正投影与所述金属衬垫结构112在所述第一基板所在平面的正投影交叠，所述第二间隔物14在所述第一基板所在平面的正投影与所述金属衬垫结构112在所述第一基板所在平面的正投影不交叠。网格状金属导线1121可以进一步减小所述第一触控电极层111的电阻。
[0043]图10示例性的以所述第一触控电极层111为自容式触控电极层为例介绍所述金属衬垫结构112为网格状的金属导线1121的情况，即所述第一触控电极层111包括呈阵列排布的多个触控电极块117。应当理解，所述第一触控电极层111为互容式触控电极层时，所述金属衬垫结构112也可以设置成网格状的金属导线1121。设置所述金属衬垫结构112为网格状的金属导线1121，可以进一步增加金属导线1121与所述第一触控电极层111的接触面积，进而进一步减小所述第一触控电极层111的电阻。
[0044]图11为本实用新型实施例提供的又一种触控显示装置的结构示意图，如图11所示，所述触控显示装置的所述第一触控电极层ill包括多个第一子触控电极1111，所述第一子触控电极1111呈条状;所述第一子触控电极1111延伸方向与所述数据线114平行，且排列方向与所述扫描线115平行。所述触控显示装置还包括第二触控电极层116(所述第二触控电极层116位于所述第一基板上或者位于所述第二基板上)，所述第二触控电极层116包括多个第二子触控电极1161，所述第二子触控电极1161呈条状，所述第二子触控电极1161与所述第一子触控电极1161绝缘交叉设置。所述第二子触控电极1161延伸方向与所述扫描线115平行，且排列方向与所述数据线114平行。所述金属衬垫结构112直接铺设于所述第一触控电极层111的上表面。所述金属衬垫结构112包括金属导线1121和金属衬垫凸台1122。所述金属衬垫凸台1122位于所述金属导线1121的至少一侧。所述第一间隔物13在所述第一基板所在平面的正投影与所述金属衬垫结构112在所述第一基板所在平面的正投影交叠，所述第二间隔物14在所述第一基板所在平面的正投影与所述金属衬垫结构112在所述第一基板所在平面的正投影不交叠。由于第一间隔物13的底面尺寸一般比金属导线的宽度大，所以本实用新型实施例通过设置金属衬垫凸台1122，可以防止在触摸按压过程中第一间隔物13向金属导线1121两边发生偏移的情况，能够有效控制第一基板11和第二基板12之间的间隔厚度，避免漏光和显示不良。需要说明的是，图11所示金属导线1121可以直接与所述第一子触控电极1111电连接，还可以通过绝缘层过孔电连。本实施例优选的，设置所述金属走线1122复用为触控电极线，用于传输触控信号。将金属走线1122复用为触控电极线可进一步减少工艺制程，降低生产成本。图11中，每个所述第一子触控电极1111上至少有一条金属导线1121连接到驱动芯片，用于向所述第一子触控电极1111传输触控信号。需要说明的是，所述第一子触控电极1111、第二子触控电极1161、数据线114、扫描线115可以共同连接一个驱动芯片，即由一个驱动芯片为所述户口显示面板提供触控驱动信号、触控检测信号、数据信号和扫描信号，触控和显示共用一个驱动芯片，所述驱动芯片用于显示驱动和触控驱动。在其他实施方式中，还可以使用独立的两个驱动芯片分别实现触控驱动和显示驱动。此外，所述第一子触控电极1111和第二子触控电极1161也可以连接不同的驱动芯片，由不同的驱动芯片分别提供触控驱动信号以及触控检测信号。本实用新型实施例对此不作限定。
[0045]图12为本实用新型实施例提供的又一种触控显示装置的结构示意图，如图12所示，所述第一触控电极层111为自容式触控电极层，包括呈阵列排布的多个触控电极块117。所述金属衬垫结构112包括金属导线1121和金属衬垫凸台1122。所述金属导线1121通过绝缘层过孔118与对应的触控电极块117电连接。所述金属导线1121为触控电极线，用于传输触控信号。本实施例将金属导线1121复用为触控电极线，在制作过程中只需一次金属导线的工艺，无需再额外制备触控电极线，减少了制程数量，降低生产成本，提高了生产效率。
[0046]图13为本实用新型实施例提供的又一种触控显示装置的结构示意图，如图13所示，所述第一触控电极层111为自容式触控电极层，包括呈阵列排布的多个触控电极块117。所述金属衬垫结构112包括金属导线1121和金属衬垫凸台1122。所述金属导线1121直接铺设在所述触控电极块117上表面。每个所述触控电极块117均设置有一条所述金属导线1121作为触控电极线，用于传输触控信号。
[0047]优选的，设置上述各实施例中所述金属衬垫凸台1122在所述第一基板所在平面的正投影与所述数据线和所述扫描线绝缘的交叉区域在所述第一基板所在平面的正投影交叠。由于所述数据线和所述扫描线绝缘的交叉区域一般为不透光区，因此可以充分利用不透光区设置金属衬垫凸台1122，避免因设置金属衬垫凸台1122降低像素的开口率，提高触控显示装置的透光率。
[0048]需要说明的是，上述各实施例所述的触控显示装置可以是液晶触控显示装置，还可以是有机发光二极管OLED触控显示装置。当所述触控显示装置为液晶触控显示装置时，所述液晶触控显示装置的第一基板和第二基板之间灌装有液晶层，优选的设置所述第一触控电极层复用为所述液晶触控显示装置的公共电极层。该优选方式一方面可以进一步减小触控显示装置的厚度，并且所述第一触控电极层与公共电极层复用，在制作过程中只需一次刻蚀工艺，无需对所述第一触控电极层与公共电极层分别制作掩膜板，减少了制程数量，降低了成本提高了生产效率。
[0049]当所述触控显示装置为有机发光二极管OLED触控显示装置时，所述第一触控电极层可以复用为所述有机发光二极管OLED触控显示装置的阴极或者阳极。
[0050]当所述第二基板为彩膜基板时，优选的在所述第二基板中设置黑矩阵，且设置所述金属衬垫结构在所述第一基板所在平面的正投影位于所述第二基板的黑矩阵在所述第一基板所在平面的正投影内。利用所述黑矩阵遮盖所述金属衬垫结构，不会对触控显示装置的开口率产生影响，也不会影响其光线透过率。
[0051 ]可选的，所述金属衬垫结构的厚度范围可以设置为300-500nm。上述优选厚度范围可以避免金属衬垫结构厚度过小不足以显著降低所述第一触控电极层的电阻问题，还可以避免金属衬垫结构厚度过大导致整个触控显示装置的厚度增加的问题。
[0052]图14为本实用新型实施例提供的一种液晶触控显示装置的结构示意图，如图14所示，所述液晶触控显示装置包括:相对设置的第一基板11和第二基板12;其中，所述第二基板12朝向所述第一基板11的一侧设置有多个第一间隔物13和多个第二间隔物14，所述第一间隔物13的高度Hl与所述第二间隔物14的高度H2相同;所述第一基板11包括第一触控电极层111以及与所述第一触控电极层111电连接的多个金属衬垫结构112。所述第一间隔物13在所述第一基板11所在平面的正投影与所述金属衬垫结构112在所述第一基板11所在平面的正投影交叠，所述第二间隔物14在所述第一基板11所在平面的正投影与所述金属衬垫结构112在所述第一基板11所在平面的正投影不交叠。所述第二基板12为彩膜基板，所述第一基板11为阵列基板，所述阵列基板还包括像素电极层118和多个用于驱动像素单元的薄膜晶体管119。所述像素电极层118与第一触控电极层111之间设置有绝缘层。所述金属衬垫结构112直接铺设于所述第一触控电极层111的下表面。所述第二基板12设置有黑矩阵20，优选的设置所述金属衬垫结构112在所述第一基板11所在平面的正投影位于所述第二基板12的黑矩阵20在所述第一基板11所在平面的正投影内。本实施例优选的设置所述第一触控电极层111复用为公共电极层。显示阶段，所述第一触控电极层111和所述像素电极层118之间形成电场驱动液晶偏转，完成图像显示。触控阶段，所述第一触控电极层111和地之间形成电容，用于检测触控位置。
[0053]图15为本实用新型实施例提供的一种有机发光二极管OLED触控显示装置的结构示意图，如图15所示，所述有机发光二极管OLE