技术总结
本实用新型属于抛光技术领域，涉及一种平动抛光机，它包括第一导轨及可沿该第一导轨往返滑行并受该第一导轨约束的第一平台、第二导轨及可沿该第二导轨往返滑行并受该第二导轨约束的第二平台、含有散粒状磨料的研磨抛光介质及盛装该研磨抛光介质的容器。与现有技术相比，本产品的最大特色在于采用导轨约束和可控电机的驱动方式来调控工件的抛光行为，同时结合自由散粒状磨料特有的研磨性质，籍此获得工件全局可控的研磨轨迹、研磨速度和研磨压力，不仅能够全局抛光异形工件的复杂表面，而且能够保证抛光质量的一致性；此外，抛光全程少用甚至弃用电解或化学的抛光手段，由此减少乃至避免了抛光作业对环境造成的电化学污染。
技术研发人员：王天雷;耿爱农;李辛沫;朱飞;张京玲
受保护的技术使用者：五邑大学
文档号码：201620474659
技术研发日：2016.05.20
技术公布日：2016.11.30