一种类金属片状粉末的制作方法

文档序号:12572923阅读:792来源:国知局

本发明涉及一种类金属片状粉末,该类金属片状粉末与片状金属粉末外观类似,在保证效果的前提下,有效降低成本。



背景技术:

片状金属粉末,如片状铝粉、铜粉、纯银粉等,往往具有独特的外观效果,这些效果决定了片状金属粉末在对外观装饰有需求的领域具有广泛的应用,如塑料、油漆、涂料、颜料等领域。但片状金属粉末因为密度较大导致漂浮性不足,遮盖效果一般,这意味着更多的添加量以及较高的成本;片状金属粉末的制备过程存在着较严重的环境污染,甚至可能引发事故(譬如铝粉制备)。故寻求一种能够在外观上代替片状金属粉末且成本较低、环境友好的材料是一项必要且有发展前景的工作。

磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料,且具有易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤的效果。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束提高等离子体密度以增加溅射率。由于磁控溅射中轰击基材的电子能量较低,故往往可以得到表面平整度更佳的镀膜。本发明中即通过磁控溅射技术在片状粉体表面镀膜制备替代片状粉末尤其是片状金属粉末的粉体。



技术实现要素:

本发明涉及一种基于磁控溅射技术制备的类金属片状粉末。该类金属片状粉末可以有效代替片状金属粉末,并且具有遮盖性好、成本低、环境友好等诸多优点。

该发明的类金属片状粉末膜层平整,具有良好的色泽及镜面效果,能够在塑料、油漆、涂料、颜料等领域代替片状金属粉末;另外镀膜片状粉体金属含量少,密度较小,漂浮性佳,故相对片状金属粉末具有较小的用量及较低的成本;相对于传统片状金属粉末的制备方法(如干式球磨、湿式球磨、振动球磨等),通过磁控溅射技术制备的镀膜片状镀膜粉末明显更加环保,并且降低了发生生产事故的几率;由于制备的片状粉末材料表面具有可导电的膜层,故其亦具有一定的导 电性,可以作为导电填料使用。

具体制备流程为:

(1)选用15%-30%的乙醇溶液浸泡片状粉末,待片状粉体出现沉底现象后通超声波10-30分钟,之后抽滤除去乙醇溶液,用蒸馏水清洗三次;

(2)将经过步骤(1)清洗的片状粉末在120℃的条件下烘干3小时;

(3)将经过步骤(2)烘干的片状粉体投入磁控溅射设备,得到镀有膜层的片状粉体。

其中,步骤(1)所述的片状粉末包括片状云母粉、片状氧化铝粉、片状珠光粉等。所述片状粉体粒径范围为50目-600目。

步骤(3)所述的膜层种类包括单层膜,如Al、Cu、Ag、Cr、Ti、Zn、In、Sn、TiN、TiO2、Al2O3、AlN等,也可以是复合镀层膜,譬如Ti-TiO2、Ti-TiN、Al-Al2O3、Al-Cu、Cr-Al、Cr-Cu、Cr-Ag等。

所述膜层厚度为20nm~80mm。

具体实施方式:

实施例1

选取60目的片状云母粉,首先用20%乙醇溶液浸泡片状云母粉,待片状云母粉出现沉底现象后通超声波10分钟,之后抽滤去除乙醇溶液并用蒸馏水清洗三次,120℃下烘干3小时,然后将云母粉加入磁控溅射设备进行镀膜,靶材选用铝靶,溅射气体选用99.999%的高纯氩气,镀膜完成后可得镀铝片状云母粉,膜层厚度为1mm。

实施例2

选取550目的片状云母粉,首先用15%乙醇溶液浸泡片状云母粉,待片状云母粉出现沉底现象后通超声波25分钟,之后抽滤去除乙醇溶液并用蒸馏水清洗三次,120℃下烘干3小时,然后将云母粉加入磁控溅射设备进行镀膜,靶材选用银靶,溅射气体选用99.999%的高纯氩气,镀膜完成后可得镀银片状云母粉,膜层厚度为50nm。

实施例3

选取350目的片状氧化铝粉,首先用25%乙醇溶液浸泡片状氧化铝粉,待片状氧化铝粉出现沉底现象后通超声波15分钟,之后抽滤去除乙醇溶液并用蒸馏 水清洗三次,120℃下烘干3小时,然后将片状氧化铝粉加入磁控溅射设备进行镀膜,靶材选用钛靶,溅射气体选用99.999%的高纯氩气,反应气体选用99.999%高纯氧气,镀膜完成后可得镀有二氧化钛的片状氧化铝粉,膜层厚度为500nm。

实施例4

选取260目的珠光粉,首先用18%乙醇溶液浸泡珠光粉,待珠光粉出现沉底现象后通超声波20分钟,之后抽滤去除乙醇溶液并用蒸馏水清洗三次,120℃下烘干3小时,然后将珠光粉加入磁控溅射设备进行镀膜,靶材选用钛靶,第一步溅射复合镀层的内层(结合层),溅射气体选用99.999%的高纯氩气,第二步溅射复合镀层的外层(功能层),溅射气体为99.999%高纯氩气,反应气体为99.999%高纯氮气,镀膜完成后可得复合镀Ti(内)-TiN(外)珠光粉,膜层厚度为5mm。

实施例5

选取400目的片状云母粉,首先用15%乙醇溶液浸泡片状云母粉,待片状云母粉出现沉底现象后通超声波20分钟,之后抽滤去除乙醇溶液并用蒸馏水清洗三次,120℃下烘干3小时,然后将云母粉加入磁控溅射设备进行镀膜,复合镀层内层(结合层)镀膜选用铬靶,溅射气体为99.999%高纯氩气,复合镀层外层(功能层)选用铜靶,溅射气体为99.999%高纯氩气,镀膜完成后可得复合镀Cr(内)-Cu(外)片状云母粉,膜层厚度为20mm。

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