液晶面板的亮点修补方法、装置及亮点修补后的液晶面板的制作方法

文档序号:8527578阅读:472来源:国知局
液晶面板的亮点修补方法、装置及亮点修补后的液晶面板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示领域,特别是涉及一种液晶面板的亮点修补方法、装置及亮点修补后的液晶面板。
【背景技术】
[0002]伴随着液晶LCD以及有机发光二极管OLED为代表的平板显示器向着大尺寸、高分辨率的方向发展,薄膜晶体管TFT作为平板显示行业的核心部件,也得到广泛的关注。
[0003]在TFT-1XD液晶显示面板的制作过程中,包含有制程工艺以及运转,在这个过程中不可避免的会产生一些颗粒物particle,这些颗粒物中一部分会被清洗机台所清洗掉,然而不能被清洗掉的部分颗粒物则会残留于液晶显示面板上,如残留在液晶显示面板的阵列基板或彩膜基板上。这些残留于液晶显示面板上是颗粒物在液晶面板点亮后,也会产生亮点、亮线、碎亮点以及弱亮线等,而这些亮点或亮线的产生会严重影响液晶显示面板的显不O
[0004]为了保证液晶显不面板的品质以及人眼的感官,壳点是绝不可有的,在液晶显不面板制作工艺中,如果显示面板出现亮点或亮线,一般都会使产品报废,给厂商带来很大的损失。因此,在出现亮点或亮线后,一般都会采取方法将亮点或亮线暗点化。
[0005]现有技术中一般都是采用将像素电极与公共电极上之间的金属层采取融化溅镀,来使像素电极和公共电极短接,来实现亮点或亮线暗点化,但是上述方法仅限于像素电极的金属层与公共电极的金属层有重叠的部分时才能使用。而在采用新技术以后,特别是低温多晶硅技术LTPS类型的TFT-LCD液晶显示面板中,像素电极与公共电极以及金属层之间不存在任何重叠区域,如图1所示,像素电极101与公共电极102之间以及金属层无任何重叠的部分。因此,现有技术的上述方法不再适用。

【发明内容】

[0006]本发明主要解决的技术问题是提供一种液晶面板的亮点修补方法、装置及亮点修补后的液晶面板,能够有效降低液晶显不面板的报废率,提尚广品良率。
[0007]为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种液晶面板的亮点修补方法,包括:
[0008]移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极,以使所述数据线停止对所述像素电极输入电压信号。
[0009]其中,所述亮点修补方法还包括:在所述像素电极与公共电极之间沉积金属原子,形成金属膜,使所述像素电极与所述公共电极短接。
[0010]其中,在所述像素电极与公共电极之间沉积钨原子,形成金属膜,使所述像素电极与所述公共电极短接。
[0011]其中,所述移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极,以使所述数据线停止对所述像素电极输入电压信号的步骤具体包括:
[0012]通过分秒激光的制作工艺移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极。
[0013]其中,所述在所述像素电极与公共电极之间沉积钨原子,形成金属膜,使所述像素电极与所述公共电极短接的步骤具体包括:
[0014]利用激光化学气相沉积的方式在所述像素电极与所述公共电极之间形成沉积钨原子,形成金属膜,使所述像素电极与所述公共电极短接。
[0015]其中,所述移除像素电极与数据线桥接位置处的电极,以使所述数据线停止对所述像素电极输入电压信号的步骤之前还包括:
[0016]移除所述第一电极表面覆盖的绝缘层。
[0017]其中,所述移除所述第一电极表面覆盖的绝缘层的步骤具体包括:通过分秒激光的制作工艺移除所述第一电极表面覆盖的绝缘层。
[0018]为解决上述技术问题,本发明采用的另一个技术方案是:提供一种亮点修补装置,包括:移除t吴块,
[0019]所述移除模块用于移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极,以使所述数据线停止对所述像素电极输入电压信号。
[0020]所述亮点修补装置还包括金属膜形成模块,所述金属膜形成模块用于在所述像素电极与公共电极之间沉积金属原子,形成金属膜,使所述像素电极与所述公共电极短接。
[0021]为解决上述技术问题,本发明采用的再一个技术方案是:提供一种液晶面板,所述液晶面板包括阵列基板,所述阵列基板包括多条两两绝缘相交且绝缘的扫描线和数据线,所述阵列基板包括至少一个像素区域,所述像素区域的像素电极与所述扫描线绝缘。
[0022]本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况,本发明移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极,使数据线停止对像素电极输入电压信号后,像素电极的电压为零,克服了像素电极相对应公共电极形成的压差,使液晶分子也不会再发生转偏,亮点完全转化为暗点,有效降低液晶显不面板的报废率,提尚广品良率。
【附图说明】
[0023]图1是现有技术显示面板修补前的剖面结构示意图;
[0024]图2是本发明液晶面板的亮点修补方法一实施方式的流程示意图;
[0025]图3是本发明显示面板修补后的一实施方式的剖面结构示意图;
[0026]图4是本发明显示面板修补后的另一实施方式的剖面结构示意图;
[0027]图5是液晶面板的亮点修补装置一实施方式的结构示意图。
【具体实施方式】
[0028]参阅图1,图1是本发明液晶面板的亮点修补方法一实施方式的流程示意图。本实施方式的亮点修补方法包括如下步骤:
[0029]101:移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极,以使所述数据线停止对所述像素电极输入电压信号。
[0030]液晶面板包括阵列基板和彩膜基板以及夹持在所示阵列基板和彩膜基板之间的液晶分子,阵列基板包括多条两两相交且绝缘的扫面线和数据线,以及由扫描线和数据线相交形成的多个像素单元,其中,每个像素区域包括像素电极,其中像素电极通过桥接的第一电极与数据线连接,以通过数据线从数据驱动器得到数据信号。阵列基板还包括公共电极,当在公共电极与像素电极之间添加电压,通过控制像素电极与公共电极之间的压差来控制液晶面板的明暗显示。
[0031]但是由于在制造工艺中会可能会出现一些不可避免的异常亮点,即不受液晶面板正常压差的控制而实现明暗的变化。
[0032]本实施方式中为了克服上述非正常亮点对液晶面板整体显示的影响,方法的核心在于使产生亮点的像素电极与公共电极之间的压差为0,液晶分子不发生偏转,将非正常亮点变成暗点。
[0033]参阅图3,图3是本发明显示面板修补后的一实施方式的剖面结构示意图。移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极,使数据线停止对像素电极输入电压信号。如图3,对比图1所示,移除分别与数据线和像素电极301电连接,使数据线与像素电极之间导通的第一电极,具体地,在像素电极301与数据线连接的部位,通过激光打一个略大于第一电极结构大小的孔洞,移除处于所述孔洞中的第一电极,如如图3中椭圆虚线框中所标注的部分。断开数据线与像素电极之间的连接,以停止数据线对像素电极的电压输入,像素电极301端的电压为O。在数据线停止对像素电极输入电压信号,像素电极端的电压为O后,由于公共电极端的输入电压并为停止供电,此时公共电极与像素电极之间会产生压差。在正常情况下,公共电极的电压一般在-0.2V?0.2V之间,而液晶分子发生偏转的压差在IV左右,因此,公共电极与像素电极之间的电压差不足使液晶分子发生偏转,非正常亮点变成暗点。
[0034]由于阵列基板的结构较为复杂紧凑,在移除第一电极的过程中,为了能精确控制移除第一电极制作工艺中对其他层的损害,本实施方式中通过飞秒激光的制作工艺来移除第一电极。飞秒激光的控制精度高,能精准控制移除第一电极时所产生的孔洞的深度和宽度,能够有效保护其他层器件如像素电极不受影响。
[0035]在另一个实施方式中,由于第一电极的表面及四周覆盖有绝缘层,因此,在移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极前先移除第一电极表面覆盖的绝缘层,一般条件下,上述绝缘层为绝缘钝化层氮化硅SiNx,在其他实施方式中,也可以通过其他相同性质的绝缘层代替,如非晶氧化硅S1x,在此不作限制。为了保证绝缘层覆盖的器件如第一电极以及绝缘层周围的器件不受损坏,本实施方式中通过飞秒激光的制作工艺来移除覆盖在第一电极表面的绝缘层,能够精准控制移除绝缘层的深度和宽度。
[0036]尽管在将公共电极的电压控制在液晶分子发生偏转的额定电压以内可以将亮点转为暗点,但是不可避免的会出现特殊的情况,为了将亮点的概率减小到最小,本实施方式的液晶版面的修补方法还包括步骤102:
[0037]102:在所述像素电极与公共电极之间沉积金属原子,形成金属膜,使所述像素电极与所述公共电极短接。
[0038]本实施方式在移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极使数据线停止对像素电极输入电压信号后,在像素电极与公共电极之间沉积金属原子,以在像素电极与公共电极之间形成金属层,使像素电极与公共电极短接。
[0039]具体地,通过激光化学气象沉积设备,在像素电极与公共电极之间利用激光分解金属,形成金属原子沉积,从而形成金属膜,如图4中的403,通过金属膜403连接像素电极401以及公共电极402,即实现像素电极401与公共电极402之间的短接。短接后,像素电极和公共电极电压相同,压差为0,液晶分子将不会偏转,亮点完全转化为暗点。
[0040]在一个优选的实施方式中,使用激光分解金属钨W,形成W原子沉积,从而形成金属膜使像素电极和公共电极之间短接。需要说明的是,在其他实施方式中,也可以通过其他具有与W相同性质的金属进行替代,在此不再限定。
[0041]区别于现有技术,本实施方式移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极,使数据线停止对像素电极输入电压信号后,像素电极的电压为零,克服了
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