一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液、其制备方法和应用与流程

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液、其制备方法和应用。本发明公开的应用中，所述的清洗液由下述原料制得，所述的原料包含下列组分：分散剂、氟化物、有机溶剂、缓蚀剂、有机胺和水；其中，所述的分散剂为聚羧酸类分散剂和/或有机膦类分散剂。本发明的清洗液在清洗刻蚀灰化后的半导体芯片的应用中，清洗质量和效果好。

技术研发人员：王溯;蒋闯
受保护的技术使用者：上海新阳半导体材料股份有限公司
技术研发日：2017.07.25
技术公布日：2017.10.03