本发明涉及反应釜加工领域，具体涉及一种反应釜内壁数控抛光系统。
背景技术：
反应釜广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药、食品，用来完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程的压力容器，反应釜体积差距较大，而且不同反应釜体积不同，因此反应釜的抛光过程较为复杂，且抛光效果不佳。
技术实现要素：
基于背景技术存在的技术问题，本发明提出了一种反应釜内壁数控抛光系统。
本发明提出的一种反应釜内壁数控抛光系统，包括支撑机构、安装柱、移动架、抛光机构和驱动机构；
支撑机构包括基座和转盘，转盘可转动安装在基座上；
安装柱安装在转盘上，安装柱上安装有由下至上延伸的第一导轨和第二导轨，第一导轨和第二导轨位于安装柱相对两侧；
移动架上安装有第一滚轮和第二滚轮，第一滚轮和第二滚轮分别于第一导轨和第二导轨相抵靠；
抛光机构包括安装杆、抛光轮、安装筒和伸缩杆，安装杆第一端可转动连接移动架，抛光轮可转动安装在安装杆第二端，安装筒可转动安装在移动架上，伸缩杆第一端可转动连接安装杆，伸缩杆第二端可移动安装在安装筒内，安装杆第一端转动的轴线、安装筒转动的轴线和伸缩杆第一端转动的轴线相互平行，安装杆第一端转动的轴线垂直于转盘轴线；
驱动机构包括第一驱动装置、第二驱动装置、第三驱动装置和第四驱动装置，第一驱动装置驱动连接第一滚轮和第二滚轮，第二驱动装置驱动连接转盘，第三驱动装置驱动连接抛光轮，第四驱动装置驱动连接伸缩杆，第四驱动装置用于驱动伸缩杆在安装筒上移动。
优选地，还包括控制装置和激光扫描装置，第一驱动装置、第二驱动装置、第三驱动装置和第四驱动装置通信连接控制装置，激光扫描装置用于扫描反应釜内壁位置，控制装置预设有第一抛光速度、第二抛光速度、第一转动速度和第二转动速度；
控制装置通过激光扫描装置获取反应釜内壁位置，并将反应釜内壁沿第一导轨延伸方向划分为多个抛光区，控制装置控制第四驱动装置工作，使抛光轮与反应釜内壁相抵靠，控制装置控制第三驱动装置工作，使抛光轮以第一抛光速度转动，控制装置控制第二驱动装置工作，使转盘以第一转动速度转动，控制装置控制第一驱动装置工作，使抛光轮依次通过抛光区，以完成全部抛光区的抛光；当抛光轮以第一抛光速度完成反应釜内壁抛光后，控制装置控制第四驱动装置工作，使抛光轮与反应釜内壁相抵靠，控制装置控制第三驱动装置工作，使抛光轮以第二抛光速度转动，控制装置控制第二驱动装置工作，使转盘以第二转动速度转动，控制装置控制第一驱动装置工作，使抛光轮依次通过抛光区，以完成全部抛光区的抛光。
优选地，支撑机构还包括多个支撑柱，支撑柱安装在基座上，并沿转盘周向均匀分布；
优选地，支撑机构还包括多个螺杆和多个底盘；
支撑柱上设有内螺纹孔，螺杆与支撑柱一一对应，螺杆通过内螺纹孔安装在支撑柱上，底盘安装在螺杆上，并位于支撑柱下方。
优选地，支撑机构还包括多个螺母，螺母与螺杆一一对应，螺母安装在螺杆上，并位于支撑柱上方。
优选地，还包括移动辅助机构，移动辅助机构包括第一传动轮、第二传动轮、传动链条和第五驱动装置，第一传动轮和第二传动轮分别安装在安装柱的上部和下部，传动链条第一端连接移动架，传动链条第二端由第一传动轮和第二传动轮上绕过，并与移动架连接，第五驱动装置驱动连接第一传动轮。
本发明使用时，将反应釜倒扣在安装柱上，通过伸缩杆移动可以实现安装杆转动，通过安装杆转动可以调节抛光轮位置，通过抛光轮位置的调整可以实现抛光轮抵靠不同大小的反应釜，通过移动架在安装柱进行位置调整，可以实现抛光轮在反应釜轴向上调整抛光位置，通过转盘转动可以实现抛光轮在轴向上调整抛光位置。本发明使用方便，适用范围广，且工作效率高。
附图说明
图1为本发明提出的一种反应釜内壁数控抛光系统结构示意图。
具体实施方式
参照图1所示，本发明提出的一种反应釜内壁数控抛光系统，包括支撑机构、安装柱2、移动架3、抛光机构和驱动机构；
支撑机构包括基座11和转盘12，转盘12可转动安装在基座11上；
安装柱2安装在转盘12上，安装柱2上安装有由下至上延伸的第一导轨21和第二导轨22，第一导轨21和第二导轨22位于安装柱2相对两侧；
移动架3上安装有第一滚轮31和第二滚轮32，第一滚轮31和第二滚轮32分别于第一导轨21和第二导轨22相抵靠；
抛光机构包括安装杆41、抛光轮42、安装筒43和伸缩杆44，安装杆41第一端可转动连接移动架3，抛光轮42可转动安装在安装杆41第二端，安装筒43可转动安装在移动架3上，伸缩杆44第一端可转动连接安装杆41，伸缩杆44第二端可移动安装在安装筒43内，安装杆41第一端转动的轴线、安装筒43转动的轴线和伸缩杆44第一端转动的轴线相互平行，安装杆41第一端转动的轴线垂直于转盘12轴线；
驱动机构包括第一驱动装置、第二驱动装置、第三驱动装置和第四驱动装置，第一驱动装置驱动连接第一滚轮31和第二滚轮32，第二驱动装置驱动连接转盘12，第三驱动装置驱动连接抛光轮42，第四驱动装置驱动连接伸缩杆44，第四驱动装置用于驱动伸缩杆44在安装筒43上移动。
本发明使用时，将反应釜倒扣在安装柱2上，通过伸缩杆44移动可以实现安装杆41转动，通过安装杆41转动可以调节抛光轮42位置，通过抛光轮42位置的调整可以实现抛光轮42抵靠不同大小的反应釜，通过移动架3在安装柱2进行位置调整，可以实现抛光轮42在反应釜轴向上调整抛光位置，通过转盘12转动可以实现抛光轮42在轴向上调整抛光位置。
本实施方式中，还包括控制装置和激光扫描装置，第一驱动装置、第二驱动装置、第三驱动装置和第四驱动装置通信连接控制装置，激光扫描装置用于扫描反应釜内壁位置，控制装置预设有第一抛光速度、第二抛光速度、第一转动速度和第二转动速度；
控制装置通过激光扫描装置获取反应釜内壁位置，并将反应釜内壁沿第一导轨21延伸方向划分为多个抛光区，控制装置控制第四驱动装置工作，使抛光轮42与反应釜内壁相抵靠，控制装置控制第三驱动装置工作，使抛光轮42以第一抛光速度转动，控制装置控制第二驱动装置工作，使转盘12以第一转动速度转动，控制装置控制第一驱动装置工作，使抛光轮42依次通过抛光区，以完成全部抛光区的抛光；当抛光轮42以第一抛光速度完成反应釜内壁抛光后，控制装置控制第四驱动装置工作，使抛光轮42与反应釜内壁相抵靠，控制装置控制第三驱动装置工作，使抛光轮42以第二抛光速度转动，控制装置控制第二驱动装置工作，使转盘12以第二转动速度转动，控制装置控制第一驱动装置工作，使抛光轮42依次通过抛光区，以完成全部抛光区的抛光。
反应釜通过第一次抛光可以去除大量杂质，减少杂质对抛光效果的影响，通过第二次进行抛光完成反应釜加工需求，通过第一转动速度和第二转动速度分别配合第一抛光速度和第二抛光速度，可以有效的控制每个抛光区被抛光的时间，减少反应釜由于抛光导致受损的可能。
本实施方式中，支撑机构还包括多个支撑柱13，支撑柱13安装在基座11上，并沿转盘12周向均匀分布；通过支撑柱13可以减少本发明翻倒的可能。
本实施方式中，支撑机构还包括多个螺杆14和多个底盘15；
支撑柱13上设有内螺纹孔，螺杆14与支撑柱13一一对应，螺杆14通过内螺纹孔安装在支撑柱13上，底盘15安装在螺杆14上，并位于支撑柱13下方，通过转动螺杆14调整底盘15位置，在不同的底面上都可以实现底盘15抵靠底面，进一步提高支撑柱13防止本发明翻倒的可能。
本实施方式中，支撑机构还包括多个螺母16，螺母16与螺杆14一一对应，螺母16安装在螺杆14上，并位于支撑柱13上方，有利于提高螺杆14与支撑柱13配合的稳定性。
本实施方式中，还包括移动辅助机构，移动辅助机构包括第一传动轮、第二传动轮、传动链条51和第五驱动装置，第一传动轮和第二传动轮分别安装在安装柱2的上部和下部，传动链条51第一端连接移动架3，传动链条51第二端由第一传动轮和第二传动轮上绕过，并与移动架3连接，第五驱动装置驱动连接第一传动轮，通过传动链条51带动移动架3，可以提高移动架3移动的稳定性。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。