一种纳米离化表面金属复合膜层智能化设备的制作方法

本实用新型涉及一种镀膜设备，特别涉及一种纳米离化表面金属复合膜层智能化设备，属于镀膜设备领域。

背景技术：

镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层镀膜则可对多种色光起作用。多层镀膜通常采用不同的材料重复地在透镜表面镀上不同厚度的膜层。多层镀膜可大大提高镜头的透光率，例如，未经镀膜的透镜每个表面的反射率为5％，单层镀膜后降至2％，而多层镀膜可降至0.2％，这样，可大大减少镜头各透镜间的漫反射，从而提高影像的反差和明锐度。但是现有的镀膜设备，在对金属表面、塑料制品、陶瓷、玻璃、制品喷涂表面进行镀膜时，不够环保、高效，生产成本高。因此我们需要一种纳米离化表面金属复合膜层智能化设备。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题是克服现有的镀膜设备，在对金属表面、塑料制品、陶瓷、玻璃、制品喷涂表面进行镀膜时，不够环保、高效，生产成本高的缺陷，提供一种纳米离化表面金属复合膜层智能化设备，从而解决上述问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：

本实用新型一种纳米离化表面金属复合膜层智能化设备，包括镀膜真空腔体、电控柜、过渡真空腔体和料架台，所述料架台上设置有所述镀膜真空腔体和所述过渡真空腔体，所述镀膜真空腔体和所述过渡真空腔体内均设置有精抽泵、增压泵、机械泵、维持泵、数显复合真空计、进水管、出水管、进气管和出气管，所述镀膜真空腔体和所述过渡真空腔体外表面均设置有伺服电机、观察窗和加强筋，所述过渡真空腔体外表面上设置有离子源电源、混气仪和水分离器，所述过渡真空腔体和所述镀膜真空腔体的内底部设置有驱动轮组和加热管道，所述驱动轮组上设置有工件架，所述工件架上设置有若干挂杆轴，所述加热管道内设置有热电偶，所述过渡真空腔体内设置有离子源清洗器，所述离子源清洗器上设置有质量流量控制器和高真空截止阀，所述镀膜真空腔体上设置有若干电弧电源和磁控溅射中频电源，所述镀膜真空腔体的两侧均设置有靶座门，所述靶座门上设置有若干圆柱旋转磁控溅射靶和电弧离子靶，所述电控柜内设置有控制面板和PID控制器，所述控制面板内设置有过载保护器和PLC控制器，所述控制面板上设置有触摸显示屏和操作键盘，所述电控柜的顶端设置有警报器，所述PID控制器上设置有温度控制器和固态继电器。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述过渡真空腔体通过大型真空插板阀与所述镀膜真空腔体真空连接，用于镀膜真空腔体和过渡真空腔体真空连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述伺服电机上设置有变频器，用于对伺服电机的无级调速。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述精抽泵上设置有精抽阀和水冷冷阱，用于控制精抽泵的工作状态。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述出气管的出气口处设置有电动节流阀，可实现任何角度定向开关。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述过渡真空腔体的一端设置有自动平移真空门，自动平移真空门可自动开关，所述镀膜真空腔体的一端设置有常闭门，常闭门用作设备检修和后期设备增加腔体用。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该种纳米离化表面复合膜层智能化设备，通过设置的电动节流阀，可自由角度调节的工艺节流阀，可随工艺需求设定任意的工作角度进行调节室体真空度，传动输入采用蜗轮蜗杆电机驱动，传动精度高，误差小。通过设置的离子源清洗器，在工件真空镀膜前用高能量电离子进行轰击清洗，提高基材与膜层的附着力。通过设置的驱动轮组和工件架，保证工件镀膜均匀，工件从过渡腔体进出，镀膜腔体连续镀膜工作。采用PLC控制，抽真空、镀膜可实现手动、半自动、全自动控制。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型所述过渡真空腔体的表面结构示意图；

图3为本实用新型所述镀膜真空腔体的结构示意图；

图4为本实用新型所述过渡真空腔体的的整体结构示意图；

图5为本实用新型所述靶座门的结构示意图；

图6为本实用新型所述电控柜的结构示意图；

图7为本实用新型所述PID控制器的结构示意图；

图8为本实用新型所述精抽泵的结构示意图；

图中：1、过渡真空腔体；2、大型真空插板阀；3、镀膜真空腔体；4、靶座门；5、料架台；6、自动平移真空门；7、观察窗；8、加强筋；9、电弧离子靶；10、圆柱旋转磁控溅射靶；11、警报器；12、PLC控制器；13、过载保护器；14、控制面板；15、触摸显示屏；16、操作键盘；17、加热管道；18、热电偶；19、PID控制器；20、温度控制器；21、固态继电器；22、数显复合真空计；23、精抽泵；24、增压泵；25、机械泵；26、磁控溅射中频电源；27、电弧电源；28、维持泵；29、工件架；30、挂杆轴；31、离子源电源；32、变频器；33、驱动轮组；34、水分离器；35、混气仪；36、伺服电机；37、进水管；38、出水管；39、进气管；40、出气管；41、离子源清洗器；42、质量流量控制器；43、高真空截止阀；44、精抽阀；45、水冷冷阱；46、电动节流阀；47、电控柜；48、常闭门。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-8，本实用新型公开一种技术方案：一种纳米离化表面金属复合膜层智能化设备，包括镀膜真空腔体3、电控柜47、过渡真空腔体1和料架台5，料架台5上设置有镀膜真空腔体3和过渡真空腔体1，镀膜真空腔体3和过渡真空腔体1内均设置有精抽泵23、增压泵24、机械泵25、维持泵28、数显复合真空计22、进水管37、出水管38、进气管39和出气管40，镀膜真空腔体3和过渡真空腔体1外表面均设置有伺服电机36、观察窗7和加强筋8，过渡真空腔体1外表面上设置有离子源电源31、混气仪35和水分离器34，过渡真空腔体1和镀膜真空腔体3的内底部设置有驱动轮组33和加热管道17，驱动轮组33上设置有工件架29，工件架29上设置有若干挂杆轴30，加热管道17内设置有热电偶18，过渡真空腔体1内设置有离子源清洗器41，离子源清洗器41上设置有质量流量控制器42和高真空截止阀43，镀膜真空腔体3上设置有若干电弧电源27和磁控溅射中频电源26，镀膜真空腔体3的两侧均设置有靶座门4，靶座门4上设置有若干圆柱旋转磁控溅射靶10和电弧离子靶9，电控柜47内设置有控制面板14和PID控制器19，控制面板14内设置有过载保护器13和PLC控制器12，控制面板14上设置有触摸显示屏15和操作键盘16，电控柜47的顶端设置有警报器11，PID控制器19上设置有温度控制器20和固态继电器21。过渡真空腔体1通过大型真空插板阀2与镀膜真空腔体3真空连接，用于镀膜真空腔体和过渡真空腔体1真空连接。伺服电机36上设置有变频器32，用于对伺服电机36的无级调速。精抽泵23上设置有精抽阀44和水冷冷阱45，用于控制精抽泵23的工作状态。出气管40的出气口处设置有电动节流阀46，可实现任何角度定向开关。过渡真空腔体1的一端设置有自动平移真空门6，自动平移真空门6可自动开关，镀膜真空腔体3的一端设置有常闭门48，常闭门48用作设备检修和后期设备增加腔体用。

使用时，通过控制面板14内的PLC控制器12可对伺服电机36、磁控溅射中频电源26、电弧电源27和离子源电源31进行控制，通过设置的驱动轮组33和工件架29，用于悬挂工件，通过设置的离子源清洗器41，在工件真空镀膜前用高能量电离子进行轰击清洗，提高基材与膜层的附着力，通过设置的电弧离子靶9和圆柱旋转磁控溅射靶10进行镀膜处理，电弧离子靶9使用时需将圆柱磁控靶10拆卸下来，在镀膜过程中，工件在镀膜腔体内作直线行走和自转运动，保证工件镀膜均匀，镀膜腔体抽气口配可自由角度调节的电动节流阀46，可随工艺需求设定任意的工作角度进行调节室体真空度，传动输入采用蜗轮蜗杆电机驱动，传动精度高，误差小，通过设置的PID控制器19，可实现对加热管道17的温度控制，通过设置的精抽泵23、增压泵24、机械泵25和维持泵28，可用以制造真空环境。

该种纳米离化表面复合膜层智能化设备，通过设置的电动节流阀，可自由角度调节的工艺节流阀，可随工艺需求设定任意的工作角度进行调节室体真空度，传动输入采用蜗轮蜗杆电机驱动，传动精度高，误差小。通过设置的离子源清洗器，在工件真空镀膜前用高能量电离子进行轰击清洗，提高基材与膜层的附着力。通过设置的驱动轮组和工件架，保证工件镀膜均匀，工件从过渡腔体进出，镀膜腔体连续镀膜工作。采用PLC控制，抽真空、镀膜可实现手动、半自动、全自动控制。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。