技术特征：
技术总结
本发明公开了一种研磨机或抛光机的上盘结构，包括机架、上盘升降机构、复数个上磨盘、与上磨盘数量相同的上磨盘驱动机构和与上磨盘数量相同的上磨盘升降机构，上磨盘由独立的上磨盘升降机构驱动。本发明的多个上磨盘可以采用不同的工艺磨盘，不同的工艺磨盘独立升降、独立旋转，可以根据工件加工的不同阶段进行工艺调整，选择所需的研磨或抛光的磨盘进行加工，节省了产品因多工艺加工要求而换机的时间，实现一机多用的要求。
技术研发人员：吴秀凤;范镜;张彦志;李创坚
受保护的技术使用者：深圳赛贝尔自动化设备有限公司
技术研发日：2017.07.20
技术公布日：2017.10.10