液晶取向膜的制造方法、液晶显示元件用基板及其制造方法、以及液晶显示元件的制作方法

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液晶取向膜的制造方法、液晶显示元件用基板及其制造方法、以及液晶显示元件的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种液晶取向膜的制造方法、液晶显示元件用基板及其制造方法以及 液晶显示元件,详细来说,本发明涉及一种应对基板的薄型化的液晶取向膜的制造技术。
【背景技术】
[0002] 以前,关于液晶显示元件,已开发出了电极结构或所使用的液晶分子的物性等不 同的各种显示模式,例如扭转向列(Twisted Nematic,TN)型或超扭转向列(Super Twisted Nematic,STN)型、垂直取向(Vertical Alignment,VA)型、多象限垂直取向(Multi-domain Vertical Alignment,MVA)型、共面切换(In-Plane Switching,IPS)型、边缘场切换 (Fringe Field Switching, FFS)型等的各种液晶显示元件已为人所知。这些液晶显示元 件具有用来使液晶分子取向的液晶取向膜。从耐热性、机械强度、与液晶的亲和性等各种特 性良好的方面来看,液晶取向膜的材料通常使用聚酰胺酸或聚酰亚胺等。液晶取向膜通常 是通过以下方式形成:将聚酰亚胺或聚酰胺酸等聚合物成分分散或溶解在有机溶剂中,将 该聚合物组合物涂布在基板表面上并进行加热。
[0003] 近年来,手机等移动应用(mobile application)的普及推进,而谋求液晶显示元 件的轻量化及薄型化。另外,伴随着液晶显示元件的用途扩大,正在推进曲面显示器那样的 形状复杂的液晶面板的开发。伴随着此种动向,正在对基板的薄型化进行各种研究(例如 参照专利文献1、专利文献2)。
[0004] [现有技术文献]
[0005] [专利文献]
[0006] [专利文献1]日本专利特开2012-243935号公报 [0007][专利文献2]日本专利特开2011-065195号公报

【发明内容】

[0008][发明所要解决的问题]
[0009] 在基板的厚度为例如0. 5mm以下的极薄型基板的表面上进行成膜的情况下,有容 易因膜收缩而产生基板的翘曲的倾向。另外,在产生了基板的翘曲的情况下,可能产品的良 率降低,或导致液晶面板的品质降低。
[0010] 本发明是鉴于所述课题而成,其一个目的在于提供一种可以减小基板的翘曲的液 晶取向膜的制造方法。
[0011][解决问题的手段]
[0012] 本发明人等人为了达成上文所述那样的现有技术的课题而进行了努力研究,尝试 了在液晶取向剂中调配特定的添加剂。结果发现,能抑制液晶显示元件中的基板的翘曲,从 而解决了本发明。具体来说,通过本发明而提供以下的液晶取向膜的制造方法、液晶显示元 件用基板及其制造方法以及液晶显示元件。
[0013] 本发明在一方面提供一种液晶取向膜的制造方法,其包括:将液晶取向剂涂布在 厚度为0· Olmm~0· 5mm的基板的表面上的工序,所述液晶取向剂含有选自由聚酰亚胺、聚 酰胺酸、聚酰胺酸酯及聚有机硅氧烷所组成的组群中的至少一种聚合物(A)与无机氧化物 粒子(B);以及对所述经涂布的面进行加热的工序。
[0014] 本发明在另一方面提供一种液晶显示元件用基板的制造方法,其为具有基板及液 晶取向膜的液晶显示元件用基板的制造方法,并且所述基板的厚度为0.0 lmm~0. 5mm,且 所述液晶显示元件用基板的制造方法包括:将液晶取向剂涂布在所述基板的表面上的工 序,所述液晶取向剂含有选自由聚酰亚胺、聚酰胺酸、聚酰胺酸酯及聚有机硅氧烷所组成的 组群中的至少一种聚合物(A)与无机氧化物粒子(B);以及对所述经涂布的面进行加热的 工序。
[0015] 本发明在另一方面提供一种液晶显不兀件用基板,其具备:厚度为〇.〇 Imm~ 0. 5mm的基板;以及使用液晶取向剂而形成在所述基板上的液晶取向I旲,所述液晶取向剂 含有选自由聚酰亚胺、聚酰胺酸、聚酰胺酸酯及聚有机硅氧烷所组成的组群中的至少一种 聚合物(A)以及无机氧化物粒子(B)。另外,本发明提供一种具有所述液晶显示元件用基板 的液晶显示元件。
[0016] [发明的效果]
[0017] 根据本发明的液晶取向膜的制造方法,即便在厚度为0.0 lmm~0. 5mm的薄型基板 的表面上成膜的情况下也可以减小基板的翘曲。因此,在制造液晶显示元件时,可以抑制产 品良率的降低。
【具体实施方式】
[0018] 以下,对液晶取向膜的制造方法及液晶显示元件等加以详细说明。本发明的液晶 取向膜的制造方法包括在基板表面上涂布液晶取向剂的工序、以及对该经涂布的面进行加 热的工序。
[0019] 《涂布工序》
[0020] L液晶取向剂
[0021] 本发明的液晶取向剂含有选自由聚酰亚胺、聚酰胺酸、聚酰胺酸酯及聚有机硅氧 烷所组成的组群中的至少一种聚合物(A)与无机氧化物粒子(B)。另外,视需要含有其他成 分。
[0022] 〈聚合物(A):聚酰胺酸〉
[0023] 作为本发明的聚合物(A)的聚酰胺酸例如可以通过使四羧酸二酐与二胺反应而 获得。
[0024] [四羧酸二酐]
[0025] 用于合成聚酰胺酸的四羧酸二酐例如可以举出脂肪族四羧酸二酐、脂环式四羧酸 二酐、芳香族四羧酸二酐等。该四羧酸二酐可以优选地使用选自由以下化合物所组成的组 群中的至少一种化合物(以下也称为特定四羧酸二酐):2,3,5_三羧基环戊基乙酸二酐、双 环[3. 3.0]辛烷-2,4,6,8-四羧酸 2 :4,6 :8-二酐、1,3, 3a,4, 5,9b-六氢-8-甲基-5-(四 氢-2, 5-二氧代-3-呋喃基)-萘并[1,2-c]呋喃-1,3-二酮、1,3, 3a,4, 5,9b-六氢-5-(四 氢-2,5-二氧代-3-呋喃基)-萘并[l,2-c]呋喃-1,3-二酮、1,2,3,4_环丁烷四羧酸二 酐、环戊烷四羧酸二酐、环己烷四羧酸二酐、均苯四甲酸二酐及双环[2.2. 1]庚烷_2,3,5, 6_四羧酸2 :3, 5 :6_二酐。除此以外,可用于所述合成的四羧酸二酐例如可以举出日本专 利特开2010-97188号公报中记载的四羧酸二酐等。此外,四羧酸二酐可以单独使用一种或 组合使用两种以上。
[0026] 相对于用于合成聚酰胺酸的四羧酸二酐的合计量,所述特定四羧酸二酐的合计使 用比例优选的是设定为30摩尔%以上,更优选的是设定为40摩尔%~100摩尔%,进而优 选的是设定为50摩尔%~100摩尔%。
[0027] [二胺]
[0028] 用于合成聚酰胺酸的二胺例如可以举出脂肪族二胺、脂环式二胺、芳香族二胺、二 氨基有机硅氧烷等。关于这些二胺的具体例,脂肪族二胺例如可以举出:间二甲苯二胺、1, 3_丙二胺、四亚甲基二胺、五亚甲基二胺、六亚甲基二胺、1,3_双(氨基甲基)环己烷等;月旨 环式二胺例如可以举出:1,4_二氨基环己烷、4,4'-亚甲基双(环己基胺)等;
[0029] 芳香族二胺例如可以举出:十二酰氧基二氨基苯、十六酰氧基二氨基苯、十八酰 氧基二氨基苯、胆留烷氧基-3, 5-二氨基苯、胆留烯氧基-3, 5-二氨基苯、胆留烷氧基-2, 二氨基苯、胆留烯氧基,4-二氨基苯、3,5-二氨基苯甲酸胆留烷基酯、3,5-二氨基苯甲 酸胆留烯基酯、3,5_二氨基苯甲酸羊毛留烷基酯、3,6_双(4-氨基苯甲酰氧基)胆留烷、3, 6-双(4-氨基苯氧基)胆留烧、3-(3,5-二氨基苯甲酰氧基)胆留烧、1,1_双(4_((氨基苯 基)甲基)苯基)-4-丁基环己烷、及下述式(D-I)所表示的化合物等具有可赋予预倾角表 现能力的基团(以下也称为"赋予预倾角的基团")的二胺,
[0030] [化 1]
[0031]
【主权项】
1. 一种液晶取向膜的制造方法,其包括: 将液晶取向剂涂布在厚度为0. oimm~0. 5mm的基板的表面上的工序,所述液晶取向剂 含有选自由聚酰亚胺、聚酰胺酸、聚酰胺酸酯及聚有机硅氧烷所组成的组群中的至少一种 聚合物(A)与无机氧化物粒子(B);以及 对所述经涂布的面进行加热的工序。
2. 根据权利要求1所述的液晶取向膜的制造方法,其中所述无机氧化物粒子(B)为利 用具有可赋予预倾角表现能力的基团的化合物进行了表面修饰的粒子。
3. 根据权利要求1所述的液晶取向膜的制造方法,其中所述无机氧化物粒子(B)为二 氧化硅粒子。
4. 根据权利要求1至3中任一项所述的液晶取向膜的制造方法,其中所述液晶取向剂 含有具有环氧基的化合物。
5. -种液晶显示元件用基板的制造方法,其为具有基板及液晶取向膜的液晶显示元件 用基板的制造方法, 所述基板的厚度为〇. 01mm~0. 5mm,且所述液晶显示元件用基板的制造方法包括: 将液晶取向剂涂布在所述基板的表面上的工序,所述液晶取向剂含有选自由聚醜亚 胺、聚酰胺酸、聚酰胺酸酯及聚有机硅氧烷所组成的组群中的至少一种聚合物(A)与无机 氧化物粒子(B);以及 对所述经涂布的面进行加热的工序。
6. -种液晶显示元件用基板,其具备: 厚度为〇? 01mm~〇? 5mm的基板;以及 使用液晶取向剂而形成在所述基板上的液晶取向膜,所述液晶取向剂含有选自由聚酰 亚胺、聚酰胺酸、聚酰胺酸酯及聚有机硅氧烷所组成的组群中的至少一种聚合物(A)与无 机氧化物粒子(B)。
7. -种液晶显示元件,其具备根据权利要求6所述的液晶显示元件用基板。
【专利摘要】本发明提供一种可以减小基板的翘曲的液晶取向膜的制造方法、液晶显示元件用基板及其制造方法、以及液晶显示元件。本发明通过包括以下工序的方法来制造液晶取向膜:将液晶取向剂涂布在厚度为0.01mm~0.5mm的基板的表面上的工序,所述液晶取向剂含有选自由聚酰亚胺、聚酰胺酸、聚酰胺酸酯及聚有机硅氧烷所组成的组群中的至少一种聚合物(A)与无机氧化物粒子(B);以及对所述经涂布的面进行加热的工序。
【IPC分类】C09K19-56, G02F1-1337
【公开号】CN104656311
【申请号】CN201410548858
【发明人】宫部季隆
【申请人】Jsr株式会社
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2014年10月16日
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