行设置，比如均设置在1 A之间。
[0056] 作为一种更具体的示例，对应于图1所示出的晶体管器件层12的具体结构，本发明 实施例中的步骤400:在衬底上形成晶体管器件层，可W顺序包括:依次形成有源层、栅绝缘 层、栅金属层、层间介质层、源漏金属层和纯化层;其中，显示区域中的任一像素区域内，纯 化层的开口暴露部分源漏金属层，W形成像素电极连接端。可W理解的是，晶体管器件层所 具有的具体结构可W参照上文，而晶体管器件层中的各个层结构均可W通过例如构图工艺 或者表面纯化工艺来形成，在此不再寶述。基于此，晶体管器件层中可W基于在不同位置上 形成的多个薄膜晶体管，并结合导体之间的连接关系来形成具有一定功能的电路结构，实 现上述在外部信号的驱动下为像素电极提供数据电压信号的功能。当然，晶体管器件层内 的薄膜晶体管还可W是底栅式或者其他类型，而且除薄膜晶体管之外还可W设置有其他功 能(例如连接、绝缘、遮光、电屏蔽等等)的层结构，本发明对此不做限制。
[0057] 基于同样的发明构思，本发明实施例提供一种显示装置，该显示装置包括上述任 意一种的阵列基板。需要说明的是，本实施例中的显示装置可W为:液晶显示面板、电子纸、 手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部 件。特别地，本发明实施例的显示装置可W是ADS(Advanced Super Dimension Switch,高 级超维场转换)模式的液晶显示装置。由于本发明实施例的显示装置包括上述任意一种的 阵列基板，因此本发明实施例基于上述Ξ个透明导电层的设置，同样可W在显示时将第二 透明导电层中的触控电极作为公共电极使用、在触控时将板状的第一透明导电层作为屏蔽 层使用，因而可W在实现内嵌式触控的情况下保障公共电极的电屏蔽特性。进一步地，相对 于现有技术，本发明能够减少由晶体管电路干扰而引发各种显示类和触控类的不良，有利 于产品良率和产品性能的提升。
[005引需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实 体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示运些实体或操作之间存 在任何运种实际的关系或者顺序。而且，术语"包括"、"包含"或者其任何其他变体意在涵盖 非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要 素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为运种过程、方法、物品或者设备 所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句"包括一个……"限定的要素，并不排除在 包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。术语"上"、"下"等指 示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化 描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、W特定的方位构造和操 作，因此不能理解为对本发明的限制。除非另有明确的规定和限定，术语"安装"、"相连"、 "连接"应做广义理解，例如，可W是固定连接，也可W是可拆卸连接，或一体地连接;可W是 机械连接，也可W是电连接;可W是直接相连，也可W通过中间媒介间接相连，可W是两个 元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可W根据具体情况理解上述术语在本 发明中的具体含义。
[0059]本发明的说明书中，说明了大量具体细节。然而能够理解的是，本发明的实施例可 w在没有运些具体细节的情况下实践。在一些实例中，并未详细示出公知的方法、结构和技 术，W便不模糊对本说明书的理解。类似地，应当理解，为了精简本发明公开并帮助理解各 个发明方面中的一个或多个，在上面对本发明的示例性实施例的描述中，本发明的各个特 征有时被一起分组到单个实施例、图、或者对其的描述中。
[0060]最后应说明的是：W上各实施例仅用W说明本发明的技术方案，而非对其限制;尽 管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解:其依 然可W对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进 行等同替换；而运些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术 方案的范围，其均应涵盖在本发明的权利要求和说明书的范围当中。
【主权项】
1. 一种阵列基板，包括位于衬底上的晶体管器件层，其特征在于，还包括依次层叠的第 一透明导电层、第一绝缘层、第二透明导电层、第二绝缘层和第三透明导电层； 所述第一透明导电层在显示区域内覆盖所述晶体管器件层;所述第二透明导电层包括 触控电极的图形;所述第三透明导电层包括像素电极的图形； 所述显示区域中的任一像素区域内，所述像素电极通过设置在所述第一绝缘层和所述 第二绝缘层中的过孔连接所述晶体管器件层的像素电极连接端;所述第一透明导电层在所 述过孔处设有开口。2. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述显示区域中的任一像素区域内， 所述像素电极与所述第一透明导电层交叠形成该像素区域内的第一存储电容，所述像素电 极与所述触控电极交叠形成该像素区域内的第二存储电容。3. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述晶体管器件层包括依次形成的有 源层、栅绝缘层、栅金属层、层间介质层、源漏金属层和钝化层;所述显示区域中的任一像素 区域内，所述钝化层的开口暴露部分所述源漏金属层，以形成所述像素电极连接端。4. 一种如权利要求1至3中任意一项所述的阵列基板的显示驱动方法，其特征在于，包 括： 在显示阶段内，向所述第二透明导电层中的触控电极和所述第一透明导电层施加公共 电压； 在触控阶段内，向所述第二透明导电层中的触控电极施加触控电压信号，或者接收来 自所述第二透明导电层中的触控电极的触摸感测信号； 其中，每一帧内的所述显示阶段与所述触控阶段在时间上分开。5. 根据权利要求4所述的显示驱动方法，其特征在于，所述显示驱动方法还包括： 在所述触控阶段内，向所述第一透明导电层施加公共电压。6. 根据权利要求4所述的显示驱动方法，其特征在于，所述显示驱动方法还包括： 在所述触控阶段内，将所述第三透明导电层中的像素电极置为浮接状态。7. -种阵列基板的制造方法，包括在衬底上形成晶体管器件层的步骤，其特征在于，还 包括： 形成在显示区域内覆盖所述晶体管器件层的第一透明导电层;所述第一透明导电层在 用于连接所述晶体管器件层的像素电极连接端的过孔处设有开口； 形成覆盖所述第一透明导电层的第一绝缘层； 在所述第一绝缘层上形成包括触控电极的图形的第二透明导电层； 形成覆盖所述第二透明导电层和所述第一绝缘层的第二绝缘层； 在所述第一绝缘层和所述第二绝缘层中形成所述过孔； 形成包括像素电极的图形的第三透明导电层;在所述显示区域中的任一像素区域内， 所述像素电极通过所述过孔连接所述晶体管器件层的像素电极连接端。8. 根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述显示区域中的任一像素区域内， 所述像素电极与所述第一透明导电层交叠形成该像素区域内的第一存储电容，所述像素电 极与所述触控电极交叠形成该像素区域内的第二存储电容。9. 根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述在衬底上形成晶体管器件层的步 骤，具体包括： 依次形成有源层、栅绝缘层、栅金属层、层间介质层、源漏金属层和钝化层； 其中，所述显示区域中的任一像素区域内，所述钝化层的开口暴露部分所述源漏金属 层，以形成所述像素电极连接端。10.-种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至3中任意一项所述的阵列基板。
【专利摘要】本发明涉及一种阵列基板及其显示驱动方法、制作方法、显示装置，其中的阵列基板包括位于衬底上的晶体管器件层，还包括依次层叠的第一透明导电层、第一绝缘层、第二透明导电层、第二绝缘层和第三透明导电层；所述第一透明导电层在显示区域内覆盖所述晶体管器件层；所述第二透明导电层包括触控电极的图形；所述第三透明导电层包括像素电极的图形；所述显示区域中的任一像素区域内，所述像素电极通过设置在所述第一绝缘层和所述第二绝缘层中的过孔连接所述晶体管器件层的像素电极连接端；所述第一透明导电层在所述过孔处设有开口。本发明可以在实现内嵌式触控的情况下保障公共电极的电屏蔽特性，有利于产品良率和产品性能的提升。
【IPC分类】G02F1/1343, G02F1/1333
【公开号】CN105629597
【申请号】CN201610025575
【发明人】孙超超, 刘华锋, 赵生伟, 张凯, 杨磊, 叶路路, 吕景萍, 王超, 胡重粮, 杨盟, 丁多龙, 顺布乐, 谢霖, 李瑶, 孙士民
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
【公开日】2016年6月1日
【申请日】2016年1月14日