技术总结
根据本公开，提供一种用于处理柔性基板的设备。此设备包括处理腔室、涂布滚筒(110)、一个或更多个沉积源以及快门装置(200)，所述涂布滚筒在处理腔室内并配置成支撑柔性基板，所述一个或更多个沉积源布置在处理腔室中，所述快门装置设置在处理腔室内并配置成在涂布滚筒与一个或更多个沉积源之间移动屏蔽箔(300)。
技术研发人员：F·里斯;A·索尔;N·莫里森;T·斯托利
受保护的技术使用者：应用材料公司
文档号码：201480077770
技术研发日：2014.04.04
技术公布日：2016.11.30