技术特征：
技术总结
提供蚀刻剂组合物、以及使用其制造金属图案和薄膜晶体管基板的方法。所述蚀刻剂组合物包括过硫酸盐、氟化物、基于四个氮的环状化合物、基于一个氮的环状化合物、含硫(S)原子的基于三个氮的环状化合物、和水，和所述蚀刻剂组合物可通过蚀刻包括铜和钛的金属膜而用于制造金属图案，或者可用于制造薄膜晶体管基板。
技术研发人员：郑钟铉;朴弘植;梁熙星;金奎佈;申贤哲;李秉雄;李相赫;李大雨
受保护的技术使用者：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
技术研发日：2018.06.19
技术公布日：2018.12.28