一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及平板显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置。
【背景技术】
[0002]如今，平板显示器由于轻、薄、低辐射等因素，已经成为目前显示应用的主流。对于平板显示器的显示面板而言，窄边框的显示面板外形美观且有利于实现拼接大尺寸显示产品，因此，很多制造厂商都在追求窄边框设计，显示面板的窄边框设计已成为显示领域发展的重要趋势。
[0003]目前，显示面板的窄边框的实现通常有如下方式:一是减小显示面板的非显示区内的信号线的线宽和线间距，从而节省空间来实现窄边框；二是对栅极驱动电路(gatedriver)进行设计，例如减少栅极驱动电路中的元件数量或元件尺寸，从而压缩栅极驱动电路所占用的空间。
[0004]但是，对于第一种方式，由于其实现受到对准误差、mura不良和工艺稳定性等方面的限制，实现大幅节省显示面板的非显示区内的信号线所占用的空间比较困难；第二种方式中，减少栅极驱动电路中的元件数量或元件尺寸需要考虑信号稳定性和抗静电能力，因此对栅极驱动电路的改进同样具有较高的难度。
【发明内容】
[0005]本发明的目的是提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置，以降低制备窄边框显示面板的难度。
[0006]本发明的目的是通过以下技术方案实现的:
[0007]本发明实施例提供一种阵列基板，包括依次形成于衬底基板上的金属导电层、所述金属导电层上方的绝缘层和所述绝缘层上方的辅助导电层；
[0008]所述金属导电层包括多条第一导线，所述辅助导电层包括多条第二导线，每一条所述第一导线对应至少一条所述第二导线；
[0009]所述第二导线经所述绝缘层上的连接结构与相对应的所述第一导线电连接，所述连接结构的垂直投影位于所述阵列基板的非显示区内。
[0010]本发明实施例中，阵列基板的所述金属导电层的所述第一导线通过与之电连接的所述第二导线延伸至辅助导电层，即所述第一导线原本在所述非显示区的走线转移至所述辅助导电层，可以减少所述非显示区的面积或宽度，所述阵列基板应于显示面板时，可以降低实现窄边框的显示面板的难度。
[0011]优选的，所述金属导电层包括源漏极金属层和/或栅极金属层，所述第一导线包括数据线、栅线、电源信号线、接地线、公共电极线、时钟信号线中的至少一种。本发明实施例中，所述第一导线可以为所述源漏极金属层和/或所述栅极金属层所包括多种导线中的一种或几种，与所述第二导线纵向电连接后，可以减少所述第一导线在所述源漏极金属层和/或所述栅极金属层的所述非显示区的占用的走线空间；同时，由所述第二导线作为所述第一导线的延伸线，能够增强所述第一导线的抗静电能力。
[0012]优选的，所述绝缘层为钝化层和平坦化层中的任一种或组合，所述钝化层为氧化硅膜层和氮化硅膜层中的任意一种或复合膜层，所述平坦化层为聚甲基丙烯酸甲酯膜层。
[0013]优选的，所述连接结构为过孔，所述第二导线经所述过孔与相对应的所述第一导线电连接。
[0014]优选的，所述连接结构为切口，所述第二导线在所述切口处覆盖相对应的所述第一导线。本发明实施例中，在所述第二导线和所述第一导线的电连接处，所述第二导线对所述第一导线进行覆盖保护。
[0015]优选的，所述第二导线具有镂空结构。本发明实施例中，镂空结构的导线结构，能够减少所述第二导线所在层和所述第一导线所在层之间的寄生电容。
[0016]优选的，所述第二导线的材料为氧化铟锡ITO。本发明实施例中，在所述第二导线和所述第一导线的电连接处，所述第二导线对所述第一导线进行覆盖保护，且由于所述第二导线为ITO材料，能够对电连接处的所述第一导线进行防水保护和抗氧化保护。
[0017]本发明实施例有益效果如下:阵列基板的所述金属导电层的所述第一导线通过与之电连接的所述第二导线延伸至辅助导电层，即所述第一导线原本在所述非显示区的走线转移至所述辅助导电层，可以减少所述非显示区的面积或宽度，所述阵列基板应于显示面板时，可以降低实现窄边框的显示面板的难度，由于不需要对线宽或线间距进行调整，也不需要改进栅极驱动电路，因此容易实现且成本较低。
[0018]本发明实施例提供一种显示面板，包括如上实施例提供的所述阵列基板。
[0019]本发明实施例有益效果如下:阵列基板的所述金属导电层的所述第一导线通过与之电连接的所述第二导线延伸至辅助导电层，即所述第一导线原本在所述非显示区的走线转移至所述辅助导电层，可以减少所述非显示区的面积或宽度，所述阵列基板应于显示面板时，可以降低实现窄边框的显示面板的难度，由于不需要对线宽或线间距进行调整，也不需要改进栅极驱动电路，因此容易实现且成本较低。
[0020]本发明实施例提供一种显示装置，包括如上实施例提供的所述显示面板。
[0021]本发明实施例有益效果如下:阵列基板的所述金属导电层的所述第一导线通过与之电连接的所述第二导线延伸至辅助导电层，即所述第一导线原本在所述非显示区的走线转移至所述辅助导电层，可以减少所述非显示区的面积或宽度，所述阵列基板应于显示面板时，可以降低实现窄边框的显示面板的难度，由于不需要对线宽或线间距进行调整，也不需要改进栅极驱动电路，因此容易实现且成本较低。
[0022]本发明实施例提供一种阵列基板的制备方法，包括:
[0023]在衬底基板上形成金属导电层，所述金属导电层包括多条第一导线；
[0024]在所述金属导电层上方形成绝缘层，所述绝缘层上形成有多个连接结构，所述连接结构的垂直投影位于所述阵列基板的非显示区内；
[0025]在所述绝缘层上方形成辅助导电层，所述辅助导电层包括多条第二导线，所述第二导线经所述连接结构与相对应的所述第一导线电连接。
[0026]本发明实施例有益效果如下:阵列基板的所述金属导电层的所述第一导线通过与之电连接的所述第二导线延伸至辅助导电层，即所述第一导线原本在所述非显示区的走线转移至所述辅助导电层，可以减少所述非显示区的面积或宽度，所述阵列基板应于显示面板时，可以降低实现窄边框的显示面板的难度，由于不需要对线宽或线间距进行调整，也不需要改进栅极驱动电路，因此容易实现且成本较低。
【附图说明】
[0027]图1为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图；
[0028]图2为本发明实施例提供绝缘层的结构示意图；
[0029]图3为本发明实施例提供的第一种具体的阵列基板的结构示意图；
[0030]图4为本发明实施例提供的第二种具体的阵列基板的结构示意图；
[0031]图5为本发明实施例提供的第三种具体的阵列基板的结构示意图；
[0032]图6为本发明实施例提供的阵列基板的制备方法的流程图。
【具体实施方式】
[0033