坩埚和蒸镀设备的制作方法

本实用新型涉及显示器制备技术领域，特别涉及一种坩埚和蒸镀设备。

背景技术：

目前的有机电激光显示(Organic Light-Emitting Diode，OLED)在制备时，一般采用真空蒸镀技术形成膜层，即利用蒸镀机，在真空环境下，升温加热材料，使材料熔化挥发或者升华，在玻璃基板上沉积一层层有机材料，形成OLED器件。

如图1所示，图1为现有技术中的坩埚在蒸镀时的状态示意图；蒸镀设备一般包括：真空腔室02，位于真空腔室02内的坩埚01、为坩埚01加热的加热装置03、以及位于坩埚口的上方的、位置固定的基板04，在蒸镀有机材料时，通常使用坩埚01来盛放有机材料，然后通过加热装置03来加热坩埚01，使坩埚01里面的有机材料熔融或者升华变成蒸汽，从坩埚01的开口往外扩散，有机材料的蒸汽流向上方运动，沉积在位于坩埚的开口的上方的基板上。因为有机材料蒸汽的分子量大，故蒸汽在移动时移动距离不大，为了确保坩埚01的开口处的蒸汽压稳定，坩埚01的开口通常设置的较小，同时为提高材料的利用率，需要蒸汽的气流有一定的方向性，故需要坩埚的开口有一定的指向性。

由于从坩埚的开口往外，有机材料的蒸汽流的密度在不同的距离上是不一样，而且在与坩埚的开口的指向的不同夹角方向上、蒸汽流的密度也是不同的，这样就会导致基板上沉积的有机薄膜的厚度不均匀，如图2a和2b所示，其中图2a～图2b为基板上沉积的不均匀厚度的膜层的结构示意图。可见，对于蒸镀腔室中固定位置的基板，坩埚的开口与基板距离和指向需要固定，若有变化，坩埚的开口处相同的蒸汽压的蒸汽，到达基板时候的密度会有变化，这样相同 时间内沉积在基板上的膜厚就不同，为此需要测厚仪测量校准之后才能进行准确厚度的镀膜。

但是坩埚的取放频率很高，坩埚的开口的指向在每次取放后会发生变化，为此要频繁地进行厚度测试，这样会浪费时间和蒸镀材料。

技术实现要素：

本实用新型提供了一种坩埚和蒸镀设备，可以使得坩埚在被重复放置的时候坩埚的喷口指向不变，从而可以提高蒸镀设备蒸镀成膜的均匀性。

为达到上述目的，本实用新型提供以下技术方案：

本实用新型提供了一种坩埚，包括：

坩埚埚体，所述坩埚埚体用于存储蒸镀材料，所述坩埚埚体设有开口；

坩埚盖，所述坩埚盖用于盖合所述坩埚埚体的开口，所述坩埚盖上设有与所述坩埚埚体连通的喷口，且所述坩埚盖可绕着所述坩埚埚体的轴线摆动；

定位机构，用于限制所述喷口的朝向以及所述喷口的轴线与标准线之间的夹角不变，所述标准线垂直于所述坩埚埚体的开口上方的基板。

本实用新型提供的坩埚，将坩埚分为坩埚埚体和坩埚盖两个独立的部分，坩埚盖上设有喷口，且坩埚盖可绕着坩埚埚体的轴线摆动，定位机构可以限制喷口的轴线与标准线之间的夹角不变，即当坩埚埚体被放置好后，定位机构会带动坩埚盖绕着坩埚埚体的轴线摆动，调整坩埚盖的位置，使得坩埚盖上的喷口朝向以及喷口轴线与标准线之间的夹角不变。

所以，本实用新型提供的坩埚，可以使得坩埚在被重复放置的时候坩埚的喷口指向不变，从而可以提高蒸镀设备蒸镀成膜的均匀性。

在一些可选的实施方式中，所述定位机构包括：

悬挂于所述坩埚盖朝向所述坩埚埚体的底部的一侧的悬锤，且所述悬锤的悬点位于所述喷口的轴线上。悬锤的重力会牵引坩埚盖摆动，使得喷口的轴线与标准线之间的夹角不变，即当坩埚埚体倾斜放置时，坩埚盖的喷口的轴线也 是垂直于基板的。

在一些可选的实施方式中，所述悬锤为耐高温金属材料的悬锤或合金材料的悬锤。

在一些可选的实施方式中，所述悬锤通过锁链悬挂于所述坩埚盖。

在一些可选的实施方式中，所述锁链为不锈钢材料的锁链或钛材料的锁链或合金材料的锁链。

在一些可选的实施方式中，所述悬锤通过刚性连杆悬挂于所述坩埚盖。

在一些可选的实施方式中，所述悬锤为耐高温磁性金属材料的悬锤或合金材料的悬锤。

在一些可选的实施方式中，上述坩埚还包括：用于容纳所述坩埚埚体的源外壳，所述源外壳与所述坩埚埚体之间设有加热源。

在一些可选的实施方式中，所述定位机构还包括：设置于所述源外壳上的定位磁体，所述定位磁体可以沿着所述源外壳的周向移动。定位磁体的设置可以使得坩埚盖的喷口的轴线和标准线之间的夹角为任意角度，不限于坩埚的喷口的轴线垂直于基板。

在一些可选的实施方式中，所述源外壳的周向设有螺纹，所述定位磁体与所述源外壳螺纹连接。

在一些可选的实施方式中，所述定位磁体为永久性磁铁或电磁铁。

在一些可选的实施方式中，所述坩埚埚体的开口为圆形。

本实用新型还提供了一种蒸镀设备，包括上述任一项所述的坩埚。由于上述坩埚可以使得坩埚在被重复放置的时候坩埚的喷口指向不变，从而可以提高蒸镀设备蒸镀成膜的均匀性。故本实用新型提供的蒸镀设备，具有较好的蒸镀成膜效果，且便于使用。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本实用新型 的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为现有技术中的坩埚在蒸镀时的状态示意图；

图2a～图2b为基板上沉积的不均匀厚度的膜层的结构示意图；

图3为本实用新型提供的坩埚的一种结构示意图；

图4为图3所示的坩埚的一种状态示意图；

图5为本实用新型提供的坩埚的另一种结构示意图；

图6为图5所示的坩埚的一种状态结构示意图；

图7为图6所示的坩埚的A-A向剖面图；

图8为本实用新型提供的坩埚的另一种结构的原理示意图。

图中：

01-坩埚 02-真空腔室

03-加热装置 04-基板

1-坩埚坩体 11-坩埚埚体的轴线

2-坩埚盖 21-喷口

3-定位机构 31-悬锤

32-锁链 33-定位磁体

34-刚性连杆 4-标准线

5-源外壳 51-螺纹

6-基板 7-加热源

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

如图3、图4和图5所示，其中：图3为本实用新型提供的坩埚的一种结 构示意图；图4为图3所示的坩埚的一种状态示意图；图5为本实用新型提供的坩埚的另一种结构示意图；本实用新型提供了一种坩埚，包括：

坩埚埚体1，坩埚埚体1用于存储蒸镀材料，坩埚埚体1设有开口；

坩埚盖2，坩埚盖2用于盖合坩埚埚体1的开口，坩埚盖2上设有与坩埚埚体1连通的喷口21，且坩埚盖2可绕着坩埚埚体的轴线11摆动；

定位机构3，用于限制喷口21的朝向以及喷口21的轴线与标准线4之间的夹角不变，标准线4垂直于坩埚埚体1的开口上方的基板6。

本实用新型提供的坩埚，将坩埚分为坩埚埚体1和坩埚盖2两个独立的部分，坩埚盖2上设有喷口21，且坩埚盖2可绕着坩埚埚体的轴线11摆动，定位机构3可以限制喷口21的朝向以及喷口21的轴线与标准线4之间的夹角不变，即当坩埚埚体1被放置好后，定位机构3会带动坩埚盖2绕着坩埚埚体的轴线11摆动，调整坩埚盖2的位置，使得坩埚盖2上的喷口21的轴线与标准线4之间的夹角不变。

所以，本实用新型提供的坩埚，可以使得坩埚在被重复放置的时候坩埚的喷口21指向不变，从而可以提高蒸镀设备蒸镀成膜的均匀性。

上述定位机构3的具体结构可以有多种，一种可选的实施方式中，如图3和图4所示，定位机构3包括：

悬挂于坩埚盖2朝向坩埚埚体1的底部的一侧的悬锤31，且悬锤31的悬点位于喷口21的轴线上。当坩埚埚体1被放置倾斜时，悬锤31的重力会牵引坩埚盖2摆动，使得喷口21的轴线与标准线4之间的夹角不变，坩埚盖2的喷口21的轴线垂直于基板6。

优选的，上述悬锤31为耐高温金属材料的悬锤31或合金材料的悬锤31。

一种可选的实施方式中，上述悬锤31通过锁链32悬挂于坩埚盖2。

上述锁链32为不锈钢材料的锁链32或钛材料的锁链32或合金材料的锁链32。

另一种可选的实施方式中，如图5所示，悬锤31通过刚性连杆34悬挂于 坩埚盖2。

进一步的，悬锤31为耐高温磁性金属材料的悬锤31或合金材料的悬锤31。

本实用新型提供的坩埚还包括：用于容纳坩埚埚体1的源外壳5，源外壳5与坩埚埚体1之间设有加热源7。

为了使得定位装置可以对坩埚盖2的喷口21在任意指向上定位，如图5、图6以及图8所示，图6为图5所示的坩埚的一种状态结构示意图；图8为本实用新型提供的坩埚的另一种结构的原理示意图。定位机构3还包括：设置于源外壳5上的定位磁体33，定位磁体33可以沿着源外壳5的周向移动。定位磁体33的设置可以使得坩埚盖2的喷口21的轴线和标准线4之间的夹角为任意角度，不限于坩埚的喷口21的轴线垂直于基板6。定位磁体33吸引悬锤31，使得悬锤31停留在吸引力最大的位置处。即无论坩埚被放置时的喷口21的朝向如何，坩埚盖2的喷口21的指向不变，即喷口21的轴线与标准线4之间的夹角不变。

为了便于调节坩埚盖2的喷口21的轴线与标准线4之间的夹角，如图7所示，其中：图7为图6所示的坩埚的A-A向剖面图；图8为本实用新型提供的坩埚的另一种结构的原理示意图。源外壳5的周向设有螺纹51，定位磁体33与源外壳5螺纹51连接。定位磁体33可以设有螺纹，以便于源外壳5的周向设有的螺纹51配合；也可以是设置额外的安装座，安装座上设有螺纹，安装座可以与源外壳5的轴向设有的螺纹51配合，定位磁体33安装在安装座上，通过调节安装座的位置，进而可以调节喷口21的朝向以及喷口21的轴线与标准线4之间的夹角。

可选的，上述定位磁体33可以为永久性磁铁，也可以为电磁铁。

上述坩埚埚体1的具体形状可以有多种，可选的，坩埚埚体1可以为圆形，或者坩埚埚体1的开口为圆形，坩埚盖2为圆形。坩埚盖2合坩埚埚体1的材料可以相同，也可以不同，只要是导热较好的材料即可，如：钛、不锈钢、三氧化铝等。

本实用新型还提供了一种蒸镀设备，包括上述任一项所述的坩埚。由于上述坩埚可以使得坩埚在被重复放置的时候坩埚的喷口指向不变，从而可以提高蒸镀设备蒸镀成膜的均匀性。故本实用新型提供的蒸镀设备，具有较好的蒸镀成膜效果，且便于使用。

显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。