本实用新型涉及光学薄膜技术领域，尤其是一种防污膜镀膜装置。
背景技术：
防污（AS）膜在需要防污、防水和抗刮擦光电产品上的应用日益广泛。同时，镀膜技术的发展也促使对防污膜的镀膜效率和镀膜品质进行不断提升。
目前，液态防污膜料在防污膜的自动化连续式镀膜中使用较多，已有技术方案（“自动化连续式防污膜镀膜装置”，申请号：201410786581.6）通过设置防污膜的预热室、蒸镀室、闸阀、搬运机构，实现防污膜的自动化连续式镀膜。
实际应用中，为了提升镀膜效率，可采用大型的镀膜腔体来实现防污膜的镀膜。在这种大型镀膜腔体内，为了实现膜厚均匀性，就需要在一个镀膜腔室中设置多个防污膜蒸发源。
技术实现要素：
本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足，提供了防污膜镀膜装置，通过蒸发源控制机构联动控制多个蒸发源，实现大型镀膜腔室中多个蒸发源的布置，满足膜厚均匀性的要求。
本实用新型目的实现由以下技术方案完成：
一种防污膜镀膜装置，所述镀膜装置至少包括蒸发源、加液滴嘴和蒸发源控制机构，所述加液滴嘴的开口朝向所述蒸发源，所述蒸发源控制机构连接控制所述蒸发源移动，其特征在于：所述镀膜装置包括至少两个蒸发源，所述蒸发源控制机构联动控制所述蒸发源的移动。
所述蒸发源控制机构至少包括驱动装置及推杆，所述推杆具有一个施力端以及与所述蒸发源的数量相对应的受力端，所述施力端与所述驱动装置相连接，所述受力端与所述蒸发源相连接；所述驱动装置通过所述推杆联动控制至少两个所述蒸发源的移动。
所述驱动装置为无杆气缸，所述蒸发源为坩埚。
本实用新型的优点是：满足了大型镀膜腔体镀膜均匀性的需要，可实现在同一镀膜腔室中设置多个防污膜蒸发源；简化了结构，降低了成本，便于操作及维护。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图通过实施例对本实用新型特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：
如图1所示，图中标记1-13分别表示为：真空镀膜室1、加液腔室2、加液机构3、加液滴嘴4、坩埚5、坩埚加热头6、无杆气缸7、一拖三推杆8、分布腔9、阀门10、分布腔喷口11、排气系统12、基板13。
实施例：如图1所示，本实施例中防污膜镀膜装置包括真空镀膜室1和加液腔室2，两者的内部腔体之间通过阀门10的启闭构成连通或隔断。在真空镀膜室1内设置有基板13，液体膜料通过分布腔9上的若干分布腔喷口11蒸镀在基板13的表面。在真空镀膜室1和加液腔室2的底部都设置有排气系统12，排气系统12用于在镀膜完成后将真空镀膜室1和加液腔室2内的气体排出至外。
如图1所示，本实施例中的加液装置对三个蒸发源进行加液，蒸发源指的是盛放有液体膜料的坩埚5，坩埚5承载在坩埚加热头6上，坩埚加热头6用于对坩埚5进行加热以对其盛放的液体膜料进行预热。
加液装置包括分别与每个坩埚对应的加液机构3和加液滴嘴4，加液机构3通过加液滴嘴4将液体膜料添加至坩埚5的锅体内部。
蒸发源控制机构包括无杆气缸7和一拖三推杆8，一拖三推杆指的是具有一个施力端，三个受力端的推杆，其中施力端与无杆气缸7相连接，而三个受力端分别与三个蒸发源所对应的三个坩埚加热头6构成连接固定，这样一来，在无杆气缸7的驱动下，盛放有液体膜料的坩埚5可随着坩埚加热头6的移动在加液腔室2和真空镀膜室1之间往复移动。
本实施例在具体实施时：蒸发源的数量可根据实际需要进行选择，只需要配备具有与蒸发源数量相对应的受力端的推杆即可。
虽然以上实施例已经参照附图对本实用新型目的的构思和实施例做了详细说明，但本领域普通技术人员可以认识到，在没有脱离权利要求限定范围的前提条件下，仍然可以对本实用新型作出各种改进和变换，如：蒸发源的数量、真空镀膜室1或加液腔室2的具体结构等，故在此不一一赘述。