技术总结
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种真空镀膜机均匀性挡板调整装置。其包括固定基板和调节片，所述固定基板呈半圆弧形，其上设有两组匹配安装孔，在匹配安装孔的上方设有调节刻度，所述调节片设有两组，其上设有与固定基板上的匹配安装孔对应的连接孔，所述调节片通过连接孔和匹配安装孔固定连接到所述固定基板的下表面，所述调节片上和固定基板上均设有以匹配安装孔为圆心的调节孔。本实用新型的优点在于克服镀膜机均匀性调整需要依靠镀膜者经验，同时耗时又精度不高问题。
技术研发人员：杨波;魏清晨
受保护的技术使用者：青岛韬谱光学科技有限公司
文档号码：201621321646
技术研发日：2016.12.05
技术公布日：2017.05.31