单元发送的所述掩膜板图像，将接收的所述掩膜板图像与预存的参考图像进行比较；在所述掩膜板图像与所述参考图像一致时，确定所述掩膜板使用正确且所述掩膜板的表面无异物；在所述掩膜板图像与所述参考图像不一致时，确定所述掩膜板使用错误和/或所述掩膜板的表面存在异物。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，还包括：位于所述掩膜板的出光侧且位于待曝光基板的入光侧的分光单元；

所述分光单元，用于将所述掩膜板的出射光中的一部分透射至所述待曝光基板，另一部分反射至所述图像采集单元；

所述图像采集单元，位于所述分光单元的反射光的出光侧，用于实时采集曝光过程中由所述掩膜板的出射光被所述分光单元反射后所呈现的所述掩膜板图像。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，所述图像采集单元，用于在一个曝光扫描时间内采集由所述掩膜板的出射光被所述分光单元反射后所呈现的所述掩膜板图像。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，还包括：用于承载待曝光基板的载台；

所述图像采集单元，位于所述载台内，用于在所述待曝光基板与下一基板的曝光间隙采集由所述掩膜板的出射光所呈现的所述掩膜板图像。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，所述图像采集单元为照相机。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，所述处理单元为计算机。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，所述分光单元为分光镜。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，所述分光镜的透射光的光强与反射光的光强的比值大于1。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，还包括：与所述处理单元连接的报警单元；

所述报警单元，用于在所述处理单元确定所述掩膜板使用错误和/或所述掩膜板的表面存在异物时，发出警报。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，所述报警单元为报警器。

本实用新型实施例提供的上述曝光装置，包括位于掩膜板的出光侧的图像采集单元和与图像采集单元连接的处理单元；图像采集单元用于采集曝光过程中由掩膜板的出射光所呈现的掩膜板图像，将采集的掩膜板图像发送给处理单元；处理单元用于接收图像采集单元发送的掩膜板图像，将接收的掩膜板图像与预存的参考图像进行比较，在掩膜板图像与参考图像一致时确定掩膜板使用正确且掩膜板的表面无异物，在掩膜板图像与参考图像不一致时确定掩膜板使用错误和/或掩膜板的表面存在异物；这样，利用上述曝光装置进行曝光工艺的过程中，可以及时发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题，从而可以及时停止曝光工艺并采取有效措施，进而可以提高显示面板的制作良率。

附图说明

图1为现有的曝光装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的曝光装置的结构示意图之一；

图3为本实用新型实施例提供的曝光装置的结构示意图之二；

图4为本实用新型实施例提供的曝光装置的结构示意图之三；

图5为本实用新型实施例提供的曝光装置的结构示意图之四；

图6为本实用新型实施例提供的曝光装置采集的掩膜板图像；

图7为本实用新型实施例提供的曝光装置预存的参考图像；

图8为本实用新型实施例提供的曝光装置的具体结构示意图之一；

图9为本实用新型实施例提供的曝光装置的具体结构示意图之二；

图10为本实用新型实施例提供的曝光装置的具体结构示意图之三；

图11为本实用新型实施例提供的曝光装置的具体结构示意图之四。

具体实施方式

下面结合附图，对本实用新型实施例提供的曝光装置的具体实施方式进行详细地说明。

附图中各部件的形状和尺寸不反映其真实比例，目的只是示意说明本实用新型内容。

本实用新型实施例提供的一种曝光装置，如图2-图5所示，包括：位于掩膜板1的出光侧的图像采集单元2和与图像采集单元2连接的处理单元3；其中，

图像采集单元2，用于采集曝光过程中由掩膜板1的出射光所呈现的掩膜板图像，将采集的掩膜板图像发送给处理单元3；

处理单元3，用于接收图像采集单元2发送的掩膜板图像，将接收的掩膜板图像与预存的参考图像(即正确的掩膜板图像)进行比较；在掩膜板图像与参考图像一致时，确定掩膜板1使用正确且掩膜板1的表面无异物；在掩膜板图像与参考图像不一致时，确定掩膜板1使用错误和/或掩膜板1的表面存在异物。例如，以利用正性光刻胶进行曝光工艺为例，图6和图7分别为采集的掩膜板图像和预存的参考图像，将图6和图7进行比较可知，采集的掩膜板图像比预存的参考图像多一个黑点，可以初步判断该黑点为落在掩膜板的透光区域的异物。

本实用新型实施例提供的上述曝光装置，利用图像采集单元采集曝光过程中的掩膜板图像，利用处理单元将采集的掩膜板图像与预存的参考图像进行比较，并根据比较结果确定掩膜板是否使用正确和掩膜板的表面是否存在异物，这样，可以在曝光过程中及时发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题，从而可以及时停止曝光工艺并采取有效措施，例如，针对掩膜板使用错误的问题可以及时更换正确的掩膜板以避免批量曝光之后再发现问题，针对掩膜板表面存在异物的问题可以及时清理掩膜板表面的异物以避免对后续基板的曝光工艺产生影响，进而可以提高显示面板的制作良率。

需要说明的是，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，处理单元将接收的掩膜板图像与预存的参考图像进行比较，在掩膜板图像与参考图像不一致时，可能存在如下三种情况：第一种情况，掩膜板使用错误；第二种情况，掩膜板的表面存在异物；第三种情况，掩膜板使用错误且掩膜板的表面存在异物。上述三种情况的区分，可以通过人工检查确定掩膜板是否使用错误，然后将掩膜板送入曝光装置的检测单元中，利用检测单元检测掩膜板的表面是否存在异物以及异物的数量和尺寸等参数。

下面通过两个具体的实例对本实用新型实施例提供的上述曝光装置的具体实现方式进行详细说明。

实例一：

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，如图2所示，还可以包括：位于掩膜板1的出光侧且位于待曝光基板4的入光侧的分光单元5；分光单元5，用于将掩膜板1的出射光中的一部分透射至待曝光基板4，另一部分反射至图像采集单元2；图像采集单元2，位于分光单元5的反射光的出光侧，用于实时采集曝光过程中由掩膜板1的出射光被分光单元5反射后所呈现的掩膜板图像；也就是说，掩膜板1的出射光经过分光单元5后，透射光照射在待曝光基板4上用于曝光工艺，反射光被图像采集单元2采集用于呈现掩膜板图像，这样，可以实时采集掩膜板图像，从而可以实时监测掩膜板1是否使用正确和掩膜板1的表面是否存在异物，进而可以在曝光过程中更加及时地发现掩膜板1使用错误和掩膜板1表面存在异物的问题。

较佳地，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，如图2所示，图像采集单元2，用于在一个曝光扫描时间内采集由掩膜板1的出射光被分光单元5反射后所呈现的掩膜板图像，即图像采集单元2可以在一个曝光扫描时间内采集掩膜板图像，从而可以实现实时采集掩膜板图像。需要说明的是，整张待曝光基板的曝光工艺需要经过数次曝光扫描才能完成，一个曝光扫描时间是指一次曝光扫描的时间。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，如图3所示，还可以包括：与处理单元3连接的报警单元6；报警单元6，用于在处理单元3确定掩膜板1使用错误和/或掩膜板1的表面存在异物时，发出警报；这样，曝光装置可以在确定掩膜板1使用错误和/或掩膜板1的表面存在异物时，提示操作人员停止曝光工艺并采取有效措施。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，如图2和图3所示，还可以包括：由梯形镜8、凹面镜9和凸面镜10组成的UM光学结构以及圆弧光源11；圆弧光源11发出的圆弧光经过掩膜板1后，从掩膜板1出射的圆弧光携带有掩膜板1的图像信息，经过UM光学结构后仍以圆弧光的形式出射，经过分光单元5后的透射光照射在待曝光基板4上用于曝光工艺，反射光被图像采集单元2采集用于呈现掩膜板图像。在具体实施时，本实用新型实施例提供的上述曝光装置并非局限于如图2和图3所示的结构，还可以适用于设置有其他类型的光学结构的曝光装置或不设置光学结构的曝光装置等，在此不做限定。

实例二：

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，如图4所示，还可以包括：用于承载待曝光基板4的载台7；图像采集单元2位于载台7内，由于在待曝光基板4的曝光时间内，待曝光基板4被置于载台7上，图像采集单元2会被待曝光基板4遮挡而无法采集由掩膜板1的出射光，因此，图像采集单元2用于在待曝光基板4与下一基板的曝光间隙(此时载台7上未放置基板)采集由掩膜板1的出射光所呈现的掩膜板图像；也就是说，掩膜板1的出射光既可以在每个基板的曝光时间内照射在待曝光基板4上用于曝光工艺，又可以在两个基板的曝光间隙被图像采集单元2采集用于呈现掩膜板图像，这样，与现有的曝光装置相比，曝光强度不变，曝光用量不变，因此，可以保证曝光时间不变。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，如图5所示，还可以包括：与处理单元3连接的报警单元6；报警单元6，用于在处理单元3确定掩膜板1使用错误和/或掩膜板1的表面存在异物时，发出警报；这样，曝光装置可以在确定掩膜板1使用错误和/或掩膜板1的表面存在异物时，提示操作人员停止曝光工艺并采取有效措施。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，如图4和图5所示，还可以包括：由梯形镜8、凹面镜9和凸面镜10组成的UM光学结构以及圆弧光源11；圆弧光源11发出的圆弧光经过掩膜板1后，从掩膜板1出射的圆弧光携带有掩膜板1的图像信息，经过UM光学结构后仍以圆弧光的形式出射，在每个基板的曝光时间内照射在待曝光基板4上用于曝光工艺，在两个基板的曝光间隙被图像采集单元2采集用于呈现掩膜板图像。在具体实施时，本实用新型实施例提供的上述曝光装置并非局限于如图4和图5所示的结构，还可以适用于设置有其他类型的光学结构的曝光装置或不设置光学结构的曝光装置等，在此不做限定。

需要说明的是，在本实用新型实施例提供的上述实例一和实例二中的曝光装置中，实例一中的曝光装置可以实时采集掩膜板图像，从而可以实时监测掩膜板是否使用正确和掩膜板的表面是否存在异物，进而可以在曝光过程中更加及时地发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题，然而，由于掩膜板的出射光经分光单元后的透射光照射在待曝光基板上用于曝光工艺，因此，与现有的曝光装置相比，曝光强度降低，曝光用量降低，曝光时间延长；实例二中的曝光装置直接利用掩膜板的出射光照射在待曝光基板上用于曝光工艺，与现有的曝光装置相比，曝光强度不变，曝光用量不变，因此，可以保证曝光时间不变，然而，实例二中的曝光装置只能在两个基板的曝光间隙采集掩膜板图像，不能实时采集掩膜板图像，不能实时监测掩膜板是否使用正确和掩膜板的表面是否存在异物。在具体实施时，可以综合考虑上述两种曝光装置的优缺点，根据实际需要，选择合适的曝光装置进行曝光工艺。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，如图8-图11所示，图像采集单元2具体可以为照相机20；或者，也可以为能够采集图像的其他器件，在此不做限定。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，如图8-图11所示，处理单元3具体可以为计算机30；或者，也可以为能够处理数据的其他器件，在此不做限定。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，如图8和图9所示，分光单元5具体可以为分光镜50；或者，也可以为能够实现分光功能的其他结构，在此不做限定。

较佳地，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，为了保证曝光工艺中足够的曝光强度和曝光用量，可以将分光镜的透射光的光强与反射光的光强的比值控制在大于1的范围为佳。在具体实施时，可以根据实际需要，选择不同的镀膜镜片实现透射光和反射光按照不同的光强比例进行分配。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的上述曝光装置中，如图9和图11所示，报警单元6具体可以为报警器60；或者，也可以为能够发出警报的其他器件，在此不做限定。

本实用新型实施例提供的一种曝光装置，包括位于掩膜板的出光侧的图像采集单元和与图像采集单元连接的处理单元；图像采集单元用于采集曝光过程中由掩膜板的出射光所呈现的掩膜板图像，将采集的掩膜板图像发送给处理单元；处理单元用于接收图像采集单元发送的掩膜板图像，将接收的掩膜板图像与预存的参考图像进行比较，在掩膜板图像与参考图像一致时确定掩膜板使用正确且掩膜板的表面无异物，在掩膜板图像与参考图像不一致时确定掩膜板使用错误和/或掩膜板的表面存在异物；这样，可以在曝光过程中及时发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题，从而可以及时停止曝光工艺并采取有效措施，例如，针对掩膜板使用错误的问题可以及时更换正确的掩膜板以避免批量曝光之后再发现问题，针对掩膜板表面存在异物的问题可以及时清理掩膜板表面的异物以避免对后续基板的曝光工艺产生影响，进而可以提高显示面板的制作良率。

显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。