制造方法的特征在于，包含 以下工序： 准备光掩模基板的工序，该光掩模基板是在所述透明基板上形成光学膜，并在该光学 膜上涂覆第1抗蚀剂膜而得到的； 第1抗蚀剂图案形成工序，对所述第1抗蚀剂膜描绘第1描绘图案并进行显影； 第1构图工序，将所述第1抗蚀剂图案作为掩模来蚀刻去除所述光学膜，使所述透明基 板的表面局部露出； 剥离所述第1抗蚀剂图案，并重新涂覆第2抗蚀剂膜的工序； 第2抗蚀剂图案形成工序，对所述第2抗蚀剂膜描绘第2描绘图案并进行显影，分别使 所述透明基板的表面的一部分和所述光学膜的表面的一部分露出； 第2构图工序，将所述第2抗蚀剂图案作为掩模，对所述光学膜进行蚀刻减膜；以及 剥离所述第2抗蚀剂图案的工序， 以所述第2抗蚀剂图案中的所述透明基板的露出部分成为比所述第1抗蚀剂图案中的 所述透明基板的露出部分小规定量的尺寸的方式，对所述第2描绘图案实施了尺寸减小。2. -种光掩模的制造方法，所述光掩模在透明基板上具备转印用图案，该转印用图案 包含透光部和具有期望的曝光光透射率的半透光部，所述光掩模的制造方法的特征在于， 包含以下工序： 准备光掩模基板的工序，该光掩模基板是在所述透明基板上形成光学膜，并在该光学 膜上涂覆第1抗蚀剂膜而得到的； 第1抗蚀剂图案形成工序，通过对所述第1抗蚀剂膜描绘第1描绘图案并进行显影，去 除与所述透光部对应的部分的第1抗蚀剂膜； 第1构图工序，将所述第1抗蚀剂图案作为掩模来蚀刻去除所述光学膜，使所述透明基 板的表面露出； 剥离所述第1抗蚀剂图案，并重新涂覆第2抗蚀剂膜的工序； 第2抗蚀剂图案形成工序，通过对所述第2抗蚀剂膜描绘第2描绘图案并进行显影，去 除与所述透光部和所述半透光部分别对应的部分的第2抗蚀剂膜； 第2构图工序，将所述第2抗蚀剂图案作为掩模，对所述光学膜进行蚀刻减膜，形成具 有期望的曝光光透射率的半透光部；以及 剥离所述第2抗蚀剂图案的工序， 所述第2描绘图案是对与所述透光部对应的部分实施了尺寸减小而得到的，该尺寸减 小使该部分相对于所述透光部的设计尺寸减小规定量的尺寸。3. 根据权利要求2所述的光掩模的制造方法，其特征在于， 对所述光学膜进行蚀刻减膜时的蚀刻速度作为曝光光的透射率变化量，是〇. 3% / min ~5. 0% /min〇4. 根据权利要求2所述的光掩模的制造方法，其特征在于， 进行所述蚀刻减膜的所述光学膜的膜厚为50 Λ~200DA。5. -种光掩模的制造方法，所述光掩模在透明基板上具备转印用图案，该转印用图案 包含遮光部、透光部和具有期望的曝光光透射率的半透光部，所述光掩模的制造方法的特 征在于，包含以下工序： 准备光掩模基板的工序，该光掩模基板是在所述透明基板上层叠半透光膜、蚀刻阻挡 膜和遮光膜，并在该层叠的膜上涂覆第1抗蚀剂膜而得到的； 第1抗蚀剂图案形成工序，通过对所述第1抗蚀剂膜描绘第1描绘图案并进行显影，去 除与所述透光部对应的部分的第1抗蚀剂膜； 第1构图工序，将所述第1抗蚀剂图案作为掩模，蚀刻去除所述遮光膜、所述蚀刻阻挡 膜和所述半透光膜，使所述透明基板的表面露出； 剥离所述第1抗蚀剂图案，并重新涂覆第2抗蚀剂膜的工序； 第2抗蚀剂图案形成工序，通过对所述第2抗蚀剂膜描绘第2描绘图案并进行显影，去 除与所述透光部和所述半透光部分别对应的部分的第2抗蚀剂膜； 第2构图工序，将所述第2抗蚀剂图案作为掩模，蚀刻去除所述遮光膜和所述蚀刻阻挡 膜，进而对所述半透光膜进行蚀刻减膜，形成具有所述期望的曝光光透射率的第1半透光 部；以及 剥离所述第2抗蚀剂图案的工序， 所述第2描绘图案是对与所述透光部对应的部分实施了尺寸减小而得到的，该尺寸减 小使该部分相对于所述透光部的设计尺寸减小规定量的尺寸。6. 根据权利要求5所述的光掩模的制造方法，在所述光掩模中，所述转印用图案还具 有第2半透光部，该第2半透光部具备与所述第1半透光部不同的曝光光透射率，所述光掩 模的制造方法的特征在于，包含以下工序： 在剥离所述第2抗蚀剂图案后，重新涂覆第3抗蚀剂膜的工序； 第3抗蚀剂图案形成工序，通过对所述第3抗蚀剂膜描绘第3描绘图案并进行显影，去 除与和所述第1半透光部不同的第2半透光部对应的部分的第3抗蚀剂膜； 第3构图工序，将所述第3抗蚀剂图案作为掩模，蚀刻去除所述遮光膜和蚀刻阻挡膜， 形成第2半透光部；以及 剥离所述第3抗蚀剂图案的工序。7. 根据权利要求5所述的光掩模的制造方法，在所述光掩模中，所述转印用图案还具 有第2半透光部，该第2半透光部具备与所述第1半透光部不同的曝光光透射率，所述光掩 模的制造方法的特征在于，包含以下工序： 在剥离所述第2抗蚀剂图案后，重新涂覆第3抗蚀剂膜的工序； 第3抗蚀剂图案形成工序，通过对所述第3抗蚀剂膜描绘第3描绘图案并进行显影，去 除与第2半透光部和所述透光部对应的部分的第3抗蚀剂膜； 第3构图工序，将所述第3抗蚀剂图案作为掩模，蚀刻去除所述遮光膜和蚀刻阻挡膜， 进而对所述半透光膜进行蚀刻减膜，形成所述第2半透光部；以及 剥离所述第3抗蚀剂图案的工序， 所述第3描绘图案是对与所述透光部对应的部分实施了尺寸减小而得到的，该尺寸减 小使该部分相对于所述透光部的设计尺寸减小规定量的尺寸。8. -种光掩模的制造方法，所述光掩模在透明基板上具备转印用图案，该转印用图案 包含透光部和具有期望的曝光光透射率的半透光部，所述光掩模的制造方法的特征在于， 包含以下工序： 准备光掩模基板的工序，该光掩模基板是在所述透明基板上层叠半透光膜、蚀刻阻挡 膜和遮光膜，并在该层叠的膜上涂覆第1抗蚀剂膜而得到的； 第1抗蚀剂图案形成工序，通过对所述第1抗蚀剂膜描绘第1描绘图案并进行显影，去 除与所述透光部和所述半透光部对应的部分的第1抗蚀剂膜； 第1构图工序，将所述第1抗蚀剂图案作为掩模，蚀刻去除所述遮光膜和所述蚀刻阻挡 膜，使所述半透光膜的表面露出； 剥离所述第1抗蚀剂图案，并重新涂覆第2抗蚀剂膜的工序； 第2抗蚀剂图案形成工序，通过对所述第2抗蚀剂膜描绘第2描绘图案并进行显影，去 除与所述透光部对应的部分的第2抗蚀剂膜； 第2构图工序，将所述第2抗蚀剂图案作为掩模，蚀刻去除所述半透光膜，形成所述透 光部； 剥离所述第2抗蚀剂图案，并重新涂覆第3抗蚀剂膜的工序； 第3抗蚀剂图案形成工序，通过对所述第3抗蚀剂膜描绘第3描绘图案并进行显影，去 除与所述透光部和所述半透光部对应的部分的第3抗蚀剂膜； 第3构图工序，将所述第3抗蚀剂图案作为掩模，对所述半透光膜进行蚀刻减膜，形成 具有期望的曝光光透射率的第1半透光部；以及 剥离所述第3抗蚀剂图案的工序， 所述第2描绘图案包含对与所述透光部对应的部分实施了尺寸增大后的图案，该尺寸 增大使该部分相对于所述透光部的设计尺寸增大规定量的尺寸， 所述第3描绘图案是通过如下方式得到的：对与所述透光部对应的部分实施了尺寸减 小，使得该部分相对于所述透光部的设计尺寸减小规定量的尺寸，并且对与所述第1半透 光部对应的部分实施了尺寸增大，使得该部分相对于所述第1半透光部的设计尺寸增大规 定量的尺寸。9. 一种光掩模的制造方法，所述光掩模在透明基板上具备转印用图案，该转印用图案 包含透光部、具有期望的曝光光透射率的第1半透光部、和具有与该第1半透光部不同的期 望的曝光光透射率的第2半透光部，所述光掩模的制造方法的特征在于，包含以下工序： 准备光掩模基板的工序，该光掩模基板是在所述透明基板上层叠半透光膜、蚀刻阻挡 膜和遮光膜，并在该层叠的膜上涂覆第1抗蚀剂膜而得到的； 第1抗蚀剂图案形成工序，通过对所述第1抗蚀剂膜描绘第1描绘图案并进行显影，去 除与所述透光部、所述第1半透光部和所述第2半透光部对应的部分的第1抗蚀剂膜； 第1构图工序，将所述第1抗蚀剂图案作为掩模，蚀刻去除与所述透光部、所述第1半 透光部和所述第2半透光部对应的部分的所述遮光膜和所述蚀刻阻挡膜，使所述半透光膜 的表面露出； 剥离所述第1抗蚀剂图案，并重新涂覆第2抗蚀剂膜的工序； 第2抗蚀剂图案形成工序，通过对所述第2抗蚀剂膜描绘第2描绘图案并进行显影，去 除与所述透光部对应的部分的第2抗蚀剂膜； 第2构图工序，将所述第2抗蚀剂图案作为掩模，蚀刻去除所述半透光膜，形成所述透 光部； 剥离所述第2抗蚀剂图案，并重新涂覆第3抗蚀剂膜的工序； 第3抗蚀剂图案形成工序，通过对所述第3抗蚀剂膜描绘第3描绘图案并进行显影，去 除与所述透光部和所述第1半透光部对应的部分的第3抗蚀剂膜； 第3构图工序，将所述第3抗蚀剂图案作为掩模，对与所述第1半透光部对应的部分的 所述半透光膜进行蚀刻减膜，形成所述第1半透光部；以及 剥离所述第3抗蚀剂图案的工序， 所述第2描绘图案包含对与所述透光部对应的部分实施了尺寸增大后的图案，该尺寸 增大使该部分相对于所述透光部的设计尺寸增大规定量的尺寸， 所述第3描绘图案是通过如下方式得到的：对与所述透光部对应的部分实施了尺寸减 小，使得该部分相对于所述透光部的设计尺寸减小规定量的尺寸，并且对与所述第1半透 光部对应的部分实施了尺寸增大，使得该部分相对于所述第1半透光部的设计尺寸增大规 定量的尺寸。10. 根据权利要求1~9中的任意一项所述的光掩模的制造方法，其特征在于， 所述转印用图案包含被所述遮光部包围的所述透光部。11. 根据权利要求2~9中的任意一项所述的光掩模的制造方法，其特征在于， 所述转印用图案包含被所述半透光部包围的所述透光部。12. 根据权利要求2~9中的任意一项所述的光掩模的制造方法，其特征在于， 所述转印用图案的半透光部包含第1半透光部、和曝光光透射率比所述第1半透光部 高的第2半透光部， 所述转印用图案包含被所述1半透光部包围的所述第2半透光部。13. -种显示装置的制造方法，其特征在于，具有以下工序： 准备通过权利要求1~9中的任意一项的制造方法制造出的光掩模的工序；以及 使用所述准备的光掩模、和曝光装置，将所述转印用图案转印到被转印体上的工序。
【专利摘要】光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法，光掩模的制造方法能够对通过一次成膜而形成的光学膜准确地实施期望量的减膜，显示装置的制造方法使用了该光掩模。包含以下工序：准备在透明基板上涂覆光学膜和第1抗蚀剂膜而得到的光掩模基板的工序；形成第1抗蚀剂图案的工序；蚀刻去除光学膜的第1构图工序；剥离第1抗蚀剂图案并涂覆第2抗蚀剂膜的工序；形成第2抗蚀剂图案的工序；对光学膜进行蚀刻减膜的第2构图工序；以及剥离第2抗蚀剂图案的工序，以第2抗蚀剂图案中的透明基板的露出部分成为比第1抗蚀剂图案中的透明基板的露出部分小规定量的尺寸的方式，对第2描绘图案实施了尺寸减小。
【IPC分类】G03F1/80, G03F1/82
【公开号】CN105717738
【申请号】CN201510926381
【发明人】吉川裕
【申请人】Hoya株式会社
【公开日】2016年6月29日
【申请日】2015年12月14日