专利名称：用于板式pecvd设备手动下料的工作台的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及PECVD设备辅助工装技术领域，特别是一种用于板式PECVD设备手动下料的工作台。
技术背景·普通的用于硅片镀氮化硅膜工艺的板式PECVD设备在下料时，可以用吸笔吸取硅片正面，由于所镀的氮化硅膜致密性和厚度都较好，不容易留下吸笔印，且不会影响工艺效率。但是，在进行膜厚较薄的其他镀膜工艺时，吸笔会在硅片正面留下吸笔印，且会对电池片效率有O. 1%的降低。如果不采用吸笔上下料，操作人员的手又不能接触硅片正面，将无法下料，会影响产量。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种用于板式PECVD设备手动下料的工作台，方便在硅片镀膜后进行下料。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是一种用于板式PECVD设备手动下料的工作台，具有一个工作台面，在工作台面上设置有将装载在石墨框中的硅片托起的凸出工作台面的托块和对石墨框进行定位的限位件，限位件位于托块设置区域外围，托块的数量与PECVD设备的石墨框的载片开口数量相同，排放位置与石墨框的载片开口一一对应。托块为石英材质的罩体，限位件为特氟龙材质的条状限位件，限位件设置在托块设置区域外围的三个方向。本实用新型的有益效果是提高了下料速度，避免采用吸笔下料时吸笔印对硅太阳能电池效率的影响。
以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图；图中，1.工作台面，2.托块，3.限位件。
具体实施方式
一种用于板式PECVD设备手动下料的工作台，具有一个工作台面I，在工作台面I上设置有将装载在石墨框中的硅片托起的托块2和对石墨框的边缘进行定位的限位件3，托块2的高度大于石墨框的高度，限位件3位于托块2设置区域外围，托块2的数量与PECVD设备的石墨框的载片开口数量相同，排放位置与石墨框的载片开口一一对应。托块2为石英材质的罩体，限位件3为特氟龙材质的条状限位件，限位件3设置在托块2设置区域外围的三个方向。如
图1所示，工作台面I是一块长宽各为120cm的普通工作台面上，在工作台面I上安装3个特氟龙材质的条状限位件3，25个石英材质的托块2，25个石英材质的托块2的排列方式为5排5列，限位件3的尺寸为60X3X6 (长X宽X高，单位cm)，托块2的尺寸为80X75X45 (长X宽X高，单位cm)，图中的虚线标注了石墨框的边缘外形。使用方法如下把载满硅片的石墨框放到该工作台的工作台面I 上，石墨框的前边缘和两侧边缘顶在特氟龙材质的条状限位件3上，进行定位；由于托块2的高度超过石墨框的高度，所以硅片会被托块2托起，此时操作人员可以夹着硅片边缘，完成下料。
权利要求1.一种用于板式PECVD设备手动下料的工作台，其特征是具有一个工作台面(1)，在工作台面(I)上设置有将装载在石墨框中的硅片托起的凸出工作台面(I)的托块(2)和对石墨框的边缘进行定位的限位件(3)，限位件(3)位于托块(2)设置区域外围，所述的托块(2)的数量与PECVD设备的石墨框的载片开口数量相同，排放位置与石墨框的载片开口--对应。
2.根据权利要求1所述的用于板式PECVD设备手动下料的工作台，其特征是所述的托块(2)为石英材质的罩体，限位件(3)为特氟龙材质的条状限位件，限位件(3)设置在托块(2)设 置区域外围的三个方向。
专利摘要本实用新型涉及一种用于板式PECVD设备手动下料的工作台，具有一个工作台面，在工作台面上设置有将装载在石墨框中的硅片托起的凸出工作台面的托块和对石墨框进行定位的限位件，限位件位于托块设置区域外围，托块的数量与PECVD设备的石墨框的载片开口数量相同，排放位置与石墨框的载片开口一一对应。本实用新型的有益效果是提高了下料速度，避免采用吸笔下料时吸笔印对硅太阳能电池效率的影响。
文档编号C23C16/44GK202830163SQ20122040731
公开日2013年3月27日 申请日期2012年8月16日 优先权日2012年8月16日
发明者肖扬鑫 申请人:常州天合光能有限公司