一种吸附杆、真空贴合设备以及真空贴合设备的控制方法与流程

本发明涉及显示面板制造技术领域，尤其涉及一种吸附杆、真空贴合设备以及真空贴合设备的控制方法。

背景技术：

在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体管液晶显示器)制造行业中的真空贴合工艺是指，在密闭的真空环境下，通过真空贴合设备(Vacuum Aligner System，简称VAS)中的上基台和下基台分别吸附彩膜基板和阵列基板，通过上基台和下基台之间的相对移动，将彩膜基板和阵列基板对位贴合以形成液晶面板。

如图1所示，现有的真空贴合设备通常包括相互对合设置的上腔室10和下腔室20，上腔室10和下腔室20的边缘能够相互对接压合以形成密闭空间，在上腔室10内设置有上基台11，上基台11上设置有吸附杆12，吸附杆12一端穿过上基台11向下伸出，用于吸附待压合彩膜基板13并将待压合彩膜基板13固定在上基台11的下表面，在下腔室20内设置有下基台21，下基台21上设置有支撑杆22，支撑杆22用于支撑待压合阵列基板23并将待压合阵列基板23固定在下基台21的上表面上。

其中，如图2所示，现有的吸附杆12由驱动杆体121和通过螺丝122与驱动杆体121固定连接的吸附端123组成。吸附端123通常为喇叭口设计，在吸附固定待压合彩膜基板13时，通过排除喇叭口内的空气形成真空空腔对待压合彩膜基板13真空吸附。然后，在上腔室10与下腔室20之间对合形成真空密闭空间后，上基台11在驱动作用下向下基台21运动，带动待压合彩膜基板13靠近待压合阵列基板23直至与待压合阵列基板23压合成形。

随着液晶面板对PPI(Pixels Per Inch，像素密度)的要求越来越高，也就要求彩膜基板和阵列基板在真空贴合时的精度越高。而真空贴合设备中待压合彩膜基板13和待压合阵列基板23在贴合前的平坦度对真空贴合精度的影响极大，待压合彩膜基板13和待压合阵列基板23的平坦度越高，才能使得真空贴合精度越高。

然而在真空贴合设备中，吸附固定于上基台11的待压合彩膜基板13始终存在一定的弯曲变形量，尤其是在真空贴合设备长时间使用后，吸附杆12由于长时间运动，多个吸附杆12之间难以保持一致性，从而就会导致每个吸附杆12与待压合彩膜基板13的接触磨损程度和吸附程度产生差异，进而导致待压合彩膜基板13的整体平坦度下降。这种差异难以通过肉眼观察而发现，通常只有在产生批量次品问题后才能确定，这就容易导致产品的次品率升高。在确定吸附杆12的长度差异影响待压合彩膜基板13的整体平坦度后，需要先使设备停机对所有吸附杆12进行检测和对比，然后对其中磨损严重、与其他吸附杆12的长度差异较大的吸附杆12进行维修或更换，再对所有吸附杆12进行整体的调整测试后重新开机使用，这样一来，一方面，设备停机会严重影响产线的产能效率，另一方面，对设备中所有吸附杆12的检测、对问题吸附杆12的维修或更换，以及对维修或更换后的所有吸附杆12的再次调试均需要耗费大量人力和工时。

技术实现要素：

本发明实施例提供一种吸附杆、真空贴合设备以及真空贴合设备的控制方法，能够解决真空贴合设备中吸附杆无法调整自身长度的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面，提供一种吸附杆，包括电磁组件，电磁组件包括滑杆，以及设置在滑杆上的固定线圈和活动部，固定线圈缠绕在滑杆外周，活动部包括弹性元件和活动磁铁，弹性元件的固定端与滑杆固定连接、活动端连接活动磁铁。吸附件，固定连接活动磁铁，且露出于活动磁铁远离固定线圈的一端。其中，固定线圈通入电流产生磁场，以使得活动磁铁在与磁场的排斥力作用下在滑杆上滑动。

进一步的，在固定线圈内部还设置有固定导体，固定导体固定连接在滑杆上。

进一步的，吸附杆还包括压力传感器，压力传感器设置在滑杆靠近固定线圈的一端。

优选的，活动磁铁为包括至少一个开口端的圆柱型空腔，且圆柱型空腔通过开口端套设在滑杆外周。

优选的，吸附件包括吸盘。

进一步的，吸盘的内表面涂覆有粘贴胶层。

本发明实施例的另一方面，提供一种真空贴合设备，包括相对设置的上基台和下基台，以及设置在上基台上的驱动部件，还包括如上述任一项的吸附杆，其中，吸附杆设置有压力传感器的一端通过压力传感器与驱动部件连接、另一端垂直穿透并伸出于上基台的下表面，多个吸附杆之间平行设置，且能够在驱动部件的驱动作用下相对于上基台上、下移动。

进一步的，真空贴合设备还包括控制器，电磁组件中的固定线圈与控制器电连接，控制器用于向固定线圈输入电流。

优选的，吸附杆还包括压力传感器时，控制器与每一个压力传感器电连接，用于接收压力传感器测得的拉力值，并根据拉力值控制向固定线圈输入的电流值。

本发明实施例的再一方面，提供一种真空贴合设备的控制方法，包括：向吸附杆的固定线圈输入电流，以产生排斥活动磁铁的磁场，使得活动磁铁带动吸附件在滑杆上滑动。

进一步的，吸附杆还包括压力传感器时，控制方法还包括：获取压力传感器测得的拉力值。求取拉力值与拉力标准值之差，得到拉力调整值；其中，拉力标准值为多个压力传感器的拉力平均值或预先设置的标准值。将拉力调整值转换成对应的电流值。向吸附杆的固定线圈输入电流具体为：根据电流值，向吸附杆的固定线圈输入电流。

进一步的，在将拉力调整值转换成对应的电流值的步骤之前，控制方法还包括：确定拉力调整值是否在预设的误差阈值范围内。若拉力调整值在预设的误差阈值范围内，则保持输入的电流值大小不变；若拉力调整值不在预设的误差阈值范围内，则执行将拉力调整值转换成对应的电流值的步骤。

本发明实施例提供一种吸附杆、真空贴合设备以及真空贴合设备的控制方法，包括相对设置的上基台和下基台，以及设置在上基台上的驱动部件，还包括如上述任一项的吸附杆，其中，吸附杆设置有压力传感器的一端通过压力传感器与驱动部件连接、另一端垂直穿透并伸出于上基台的下表面，多个吸附杆之间平行设置，且能够在驱动部件的驱动作用下相对于上基台上、下移动。通过向电磁组件中的固定线圈通入电流并调整电流值的大小，以产生并改变固定线圈上的磁场的磁场强度，进而根据同性磁极相斥的原理，以使得活动磁铁在排斥力作用下克服弹性元件的作用力以改变在滑杆上的位置，从而使得吸附杆的自身长度能够调整，以对吸附件所吸附的待压合彩膜基板的高度进行调节，进而提高待压合彩膜基板的整体平坦度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术的真空贴合装置的结构示意图；

图2为现有技术的真空贴合装置中的吸附杆的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种吸附杆的结构示意图之一；

图4为本发明实施例提供的一种吸附杆的结构示意图之二；

图5为本发明实施例提供的一种吸附杆的结构示意图之三；

图6为本发明实施例提供的一种吸附杆的结构示意图之四；

图7为本发明实施例提供的一种真空贴合装置的结构示意图之一；

图8为本发明实施例提供的一种真空贴合装置的结构示意图之二；

图9为本发明实施例提供的一种真空贴合装置的结构示意图之三；

图10为本发明实施例提供的一种真空贴合装置的控制方法的流程图一；

图11为本发明实施例提供的一种真空贴合装置的控制方法的流程图二；

图12为本发明实施例提供的一种真空贴合装置的控制方法的流程图三；

图13为本发明实施例提供的一种真空贴合装置的控制方法的流程图四。

附图标记：

10-上腔室；11-上基台；12-吸附杆；121-驱动杆体；122-螺丝；123-吸附端；124-电磁组件；1241-滑杆；1242-固定线圈；1243-活动部；1244-弹性元件；1245-活动磁铁；1246-固定导体；125-吸附件；126-压力传感器；13-待压合彩膜基板；14-驱动部件；15-控制器；20-下腔室；21-下基台；22-支撑杆；23-待压合阵列基板；a-弹性元件固定端；b-弹性元件活动端。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种吸附杆，如图3所示，包括电磁组件124，电磁组件124包括滑杆1241，以及设置在滑杆1241上的固定线圈1242和活动部1243，固定线圈1242缠绕在滑杆1241外周，活动部1243包括弹性元件1244和活动磁铁1245，弹性元件1244的固定端a与滑杆1241固定连接、活动端b连接活动磁铁1245。吸附件125，固定连接活动磁铁1245，且露出于活动磁铁1245远离固定线圈1242的一端。其中，固定线圈1242通入电流产生磁场，以使得活动磁铁1245在与磁场的排斥力作用下在滑杆1241上滑动。

需要说明的是，第一，如图3所示，电磁组件124中的固定线圈1242和活动部1243在滑杆1241上相对的两侧设置。固定线圈1242在滑杆1241上的相对位置固定不变，弹性元件1244的固定端a与滑杆1241固定连接，位置固定不变，弹性元件1244的活动端b连接活动磁铁1245，活动磁铁1245的重力作用使弹性元件1244产生一定程度的弹性形变而拉伸变形，弹性元件1244恢复变形的力与活动磁铁1245的重力平衡后呈稳定状态，活动磁铁1245能够稳定的停留在滑杆1241周边一固定位置。

第二，由于滑杆1241通常为绝缘材料制成，缠绕在滑杆1241外周的固定线圈1242形成螺线圈，向固定线圈1242通入一个恒定电流，根据安培定则，即可在固定线圈1242周围形成与恒定电流值相对应的磁场，其中，在固定线圈1242两端分别为N极和S极，改变电流方向和/或电流值，能够对应改变固定线圈1242两端磁极的方向和/或磁场强度的大小。活动磁铁1245也具有恒定的磁场。例如，如图3所示，通入恒定电流后，固定线圈1242下端的磁极为N极，活动磁铁1245的自身磁场中，上端的磁极也为N极，根据同性相斥的原理，固定线圈1242对活动磁铁1245的排斥力的作用会推动活动磁铁1245沿滑杆1241的外周向下滑动，活动磁铁1245向下滑动的过程中，弹性元件1244进一步拉伸变形，弹性元件1244恢复变形的力与固定线圈1242对活动磁铁1245的排斥力和活动磁铁1245自身的重力达到受力平衡后，活动磁铁1245不再向下滑动而是再次稳定停留在滑杆1241周边一个固定位置。改变通入电流的大小，固定线圈1242对活动磁铁1245的排斥力发生变化，相应的，活动磁铁1245会沿滑杆1241的外周向上或向下滑动后重新达到受力平衡而停留。同样的，改变通入电流的方向，会改变固定线圈1242的磁极方向，从而使固定线圈1242对活动磁铁1245产生异性相吸的吸引力，以改变活动磁铁1245与滑杆1241的相对位置，原理及过程与上述同性相斥的原理和过程相反，此处不再赘述。

第三，本发明实施例的吸附杆对于活动磁铁1245的磁场产生方式不做具体限定，例如，活动磁铁1245可以为由天然磁铁材料制成，具有恒定的磁场，也可以与固定线圈1242类似，通过电生磁的方式形成恒定的磁场。

第四，吸附件125与活动磁铁1245固定连接，且露出于活动磁铁1245远离固定线圈1242的一端。例如，如图3所示，可以为吸附件125的顶端直接固定于活动磁铁1245的底端，也可以为其他位置固定，只要保证吸附件125与活动磁铁1245固定连接且吸附件125的下端露出于活动磁铁1245的下端即可。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述过程，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

本发明实施例提供一种吸附杆、真空贴合设备以及真空贴合设备的控制方法，包括相对设置的上基台和下基台，以及设置在上基台上的驱动部件，还包括如上述任一项的吸附杆，其中，吸附杆设置有压力传感器的一端通过压力传感器与驱动部件连接、另一端垂直穿透并伸出于上基台的下表面，多个吸附杆之间平行设置，且能够在驱动部件的驱动作用下相对于上基台上、下移动。通过向电磁组件中的固定线圈通入电流并调整电流值的大小，以产生并改变固定线圈上的磁场的磁场强度，进而根据同性磁极相斥的原理，以使得活动磁铁在排斥力作用下克服弹性元件的作用力以改变在滑杆上的位置，从而使得吸附杆的自身长度能够调整，以对吸附件所吸附的待压合彩膜基板的高度进行调节，进而提高待压合彩膜基板的整体平坦度。

进一步的，如图4所示，在固定线圈1242内部还设置有固定导体1246，固定导体1246固定连接在滑杆1241上。

如图4所示，固定导体1246固定连接在滑杆1241上，固定线圈1242缠绕在固定导体1246的外周，这样一来，当向固定线圈1242中通入恒定电流以在固定线圈1242周围产生磁场时，固定导体1246能够增大所产生磁场的磁场强度。此外，还可以通过增加缠绕的固定线圈1242的匝数等方式来进一步增大磁场强度，进而在使吸附杆12的长度改变量相同的情况下，降低所需通入电流值的大小。

进一步的，如图5所示，本发明实施例的吸附杆12还包括压力传感器126，其中，压力传感器126设置在滑杆1241靠近固定线圈1242的一端。

当本发明实施例的吸附杆12安装于真空贴合设备的驱动部件上时，如图7所示，吸附杆12通过压力传感器126与驱动部件14连接，多个吸附杆12下端的吸附件125共同吸附待压合彩膜基板13后，每一个吸附杆12上的压力传感器126能够检测吸附杆12顶端所承受的拉力值，吸附杆12顶端所承受的拉力值包括吸附杆12自身重力以及承担的部分待压合彩膜基板13的重力的合力。若多个吸附杆12中的某个吸附杆12的长度与其他吸附杆12的长度不同，以至于该吸附杆12对其对应位置处的待压合彩膜基板13的吸附力与其他吸附杆12有明显差异时，该吸附杆12上的压力传感器126测得的拉力值也会与其他吸附杆12上的压力传感器126测得的拉力值具有较大的差异。通过压力传感器126对吸附杆12顶端拉力值的检测，能够判断吸附杆12的位置状态，并有针对性的改变固定线圈1242对活动磁铁1245的排斥力的大小。

优选的，如图6所示，活动磁铁1245为包括至少一个开口端的圆柱型空腔，且圆柱型空腔通过开口端套设在滑杆1241的外周。

这样一来，如图6所示，一方面，圆柱型空腔的活动磁铁1245通过开口端套设在滑杆1241的外周，当活动磁铁1245受力上、下滑动时，能够沿滑杆1241的外周向上或向下滑动，提高了运动的稳定性，避免在向上或向下滑动过程中产生横向方向的漂移而影响活动磁铁1245的运动准确性；另一方面，活动磁铁1245套设在滑杆1241的整个外周，相较于单独的一块或几块均布设置于滑杆1241外周的情形，提高了活动磁铁1245的磁场强度，在向固定线圈1242通入相同电流值的情况下，活动磁铁1245能够移动较大的距离，进而提高了吸附杆12长度变化的效率。

此外，活动磁铁1245还可以设置为空心圆柱套筒的结构，即在如图6所示的上端开口的圆柱型空腔的结构基础上，下端也设置有开口端，且上、下开口端连通使得整个活动磁铁1245中空。这样能够节省活动磁铁1245底端部分的材料，且减轻弹性元件1244的重力拉伸。

优选的，吸附件125包括吸盘。

吸盘内部包括一个空腔，吸盘吸附待吸附物品时，通过吸盘的空腔边缘与待吸附物品的表面接触后形成封闭的空腔，并在进一步挤压力的作用下排除封闭空腔内的空气形成真空空腔，真空空腔内的负压将待吸附物品与吸盘之间紧密吸附。通常，待吸附物品表面越光滑，与吸盘之间的贴合度越高，越能够将空腔内的空气彻底挤压，形成的真空空腔内的负压越大。由于本发明实施例的吸附件125需要对液晶显示面板的彩膜基板进行吸附，彩膜基板表面平滑，与吸盘之间的贴合度较高，因此，本发明中选用吸盘作为吸附件125，结构简单，吸附效果好。

进一步的，在吸盘的内表面涂覆有粘贴胶层。

为了进一步提高吸盘对于待压合彩膜基板13的吸附作用，降低待压合彩膜基板13由于吸附不牢而脱落损坏的风险，在吸盘的内表面涂覆有粘贴胶层，这样一来，在吸盘内真空空腔的负压对待压合彩膜基板13进行吸附的同时，吸盘的内表面的粘贴胶层对待压合彩膜基板13还具有粘附的作用，提高待压合彩膜基板13的安全性。或者，也可以选用带有一定粘性的材料作为吸盘的制作原料，以使得吸盘由于材料的特性具有一定的粘性。

本发明实施例的另一方面，提供一种真空贴合设备，如图7所示，包括相对设置的上基台11和下基台21，以及设置在上基台11上的驱动部件14，还包括如上述任一项的吸附杆12，其中，吸附杆12设置有压力传感器126的一端通过压力传感器126与驱动部件14连接、另一端垂直穿透并伸出于上基台11的下表面，多个吸附杆12之间平行设置，且能够在驱动部件14的驱动作用下相对于上基台11上、下移动。

如图7所示，吸附杆12通过压力传感器126与驱动部件14连接，多个吸附杆12下端的吸附件125共同吸附待压合彩膜基板13后，每一个吸附杆12上的压力传感器126能够检测吸附杆12顶端所承受的拉力值，吸附杆12顶端所承受的拉力值包括吸附杆12自身重力以及承担的部分待压合彩膜基板13的重力的合力。若多个吸附杆12中的某个吸附杆12的长度与其他吸附杆12的长度不同，以至于该吸附杆12对其对应位置处的待压合彩膜基板13的吸附力与其他吸附杆12有明显差异时，该吸附杆12上的压力传感器126测得的拉力值也会与其他吸附杆12上的压力传感器126测得的拉力值具有较大的差异。例如，若该吸附杆12长度小于其他吸附杆12的长度，则在多个吸附杆12共同吸附待压合彩膜基板13时，该吸附杆12吸附待压合彩膜基板13的力就会小于其他吸附杆12对待压合彩膜基板13的吸附力，即该吸附杆12上的压力传感器126测得的拉力值会小于其他吸附杆12上的压力传感器126测得的拉力值，反之同理。因此，通过压力传感器126对吸附杆12顶端拉力值的检测，能够判断吸附杆12的位置状态，并有针对性的改变通入该吸附杆12上固定线圈1242的电流值，以改变相同磁极之间排斥力的大小，对活动磁铁1245进行推动，进而最终对该吸附杆12的长度进行相应的调整。

这样一来，就能够通过对吸附杆12自身长度的调整，提高多个吸附杆12对待压合彩膜基板13上各处吸附力的均匀性，从而提高待压合彩膜基板13在与待压合阵列基板23进行压合操作前的整体平坦度，进而提高真空贴合精度。

在对吸附杆12进行调整后，再通过驱动部件14的驱动作用，带动待压合彩膜基板13贴近上基台11的下表面，在上腔室10与下腔室20闭合形成真空状态后，上基台和由吸附杆12吸附的待压合彩膜基板13共同向下运动与下基台21上的待压合阵列基板23进行压合操作。

进一步的，如图8所示(图8中为了避免连线过多，仅示例控制器15与其中三个吸附杆12的固定线圈1242之间的连线，其他未连线的吸附杆12的固定线圈1242连接方式与示例相同)，真空贴合设备还包括控制器15，电磁组件124中的固定线圈1242与控制器15电连接，控制器15用于向固定线圈1242输入电流。

这样一来，通过控制器15向电磁组件124中的固定线圈1242输入电流，能够提高电流输入的准确性，提高真空贴合设备的自动化程度。例如，可以在存储器中预先存储所需输入的电流值，在本发明实施例的真空贴合设备工作时，控制器直接由存储器中调用预先存储的信息，向电磁组件124中的固定线圈1242输入相应的电流，实现操作。其中，上述的存储器可以为额外设置的具有信息存储功能的部件，也可以为集成在控制器中15的存储单元，此处对存储器的形态不做具体的限定。

优选的，如图9所示(与图8中相类似的，为了避免连线过多，仅示例控制器15与其中三个吸附杆12的压力传感器126之间连线，其他未连线的吸附杆12的压力传感器126连接方式与示例相同)，吸附杆12还包括压力传感器126时，控制器15与每一个压力传感器126电连接，用于接收压力传感器126测得的拉力值，并根据拉力值控制向固定线圈1242输入的电流值。

这样一来，能够根据压力传感器126测得的拉力值判断多个吸附杆12的吸附效果，并通过分别对通入吸附杆12中的电流值的对应调整，减小多个吸附杆12之间长度的差异。在对通入多个吸附杆12中的电流值进行调整后，还可以再次获取压力传感器126测得的拉力值，反馈调整效果，对于差异较大的吸附杆12对应进行再次的调整以进一步提高待压合彩膜基板13的平坦度。

本发明实施例的再一方面，提供一种真空贴合设备的控制方法，如图10所示，包括：S101、向吸附杆12的固定线圈1242输入电流，以产生排斥活动磁铁1245的磁场，使得活动磁铁1245带动吸附件125在滑杆1241上滑动。

在本发明实施例的真空贴合设备的控制方法中，为了保证活动磁铁1245在磁场作用下的稳定性，以提高真空贴合设备中吸附杆12对于待压合彩膜基板13的吸附可靠性，仅使用同磁极排斥力的作用，对固定线圈1242输入电流使得固定线圈1242靠近活动磁铁1245的一侧的磁极与活动磁铁1245靠近固定线圈1242一侧的磁极相同，从而将活动磁铁1245向远离固定线圈1242的一侧推动(如图6中所示，即为向下推动)，当弹性元件1244产生相应的拉伸变形后，弹性元件1244上的恢复变形的力与活动磁铁1245的重力以及活动磁铁1245上所承受的排斥力的作用相平衡后，达到稳定状态并停留在滑杆1241上某一固定位置。

向吸附杆12的固定线圈1242输入电流值的大小不同，产生的磁场对活动磁铁1245的排斥力大小不同，则受力平衡后活动磁铁1245停留在滑杆1241上的上、下位置也不同，即可对吸附杆12的长度进行调整。

进一步的，如图11所示，吸附杆12还包括压力传感器126时，控制方法还包括：S201、获取压力传感器126测得的拉力值。S202、求取拉力值与拉力标准值之差，得到拉力调整值；其中，拉力标准值为多个压力传感器126的拉力平均值或预先设置的标准值。S203、将拉力调整值转换成对应的电流值。其中，如图12所示，向吸附杆12的固定线圈1242输入电流具体为：S1011、根据电流值，向吸附杆12的固定线圈1242输入电流。

需要说明的是，第一，本发明实施例的控制方法中，拉力标准值可以为多个压力传感器126的拉力平均值，或者，也可以为预先设置的标准值。当拉力标准值为多个压力传感器126的拉力平均值时，需要在获取压力传感器126测得的拉力值之后，首先计算出多个压力传感器126的拉力平均值，然后再求取拉力值与拉力标准值之差作为拉力调整值。优选的，拉力标准值为预先设置的标准值，这就需要在存储器中预先存储该标准值，在步骤S202时，控制器15直接由存储器中调用预先存储的标准值进行计算。其中，存储器可以为额外设置的具有信息存储功能的部件，也可以为集成在控制器中15的存储单元。这样一来，一方面，能够减少控制器15的运算处理时间，提高控制器15的响应速度，另一方面，也可以降低当个别吸附杆12的压力传感器126的检测数据出错时，出错数据对计算的拉力平均值的准确性产生的影响。

第二，在步骤S203中将拉力调整值转换成对应的电流值，可以为通过计算的方式，根据拉力调整值与所需增大或减小的电流值之间的对应关系，将拉力调整值与电流值进行对应的转换，也可以通过多次试验的经验值进行制表，通过查表的方式将拉力调整值与电流值进行对应。

第三，步骤S1011中，根据电流值向吸附杆12的固定线圈1242输入电流。该电流值即步骤S203中通过拉力调整值转换的电流值，此处所述的电流值，可以为重新计算或查表得到的对应电流值，将该电流值重新输入电磁组件124中的固定线圈1242以调整对活动磁铁1245的排斥力大小，也可以为在原有电流值的基础上进行电流大小调整的电流改变值，这种情况下，即为在原先的输入电流值的基础上，直接将该电流改变值加入，对原先输入电流值相应的增大或减小，使得实际电流值得到相应的改变，以调整对活动磁铁1245的排斥力大小。

进一步的，如图13所示，在将拉力调整值转换成对应的电流值的步骤之前，控制方法还包括：S301、确定拉力调整值是否在预设的误差阈值范围内。S3021、若拉力调整值在预设的误差阈值范围内，则保持输入的电流值大小不变；S3021、若拉力调整值不在预设的误差阈值范围内，则执行将拉力调整值转换成对应的电流值的步骤S203。

需要说明的是，预设的误差阈值范围指的是在存储器中预设的一个以拉力标准值为中心，包括有合理的正误差范围和合理的负误差范围的整个误差阈值范围。

对于运行状态良好的吸附杆12，或者经过至少一次调整后的吸附杆12，在步骤S202之后，在步骤S301中进行判断，若拉力调整值在预设的误差阈值范围内，则说明该吸附杆12已调整至均衡状态，无需再次调整，此时保持输入的电流值大小不变，不再进行调整。若拉力调整值不在预设的误差阈值范围内，说明吸附杆12仍然未达到均衡状态，此时继续执行步骤S203，将该拉力调整值转换成对应的电流值输入固定线圈1242中对吸附杆12进行调整。

作为反馈调整部分，该部分的运行反复循环多次，直至所有吸附杆12均已通过步骤S3021达到均衡状态为止。

还需要说明的是，本发明实施例的吸附杆中，电磁组件部分依据电磁感应的原理，通过调整电流大小，改变磁场强度，调整活动磁铁1245与固定线圈1242之间的距离，达到调整吸附杆12的长度的目的，本发明实施例不限于此，例如，还可以将电磁组件替换为电致伸缩材料，依据电致伸缩材料的特性，通过改变通入电流的大小以改变电致伸缩材料的长度，达到调整吸附杆12的长度的目的，又例如，还可以将电磁组件替换为其他可形变材料，利用某一外部条件的改变与可形变材料的伸缩变化之间的对应关系，通过改变外部条件，调整可形变材料的形变量，达到调整吸附杆12的长度的目的。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。