技术总结
本实用新型公开了一种升降机构及化学气相沉积装置，所述升降机构用于控制一托盘的上下高度调整，所述托盘位于一带有孔的基板之上，所述升降机构包括穿过所述孔的升降销、位于所述基板下方的升降板、以及在所述升降板下降时，对所述升降销产生一向下拉力的制动装置；采用所述升降机构的化学气相沉积装置。本实用新型提供的升降机构及化学气相沉积装置中在所述升降板下降时，所述升降销结合自由落体运动和所述制动装置的向下的拉力，可以确保所述升降销下降到原理的位置，有效的防止所述升降销和一晶圆托盘发生相互碰撞的风险，有效保护晶圆托盘，提高晶圆良率。
技术研发人员：胡频升;吴海云
受保护的技术使用者：中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
文档号码：201720250121
技术研发日：2017.03.15
技术公布日：2017.12.05